JPS60245780A - 透明導電膜形成用塗布液 - Google Patents
透明導電膜形成用塗布液Info
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- JPS60245780A JPS60245780A JP10018584A JP10018584A JPS60245780A JP S60245780 A JPS60245780 A JP S60245780A JP 10018584 A JP10018584 A JP 10018584A JP 10018584 A JP10018584 A JP 10018584A JP S60245780 A JPS60245780 A JP S60245780A
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Classifications
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、カラス等の基板に塗布し焼成して透明導″１
１／ＩＩを形成する透明導電Ｈり形成用塗布液に関し、
特に基板にディッピング法やスピンナー法により塗布す
るのに適した透明導電膜形成用塗布液に関する。
１／ＩＩを形成する透明導電Ｈり形成用塗布液に関し、
特に基板にディッピング法やスピンナー法により塗布す
るのに適した透明導電膜形成用塗布液に関する。
［従来技術およびその問題点」
カラス、セラミフクス等の基板−にに形成した酸化イン
ジウム、酸化スズ、酸化カドニウムなとからなる酸化物
被膜は透明で良好な導電性を示すことが知られており、
液晶表示素子、半導体素子などの電極として使用された
り、窓カラスなとの結露防止用電極として使用されてい
る。
ジウム、酸化スズ、酸化カドニウムなとからなる酸化物
被膜は透明で良好な導電性を示すことが知られており、
液晶表示素子、半導体素子などの電極として使用された
り、窓カラスなとの結露防止用電極として使用されてい
る。
このような透明導電ＩＱの形成方法としては、真空蒸着
法、スクリーン印刷法なとが知られている。しかし、真
空基若法では特殊な設備を要し、パンチ式なので量産に
適さない欠点がある。スクリーン印刷法ではかかる問題
がなく、印刷焼成によりエンチングを施すことなくＩ」
内形状のものを１１）ることかできるか、比校的広い面
積の部分に印刷塗！１１するには作業性が悪い欠点かあ
る。
法、スクリーン印刷法なとが知られている。しかし、真
空基若法では特殊な設備を要し、パンチ式なので量産に
適さない欠点がある。スクリーン印刷法ではかかる問題
がなく、印刷焼成によりエンチングを施すことなくＩ」
内形状のものを１１）ることかできるか、比校的広い面
積の部分に印刷塗！１１するには作業性が悪い欠点かあ
る。
そこで、比鮫的広い面積を有する部分に作業性良く透明
導電膜を形成する手段としてディッピング法なとか考え
られる。この場合には、インジウムや醇化スズなどを含
む有機金属化合物と、有機バインダーと、低沸点溶媒と
からなる透明導電膜形成用塗布液がディンピング液とし
て使用される。
導電膜を形成する手段としてディッピング法なとか考え
られる。この場合には、インジウムや醇化スズなどを含
む有機金属化合物と、有機バインダーと、低沸点溶媒と
からなる透明導電膜形成用塗布液がディンピング液とし
て使用される。
かかるディンピング液においては、液の安定性かあるこ
と、基板に付着して均一な１１りを形成すること、か＠
要である。液の安定性について述べると、従来、インジ
ウムや醇化スズなどを含む有機金属化合物としては、例
えばＭ（ＯＲ）ｎ （Ｍは金属、（ＯＲ）ｎはアルコキ
シス０で示されるような加水分解性の化合物が使用され
ていた。しかし、これをディンピング液の成分とすると
、有機金属化合物が空気中の水分と反応して加水分解し
、金属水酸化物が粒子となって白濁現象が生しる。した
がつて、作業を例えば５０％以下の湿度条件で行なわな
ければならず、また、液の保管寿命か短い（０，５ケ月
程爪）という問題点があった。また、基板に付着して均
一な膜を形成するためには、適度な揮発性を有すること
、および、適度な粘性を有することか心霊である。揮発
性が少ないと例えばディ・ソピングして基板を引き」二
げたときに乾きが足りずｌり厚にむらが生しやすくなり
、揮発性が高すぎると塗布作業中に液が揮発してやはり
膜厚にむらか生しることになる。また、粘度が高すぎて
も付着力か強くなりすぎるので膜厚にむらが生しやすく
なり、粘度が低すぎる場合は伺着力が弱いため充分な膜
厚が得られない。
と、基板に付着して均一な１１りを形成すること、か＠
要である。液の安定性について述べると、従来、インジ
ウムや醇化スズなどを含む有機金属化合物としては、例
えばＭ（ＯＲ）ｎ （Ｍは金属、（ＯＲ）ｎはアルコキ
シス０で示されるような加水分解性の化合物が使用され
ていた。しかし、これをディンピング液の成分とすると
、有機金属化合物が空気中の水分と反応して加水分解し
、金属水酸化物が粒子となって白濁現象が生しる。した
がつて、作業を例えば５０％以下の湿度条件で行なわな
ければならず、また、液の保管寿命か短い（０，５ケ月
程爪）という問題点があった。また、基板に付着して均
一な膜を形成するためには、適度な揮発性を有すること
、および、適度な粘性を有することか心霊である。揮発
性が少ないと例えばディ・ソピングして基板を引き」二
げたときに乾きが足りずｌり厚にむらが生しやすくなり
、揮発性が高すぎると塗布作業中に液が揮発してやはり
膜厚にむらか生しることになる。また、粘度が高すぎて
も付着力か強くなりすぎるので膜厚にむらが生しやすく
なり、粘度が低すぎる場合は伺着力が弱いため充分な膜
厚が得られない。
「発明の目的」
本発明の１」的は、安定性、適度な揮発性および粘度を
有する、ティッピング法なとに適した透明４ｉ１ｉ Ｉ
Ｉり形成用塗布液を提供することにある。
有する、ティッピング法なとに適した透明４ｉ１ｉ Ｉ
Ｉり形成用塗布液を提供することにある。
［発明の構成」
本発明の透明導電膜形成用塗布液は、インジウムとスス
とを含む非加水分解性の有機金属化合物３〜８重量％、
有機バインダー１〜４千量％、矧１点１００’ｃ以上の
高沸点溶媒０．１〜５．０市屡％、残部か王としてｄ＋
点１００℃未満の低沸点溶媒からなっている。
とを含む非加水分解性の有機金属化合物３〜８重量％、
有機バインダー１〜４千量％、矧１点１００’ｃ以上の
高沸点溶媒０．１〜５．０市屡％、残部か王としてｄ＋
点１００℃未満の低沸点溶媒からなっている。
インジウムとスズとを含む非加水分解性の有機金属化合
物としては、例えばトリスアセチルアセトナートインジ
ウム セトナートジブチルススＳｎＢｕ２ （ａｃａｃ）２か
挙げられる。この場合、スズ成分は有機金属化合物中７
、５〜１５１１１７ｊ−％が適当である。有機金属化合
物の含有ｆｊｆは３〜８重ニー％とされ、３重量％未満
では導′屯性が充分に得られず、８重量％を超えると有
機金属化合物を溶媒に充分溶解させることかできなくな
る。
物としては、例えばトリスアセチルアセトナートインジ
ウム セトナートジブチルススＳｎＢｕ２ （ａｃａｃ）２か
挙げられる。この場合、スズ成分は有機金属化合物中７
、５〜１５１１１７ｊ−％が適当である。有機金属化合
物の含有ｆｊｆは３〜８重ニー％とされ、３重量％未満
では導′屯性が充分に得られず、８重量％を超えると有
機金属化合物を溶媒に充分溶解させることかできなくな
る。
有機バインダーとしては、例えばニトロセルロース、エ
チルセルロース、ヘンシルセルロースなとのセルロース
化合物が使用できる。有機バインダーの含有１１は１〜
４重量％とされ、１重量％未満では液の基板への付着性
が充分に得られず、４気量％を超えると付着力が強くな
りすぎてＩり厚のむらが生しやすくなる。
チルセルロース、ヘンシルセルロースなとのセルロース
化合物が使用できる。有機バインダーの含有１１は１〜
４重量％とされ、１重量％未満では液の基板への付着性
が充分に得られず、４気量％を超えると付着力が強くな
りすぎてＩり厚のむらが生しやすくなる。
高沸点溶媒としては、訓点１００°Ｃ以」−、好ましく
は沸点１５０〜２５０°Ｃのものが使用される。高沸点
溶媒は、透明導電膜形成用塗布液の揮発性をコントロー
ルするために添加されるもので、沸点１００°Ｃ未満で
は揮発性を効果的に調整しにくくなる。また、添加量は
０．１〜５．０重量％、好ましくは２〜３重量％であり
、添加ψが０．１重ｊ１％未満では揮発性を下げる効果
が少なく、５．０重量％を超えると揮発性が低くなりす
きて膜厚にむらが生しやすくなる。かかる高沸点溶媒と
しては、例えばペンシルアルコール、ジプロピレングリ
コールなとの高沸点アルコール類、ペンシルアセテート
、カルヒトールアセテートなとの高沸点エステル類、ブ
チルセロソルブなどの高沸点エーテル類等が使用できる
。これらの高沸点溶媒は２挿具」−用いてもよい。
は沸点１５０〜２５０°Ｃのものが使用される。高沸点
溶媒は、透明導電膜形成用塗布液の揮発性をコントロー
ルするために添加されるもので、沸点１００°Ｃ未満で
は揮発性を効果的に調整しにくくなる。また、添加量は
０．１〜５．０重量％、好ましくは２〜３重量％であり
、添加ψが０．１重ｊ１％未満では揮発性を下げる効果
が少なく、５．０重量％を超えると揮発性が低くなりす
きて膜厚にむらが生しやすくなる。かかる高沸点溶媒と
しては、例えばペンシルアルコール、ジプロピレングリ
コールなとの高沸点アルコール類、ペンシルアセテート
、カルヒトールアセテートなとの高沸点エステル類、ブ
チルセロソルブなどの高沸点エーテル類等が使用できる
。これらの高沸点溶媒は２挿具」−用いてもよい。
低沸点溶媒としては、沸点１００°Ｃ未満、好ましくは
沸点５０°Ｃ以上かつ１００°Ｃ未満のものが使用され
る。沸点が５０°Ｃ未満では揮発が早すぎて１１り厚に
むらが生じやすく、＋ｏｏ’ｃ以」二では基板をディッ
ピングして引き上げたときに乾さか足りず、やはり１（
り厚にむらが生してしまう。また、低沸点溶媒の粘度は
５〜１０Ｑｃｐが好ましい。粘度が５ｃｐ未満では基板
への液の付着性が低下し、１（１’０ｃｌ）を超えると
液のイ４看性が強くなりすぎる傾向がある。かかる低沸
点溶媒としては、アルコール系、ケトン系、エステル系
、芳香族系などの種々の溶媒が使用できるが、例えばメ
チルエチルケトンなどが好適である。低佛点溶１）Ｘは
、有機金属化合物、有機バインターおよび低沸点溶媒を
除いた残りの主たる成分をなす。
沸点５０°Ｃ以上かつ１００°Ｃ未満のものが使用され
る。沸点が５０°Ｃ未満では揮発が早すぎて１１り厚に
むらが生じやすく、＋ｏｏ’ｃ以」二では基板をディッ
ピングして引き上げたときに乾さか足りず、やはり１（
り厚にむらが生してしまう。また、低沸点溶媒の粘度は
５〜１０Ｑｃｐが好ましい。粘度が５ｃｐ未満では基板
への液の付着性が低下し、１（１’０ｃｌ）を超えると
液のイ４看性が強くなりすぎる傾向がある。かかる低沸
点溶媒としては、アルコール系、ケトン系、エステル系
、芳香族系などの種々の溶媒が使用できるが、例えばメ
チルエチルケトンなどが好適である。低佛点溶１）Ｘは
、有機金属化合物、有機バインターおよび低沸点溶媒を
除いた残りの主たる成分をなす。
なお、本発明シこおいては、この他に酸化防１１−剤な
とのｂ１１１成分を添加してもよい。
とのｂ１１１成分を添加してもよい。
本発明の透明導電膜形成用塗布液は、例えばディンピン
グ法、スピンナー法、スプレー法などによって基板にＱ
、布される。その際、有機金属化合物は加水分解されな
いので、湿度、条件は特に限定されず、液は比較的長い
保存寿命を有する。また、高沸（ヱ溶媒の添加量を上記
の範囲で調整することによって揮発性をコントロールす
ることができるので、基板に塗布した後、適度な速度で
揮発させ、均一な１１１厚を形成することができる。さ
らに、低沸点溶媒が揮発した後、金属成分がある程度残
存する溶媒に溶けている状態を保つことができるので、
均質な被膜を形成することができる。
グ法、スピンナー法、スプレー法などによって基板にＱ
、布される。その際、有機金属化合物は加水分解されな
いので、湿度、条件は特に限定されず、液は比較的長い
保存寿命を有する。また、高沸（ヱ溶媒の添加量を上記
の範囲で調整することによって揮発性をコントロールす
ることができるので、基板に塗布した後、適度な速度で
揮発させ、均一な１１１厚を形成することができる。さ
らに、低沸点溶媒が揮発した後、金属成分がある程度残
存する溶媒に溶けている状態を保つことができるので、
均質な被膜を形成することができる。
そして、液か塗布された基板を常温乾燥（低沸点溶媒の
揮発温度より低い温度で乾燥）することにより、低沸点
溶媒を揮発させ、有機金属化合物と有機７へインダーと
からなる膜を形成することかできる。こうして低沸点溶
媒を揮発させた後、４００〜６００°Ｃで焼成すること
により透ＩＪ’ｌ導電膜を形成することかできる。こう
して得られた透明導電膜は、均一な１１り厚を有し、従
来の組成の透明導電膜形成用液を用いて形成したものよ
り比較的低い抵抗値を示す。このように本発明により低
抵抗の透明導電膜が得られる理由はよく分からないが、
本発明においては有機金属化合物として非加水分解性の
ものを使用したことに関係があると思われる。
揮発温度より低い温度で乾燥）することにより、低沸点
溶媒を揮発させ、有機金属化合物と有機７へインダーと
からなる膜を形成することかできる。こうして低沸点溶
媒を揮発させた後、４００〜６００°Ｃで焼成すること
により透ＩＪ’ｌ導電膜を形成することかできる。こう
して得られた透明導電膜は、均一な１１り厚を有し、従
来の組成の透明導電膜形成用液を用いて形成したものよ
り比較的低い抵抗値を示す。このように本発明により低
抵抗の透明導電膜が得られる理由はよく分からないが、
本発明においては有機金属化合物として非加水分解性の
ものを使用したことに関係があると思われる。
「発明の実施例」
トリスアセチルアセトナートインジウム８７．５重量％
、ヒスアセチルアセトナートジブチルスズ１２５！Ｔｒ
都％からなる有機金属化合物５．５重量％、ニトロセル
ロース２．５重惧％、ベンジルアルコール２．０重部％
、メチルエチルケトン９０．０重量％からなる透明導電
膜形成用塗布液を作成した。
、ヒスアセチルアセトナートジブチルスズ１２５！Ｔｒ
都％からなる有機金属化合物５．５重量％、ニトロセル
ロース２．５重惧％、ベンジルアルコール２．０重部％
、メチルエチルケトン９０．０重量％からなる透明導電
膜形成用塗布液を作成した。
この液にカラス基板を浸漬し、２００ｎ＋ｍ＃＋ｉｎの
スピードで引き上げた後、５０℃で２０分間乾燥し、さ
らに５００°Ｃで３０分間焼成して透明導電膜の被膜を
形成した。
スピードで引き上げた後、５０℃で２０分間乾燥し、さ
らに５００°Ｃで３０分間焼成して透明導電膜の被膜を
形成した。
この透明導電膜の被膜は厚さ４００ル、シート抵抗ＩＫ
Ω／口であり、厚ざのむらのない、良好なものであった
。
Ω／口であり、厚ざのむらのない、良好なものであった
。
また、上記透明導電膜形成用塗布液は、常温にて３ケ月
保存しても白濁が生ぜず、良好な保存寿命を示した。
保存しても白濁が生ぜず、良好な保存寿命を示した。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、インジウムとス
ズとを含む有機金属化合物として非加水分解性のものを
使用したので、液の安定性を向」―させ、保存寿命を投
くすることができる。また、高沸点溶媒を微量添加する
ことにより揮発性を適度に調整することができるので、
ディッピング等により塗布した際、むらのない均一な膜
厚とすることかできる。さらに、焼成して得られた透明
導電膜は比較的低い抵抗値を示す。
ズとを含む有機金属化合物として非加水分解性のものを
使用したので、液の安定性を向」―させ、保存寿命を投
くすることができる。また、高沸点溶媒を微量添加する
ことにより揮発性を適度に調整することができるので、
ディッピング等により塗布した際、むらのない均一な膜
厚とすることかできる。さらに、焼成して得られた透明
導電膜は比較的低い抵抗値を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）基板に塗布し焼成して透明導電膜を形成する透明
導Ｔｉ、膜形成用塗布液において、インジウムとススと
を含む非加水分解性の有機金属化合物３〜８毛量％、有
機バインダー１〜４重量％、沸点＋ｏｏ’ｃ以才、の高
沸点溶媒０．１〜５．０重量％、残部か−Ｆとして線点
］００’Ｃ未満の低綿点溶媒からなることを特徴とする
透明導電膜形成用塗布液。 （２、特許請求の範囲第１項において、前記有機金属化
合物はトリスアセチルアセトナートインジウムとヒスア
セチルアセトナートジブチルススとからなる透明導電膜
形成用塗布液。 （３）特許請求の範囲第１項または第２項において、醋
記高伽点溶媒はペンシルアルコール、ジプロピレングリ
コール、ヘンシルアセテート、カルヒトールアセテート
およびプチルセロンルブから選ばれた１種ないし２種以
上である透明導電膜形成用塗布液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018584A JPS60245780A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 透明導電膜形成用塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018584A JPS60245780A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 透明導電膜形成用塗布液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60245780A true JPS60245780A (ja) | 1985-12-05 |
Family
ID=14267245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10018584A Pending JPS60245780A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 透明導電膜形成用塗布液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60245780A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009053688A1 (de) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Ferro Gmbh | Siebdruckfähige Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen und transparenten Schicht |
| JP2017031497A (ja) * | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 小林 博 | 部品ないしは基材に互いに異なる複数の性質を付与する表面の改質 |
-
1984
- 1984-05-18 JP JP10018584A patent/JPS60245780A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009053688A1 (de) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Ferro Gmbh | Siebdruckfähige Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen und transparenten Schicht |
| JP2017031497A (ja) * | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 小林 博 | 部品ないしは基材に互いに異なる複数の性質を付与する表面の改質 |
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