JPS60247821A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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Publication number
JPS60247821A
JPS60247821A JP10429784A JP10429784A JPS60247821A JP S60247821 A JPS60247821 A JP S60247821A JP 10429784 A JP10429784 A JP 10429784A JP 10429784 A JP10429784 A JP 10429784A JP S60247821 A JPS60247821 A JP S60247821A
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JP
Japan
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corrosion resistance
metal
magnetic recording
recording medium
film
Prior art date
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Application number
JP10429784A
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English (en)
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JPH0253842B2 (ja
Inventor
Soichi Matsuzaki
松崎　壮一
Minoru Osada
実 長田
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Condenser Co Ltd filed Critical Hitachi Condenser Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は薄膜型の磁気記録媒体に関するものである。
（従来の技術） 磁気テープや磁気ディスク等の磁気記録媒体として、従
来は塗布型が主流であったが、最近は強磁性金属を真空
蒸着法等により基体に付着して強磁性金属薄膜を形成し
た薄膜型のものが用いられるようになってきた。
ところで、薄膜型の磁気記録媒体は、強磁性金属Ｗ＃膜
と基体との密着性が低いために容易に剥離し易く、また
、耐腐食性が低い欠点があった。
（目的） 本発明は、以上の欠点を改良し、密着性や耐腐食性の良
好な磁気記録媒体の提供を目的とするものである。
（問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記の目的を達成するために、基体に強磁性
金属薄膜を設けた磁気記録媒体において、基体と強磁性
金属薄膜との間に高耐腐食性の金属が分散されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。
（作用〉 すなわち、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィ
ルム等を基体として用い、この基体の表面に、Ｔ；やＶ
、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｐｄ。
Ｗ、Ｐｔ　、Ｃｕ　、Ｍｏ等の高耐腐食性金属を真空蒸
着法やイオンブレーティング法、スパッタリング法によ
り分散して付着する。高耐腐食性金属を基体に分散して
付着させた後、Ｆｅや（：ｏ、Ｎｉあるいはこれ等の合
金からなる強磁性金属を真空蒸着法等により付着し、強
磁性金属薄膜を形成する。
従って、分散された高耐腐食性金属の作用により強磁性
金属薄膜と基体との密着性が向上するとともに、耐腐食
性が向上する。
なお、ＴｉやＶ等の高耐腐食性金属を分散させずに基体
に一面に付着させると内部応力やＸ７ング率が大きいた
めに、その表面に梢Ｈされた強磁性金属薄膜に亀裂を発
生させる原因となるので、高耐腐食性金属は分散させて
基体に付着させる必要がある。
また、高耐腐食性金属の高さは１０Ａ〜１００Ａの範囲
が好ましく、１ｏ入より低いと密着性等に対する効果が
低く、１００′Ａを越えると強磁性金属薄膜に対して亀
裂を発生し易くなる。
（実施例） 以下、本発明の実施例について説明する。
第１図において、１は、基体であり、厚さ１２μのポリ
エチレンテレフタレートフィルムからなる。２は、Ｃｒ
からなる高耐腐食性の金属であり、基体１の表面にイオ
ンブレーティング法により分散して付着されている。３
は、強磁性金属薄膜であり、Ｃｏ：Ｎ１＝８：２の合金
を真空蒸着法により基体１に付着して１０００大の厚さ
に形成されている。、４は、保護層であり、強磁性金属
薄膜３表面にステアリン酸を塗布して形成されている。
上記の実施例と従来例及び比較例について耐腐食性と亀
裂の発生とについて測定したところ表１及び表２の通り
の結果が得られた。従来例は本発明実施例において金属
２の分散を除いたもので。
比較例はＣｒを分散せずに、厚さ３００人に基体１に一
面に付着して下地層としたものである。各表１．腐食の
発生　族２．亀裂の発生 試料のｔＪ３１ｍ雰囲気は温度６０℃、相対湿度９０％
とする。腐食の発生及び亀裂の発生については目視によ
り観測した。表１から明らかな通り、本発明は３００日
後においても腐食が発生しないのに対して従来例は発生
している。また、表２によれば、Ｃｒ等の高耐腐食性の
金属を一面に付着して下地とすると３００日後に強磁性
台ｆｉ薄膜に亀裂が生じ好ましくないことがわかる。
なお、上記の本発明実施例において、Ｏｒの高さを変え
た場合と、Ｃｒの代りにＴｉを付着しその高さを変えた
場合の、放置後３００日以内に強磁性金属簿膜に腐食の
発生する確率と亀裂の発生する確率とを第２図のグラフ
に示した。このグラフから明らかな通り、Ｃｒの場合（
Ａ）もＴｉの場合（Ｂ）も高さは、１０〜１００Ａの範
囲外では、腐食と亀裂の発生率が急激に上昇するため、
１０〜１００Ａの範囲内が好ましい。
以上の通り、本発明によれば、Ｃｒ等の高耐腐食性の金
属を下地として分散させることにより密着性が良くて耐
腐食性に優れ亀裂の発生を防止し易い磁気記録媒体が得
られる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施例の断面図、第２図は本発明の実
施例の腐食と亀裂の発生率のグラフを示す。 １・・・基体、　２・・・高耐腐食性金属、３・・・強
磁性金属ｓ４天。 特許出願人　日立コンデンサ株式会社

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）　基体に強磁性金ＷＩ＆薄膜を設置プ７ｅ　！ｉ
    磁気記録媒体おいて、基体と強磁性金属薄膜との間に高
    耐腐食性の金属が分散されていることを特徴とする磁気
    記録媒体。
  2. （２）　高耐腐食性の金属がＴｔ　、Ｖ、Ｃｒ　、Ｚｒ
    　。 ｔ−１ｆ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｗ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏのうちの
    少なくとも一種類である特許請求の範囲第１項記載の磁
    気記録媒体。
  3. （３）高耐腐食性の金属の平均高さが１０Ａ〜１００人
    である特許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒体。
JP10429784A 1984-05-23 1984-05-23 磁気記録媒体 Granted JPS60247821A (ja)

Priority Applications (1)

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JP10429784A JPS60247821A (ja) 1984-05-23 1984-05-23 磁気記録媒体

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10429784A JPS60247821A (ja) 1984-05-23 1984-05-23 磁気記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60247821A true JPS60247821A (ja) 1985-12-07
JPH0253842B2 JPH0253842B2 (ja) 1990-11-20

Family

ID=14376985

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10429784A Granted JPS60247821A (ja) 1984-05-23 1984-05-23 磁気記録媒体

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JP (1) JPS60247821A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6361411A (ja) * 1986-09-01 1988-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6361411A (ja) * 1986-09-01 1988-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体

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Publication number Publication date
JPH0253842B2 (ja) 1990-11-20

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