JPH0480448B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0480448B2 JPH0480448B2 JP56175315A JP17531581A JPH0480448B2 JP H0480448 B2 JPH0480448 B2 JP H0480448B2 JP 56175315 A JP56175315 A JP 56175315A JP 17531581 A JP17531581 A JP 17531581A JP H0480448 B2 JPH0480448 B2 JP H0480448B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma treatment
- polyester base
- recording medium
- metal thin
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
この発明は、ポリエステルフイルムを基体とし
て使用する磁気記録媒体およびその製造方法に関
し、その目的とするところはポリエステルベース
フイルムと強磁性金属薄膜層との接着性に優れた
磁気記録媒体を提供することにある。 磁気記録媒体は、ポリエステルフイルムなどの
基体上に、コバルトなどの磁性金属を真空蒸着し
たりしてつくられている。 ところが、基体として一般に汎用されているポ
リエステルフイルムは結晶性が高く表面に不純物
および塵埃等が付着しているため強磁性金属薄膜
層との接着性が弱く、使用中に強磁性金属薄膜層
が剥離するおそれがある。これを解消するため従
来からポリエステルベースフイルムと強磁性金属
薄膜層との間に下塗り層を設けるなどして接着性
の改善が試みられているが未だ充分に満足できる
結果は得られていない。 この発明者らはかかる現状に鑑み種々検討を行
なつた結果、ポリエステルベースフイルムの表面
に120ｍＡ・sec／cm2以下の印加電流で水との接触
角が50度以下となるまでプラズマ処理を施こす
と、ポリエステルベースフイルムの表面に付着し
た不純物や塵埃等が充分に除去されるとともにポ
リエステルベースフイルムの表面が適度にエツチ
ングされ、その結果この上に強磁性金属薄膜層を
直接または下地層を介して形成すると強磁性金属
薄膜層とポリエステルベースフイルムとの接着性
が充分に向上されることを見いだし、この発明を
なすに至つた。 この発明において、ポリエステルベースフイル
ム表面のプラズマ処理は、真空槽内で、酸素ガ
ス、アルゴンガス、ヘリウムガス、ネオンガスま
たは窒素ガス雰囲気下に行なわれ、プラズマ処理
に当つて使用するガスとしてはこれらのガスがい
ずれも好適に使用され、いずれのガスを使用する
場合もポリエステルベースフイルムの表面に活性
基を生成して強磁性金属薄膜層との接着性が良好
になるが、特に酸素ガスはポリエステルベースフ
イルムの表面に活性基を生成しやすく、強磁性金
属薄膜層との接着性をより良好にするのでより好
適なものとして使用される。これらのガスの真空
槽内におけるガス圧は、１×10-3トールより低く
するとプラズマが発生せず、１トールより高くす
ると放電し、安定なプラズマが得られない。この
ため１×10-3〜１トールの範囲内にするのが好ま
しい。 このようなガス雰囲気下におけるこの発明のプ
ラズマ処理は、印加電流を120ｍＡ・sec／cm2以下
とし、ポリエステルベースフイルムの表面の水と
の接触角が50度以下となるまで行なうのが好まし
く、印加電流を120ｍＡ・sec／cm2より大きくする
とポリエステルベースフイルムの表面が過度にエ
ツチングされてかえつて強磁性金属薄膜層とポリ
エステルベースフイルムとの接着性が低下する。
またポリエステルベースフイルム表面の水との接
触角、即ち、ポリエステルベースフイルム上の直
径１〜３mmの水滴をモニターテレビに拡大し、前
進接触角θaと後退接触角θrを測定して下記の式 cosθ＝（cosθa＋cosθr）／２ から求めたθの値は付着した不純物や塵埃等がプ
ラズマ処理により除去されるに従つて小さくな
り、接触角が50度より大きい間は不純物や塵埃等
の除去が充分ではないが接触角が50度以下になる
までプラズマ処理が行なわれると不純物や塵埃等
がポリエステルベースフイルム表面から充分に除
去される。従つてポリエステルベースフイルムの
表面に120ｍＡ・sec／cm2引下の印加電流で水との
接触角が50度引下となるまでプラズマ処理が施こ
されると、ポリエステルベースフイルムの表面に
付着した不純物や塵埃等が充分に除去され、ポリ
エステルベースフイルムの表面に活性基が生成し
て活性化されるとともに、ポリエステルベースフ
イルムの表面が適度にエツチングされ、この上に
直接あるいは下地層を介して形成される強磁性金
属薄膜層との接着性が充分に向上される。 このようにプラズマ処理が施こされたポリエス
テルベースフイルムの表面に形成される強磁性金
属薄膜層は、鉄、コバルト、ニツケル等の磁性金
属またはそれらの合金を真空蒸着、イオンプレー
テイング、スパツタリング等の手段によつてポリ
エステルベースフイルムの表面に被着して形成さ
れる。また下地層は、アルミニウム、銅、チタ
ン、クロムなどの金属を真空蒸着、イオンプレー
テイング、スパツタリング等の手段によつてポリ
エステルベースフイルムの表面に被着して形成さ
れ、このような下地層を介して強磁性金属薄膜層
が形成されると、プラズマ処理されたポリエステ
ルベースフイルムと下地層との接着性が改善され
るため下地層を介して形成された強磁性金属薄膜
層とポリエステルベースフイルムの接着性も充分
に向上される。 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １ 第１図に示すように、真空槽１内に基板２と上
下一対のリング状の交流電極３および４とを両電
極間に基板２が位置するように配設し、かつ下部
にＷボート５を配設してなる装置を使用し、基板
２の下面にポリエステルベースフイルム６をセツ
トして真空槽下底に配設した排気系７で真空槽１
内を10-7トールになるまで真空排気した。次い
で、真空槽１の側壁に取りつけたガス導入管８か
ら酸素ガスを真空槽１内に導入して真空槽１内の
酸素ガス圧を0.03トールとし、交流電源９により
約500Vの電圧で交流電極３および４に0.3ｍＡ／
cm2の電流を印加して時間を種々に変えてプラズマ
処理を施こした。第２図のグラフＡはこのように
して酸素ガス存在下でプラズマ処理を施こして得
られた多数のポリエステルベースフイルムの水と
の接触角とプラズマ処理時間との関係を表わした
ものである。 次に、真空槽１内のＷボート５上にコバルト１
０をセツトし、排気系７で真空槽１内を10-7トー
ルになるまで真空排気した。次いでガス導入管８
から酸素ガスを真空槽１内に導入して真空槽１内
の酸素ガス圧を１×10-5トールとした後Ｗボート
５を加熱してコバルト１０を蒸発させ、前記のプ
ラズマ処理して得られた多数のポリエステルベー
スフイルム６の下面にコバルトを真空蒸着して
0.1μ厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形
成した。次にこれを所定の巾に裁断して磁気テー
プをつくつた。 このようにして得られた多数の磁気テープにつ
いて接着力を測定した。接着力の測定は、磁気テ
ープのポリエステルベースフイルム側をステンレ
ス鋼板にエポキシ樹脂で接着固定し、強磁性金属
薄膜層側を引き剥がし用腕杆にエポキシ樹脂で接
着してこの引き剥がし用腕杆の引張力で強磁性金
属薄膜層を引き剥がし、強磁性金属薄膜層が引き
剥がされるときの引張力を測定して行なつた。第
２図のグラフＢはこのようにして得られた多数の
磁気テープの接着力とプラズマ処理時間との関係
を表わしたものである。 実施例 ２ 実施例１におけるプラズマ処理において、電圧
を約500Vから700Vに代え、酸素ガス圧を0.01ト
ールとし、印加電流を0.3ｍＡ／cm2から0.1ｍＡ／
cm2に代えた以外は実施例１と同様にしてプラズマ
処理を行ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テー
プをつくつた。第３図のグラフＡはこのようなプ
ラズマ処理を施こして得られた多数のポリエステ
ルベースフイルムの水との接触角とプラズマ処理
時間との関係を表わしたものであり、グラフＢは
さらに真空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テ
ープの接着力とプラズマ処理時間との関係を表わ
したものである。 実施例 ３ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し
た以外は実施例１と同様にしてプラズマ処理を行
ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープをつく
つた。第４図のグラフＡはこのようなプラズマ処
理を施こして得られた多数のポリエステルベース
フイルムの水との接触角とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものであり、グラフＢはさらに真
空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたもの
である。 実施例 ４ 実施例２におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し
た以外は実施例２と同様にしてプラズマ処理を行
ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープをつく
つた。第５図のグラフＡはこのようなプラズマ処
理を施こして得られた多数のポリエステルベース
フイルムの水との接触角とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものであり、グラフＢはさらに真
空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたもの
である。 以上のようにして得られた第２図乃至第５図の
グラフＡおよびグラフＢから明らかなように、い
ずれの場合においてもプラズマ処理時間が経過す
ると接触角が急激に低下し、接触角が50度以下で
は接着力が充分に良好になつており、このことか
ら接触角が50度以下になるまでプラズマ処理を行
なえばポリエステルベースフイルムと強磁性金属
薄膜層との接着性が充分に向上されることがわか
る。 実施例 ５ 実施例１において電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の
電流を15秒間印加してプラズマ処理したポリエス
テルベースフイルムを使用し、これを真空蒸着す
る前に、真空槽１内のＷボート５上にアルミニウ
ムをセツトし、排気系７で真空槽１内を真空排気
した後ボート５を加熱しアルミニウムを蒸発させ
てポリエステルベースフイルム６の下面にアルミ
ニウムからなる0.02μ厚の下地層を形成した。次
いで実施例１と同様にして真空蒸着を行ない0.1μ
厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成
し、これを所定の巾に裁断して磁気テープをつく
つた。 実施例 ６ 実施例５におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用
し、電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の電流を30秒間印
加した以外は実施例５と同様にしてプラズマ処理
を行ない、更にアルミニウムからなる下地層を形
成した後真空蒸着を行なつて磁気テープをつくつ
た。 実施例 ７ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてヘリウムガスを同じガス圧で使用
し、電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の電流を30秒間印
加した以外は実施例１と同様にしてプラズマ処理
を行ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープを
つくつた。 比較例 実施例１において、プラズマ処理を省いた以外
は実施例１と同様にして真空蒸着を行ない、0.1μ
厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成し
た後、所定の巾に裁断して磁気テープをつくつ
た。 実施例５乃至７においてプラズマ処理されたポ
リエステルベースフイルムの水との接触角を測定
し、また比較例で使用したポリエステルベースフ
イルムの水との接触角を測定して、実施例１で15
秒間プラズマ処理して得られたポリエステルベー
スフイルムおよび実施例２乃至４で30秒間プラズ
マ処理して得られたポリエステルベースフイルム
の水との接触角と比較した。また実施例５乃至７
で得られた磁気テープおよび比較例で得られた磁
気テープについて実施例１と同じ方法で接着力を
測定し、実施例１で15秒間プラズマ処理しさらに
真空蒸着して得られた磁気テープおよび実施例２
乃至４で30秒間プラズマ処理しさらに真空蒸着し
て得られた磁気テープの接着力と比較した。 下表はその結果である。
て使用する磁気記録媒体およびその製造方法に関
し、その目的とするところはポリエステルベース
フイルムと強磁性金属薄膜層との接着性に優れた
磁気記録媒体を提供することにある。 磁気記録媒体は、ポリエステルフイルムなどの
基体上に、コバルトなどの磁性金属を真空蒸着し
たりしてつくられている。 ところが、基体として一般に汎用されているポ
リエステルフイルムは結晶性が高く表面に不純物
および塵埃等が付着しているため強磁性金属薄膜
層との接着性が弱く、使用中に強磁性金属薄膜層
が剥離するおそれがある。これを解消するため従
来からポリエステルベースフイルムと強磁性金属
薄膜層との間に下塗り層を設けるなどして接着性
の改善が試みられているが未だ充分に満足できる
結果は得られていない。 この発明者らはかかる現状に鑑み種々検討を行
なつた結果、ポリエステルベースフイルムの表面
に120ｍＡ・sec／cm2以下の印加電流で水との接触
角が50度以下となるまでプラズマ処理を施こす
と、ポリエステルベースフイルムの表面に付着し
た不純物や塵埃等が充分に除去されるとともにポ
リエステルベースフイルムの表面が適度にエツチ
ングされ、その結果この上に強磁性金属薄膜層を
直接または下地層を介して形成すると強磁性金属
薄膜層とポリエステルベースフイルムとの接着性
が充分に向上されることを見いだし、この発明を
なすに至つた。 この発明において、ポリエステルベースフイル
ム表面のプラズマ処理は、真空槽内で、酸素ガ
ス、アルゴンガス、ヘリウムガス、ネオンガスま
たは窒素ガス雰囲気下に行なわれ、プラズマ処理
に当つて使用するガスとしてはこれらのガスがい
ずれも好適に使用され、いずれのガスを使用する
場合もポリエステルベースフイルムの表面に活性
基を生成して強磁性金属薄膜層との接着性が良好
になるが、特に酸素ガスはポリエステルベースフ
イルムの表面に活性基を生成しやすく、強磁性金
属薄膜層との接着性をより良好にするのでより好
適なものとして使用される。これらのガスの真空
槽内におけるガス圧は、１×10-3トールより低く
するとプラズマが発生せず、１トールより高くす
ると放電し、安定なプラズマが得られない。この
ため１×10-3〜１トールの範囲内にするのが好ま
しい。 このようなガス雰囲気下におけるこの発明のプ
ラズマ処理は、印加電流を120ｍＡ・sec／cm2以下
とし、ポリエステルベースフイルムの表面の水と
の接触角が50度以下となるまで行なうのが好まし
く、印加電流を120ｍＡ・sec／cm2より大きくする
とポリエステルベースフイルムの表面が過度にエ
ツチングされてかえつて強磁性金属薄膜層とポリ
エステルベースフイルムとの接着性が低下する。
またポリエステルベースフイルム表面の水との接
触角、即ち、ポリエステルベースフイルム上の直
径１〜３mmの水滴をモニターテレビに拡大し、前
進接触角θaと後退接触角θrを測定して下記の式 cosθ＝（cosθa＋cosθr）／２ から求めたθの値は付着した不純物や塵埃等がプ
ラズマ処理により除去されるに従つて小さくな
り、接触角が50度より大きい間は不純物や塵埃等
の除去が充分ではないが接触角が50度以下になる
までプラズマ処理が行なわれると不純物や塵埃等
がポリエステルベースフイルム表面から充分に除
去される。従つてポリエステルベースフイルムの
表面に120ｍＡ・sec／cm2引下の印加電流で水との
接触角が50度引下となるまでプラズマ処理が施こ
されると、ポリエステルベースフイルムの表面に
付着した不純物や塵埃等が充分に除去され、ポリ
エステルベースフイルムの表面に活性基が生成し
て活性化されるとともに、ポリエステルベースフ
イルムの表面が適度にエツチングされ、この上に
直接あるいは下地層を介して形成される強磁性金
属薄膜層との接着性が充分に向上される。 このようにプラズマ処理が施こされたポリエス
テルベースフイルムの表面に形成される強磁性金
属薄膜層は、鉄、コバルト、ニツケル等の磁性金
属またはそれらの合金を真空蒸着、イオンプレー
テイング、スパツタリング等の手段によつてポリ
エステルベースフイルムの表面に被着して形成さ
れる。また下地層は、アルミニウム、銅、チタ
ン、クロムなどの金属を真空蒸着、イオンプレー
テイング、スパツタリング等の手段によつてポリ
エステルベースフイルムの表面に被着して形成さ
れ、このような下地層を介して強磁性金属薄膜層
が形成されると、プラズマ処理されたポリエステ
ルベースフイルムと下地層との接着性が改善され
るため下地層を介して形成された強磁性金属薄膜
層とポリエステルベースフイルムの接着性も充分
に向上される。 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １ 第１図に示すように、真空槽１内に基板２と上
下一対のリング状の交流電極３および４とを両電
極間に基板２が位置するように配設し、かつ下部
にＷボート５を配設してなる装置を使用し、基板
２の下面にポリエステルベースフイルム６をセツ
トして真空槽下底に配設した排気系７で真空槽１
内を10-7トールになるまで真空排気した。次い
で、真空槽１の側壁に取りつけたガス導入管８か
ら酸素ガスを真空槽１内に導入して真空槽１内の
酸素ガス圧を0.03トールとし、交流電源９により
約500Vの電圧で交流電極３および４に0.3ｍＡ／
cm2の電流を印加して時間を種々に変えてプラズマ
処理を施こした。第２図のグラフＡはこのように
して酸素ガス存在下でプラズマ処理を施こして得
られた多数のポリエステルベースフイルムの水と
の接触角とプラズマ処理時間との関係を表わした
ものである。 次に、真空槽１内のＷボート５上にコバルト１
０をセツトし、排気系７で真空槽１内を10-7トー
ルになるまで真空排気した。次いでガス導入管８
から酸素ガスを真空槽１内に導入して真空槽１内
の酸素ガス圧を１×10-5トールとした後Ｗボート
５を加熱してコバルト１０を蒸発させ、前記のプ
ラズマ処理して得られた多数のポリエステルベー
スフイルム６の下面にコバルトを真空蒸着して
0.1μ厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形
成した。次にこれを所定の巾に裁断して磁気テー
プをつくつた。 このようにして得られた多数の磁気テープにつ
いて接着力を測定した。接着力の測定は、磁気テ
ープのポリエステルベースフイルム側をステンレ
ス鋼板にエポキシ樹脂で接着固定し、強磁性金属
薄膜層側を引き剥がし用腕杆にエポキシ樹脂で接
着してこの引き剥がし用腕杆の引張力で強磁性金
属薄膜層を引き剥がし、強磁性金属薄膜層が引き
剥がされるときの引張力を測定して行なつた。第
２図のグラフＢはこのようにして得られた多数の
磁気テープの接着力とプラズマ処理時間との関係
を表わしたものである。 実施例 ２ 実施例１におけるプラズマ処理において、電圧
を約500Vから700Vに代え、酸素ガス圧を0.01ト
ールとし、印加電流を0.3ｍＡ／cm2から0.1ｍＡ／
cm2に代えた以外は実施例１と同様にしてプラズマ
処理を行ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テー
プをつくつた。第３図のグラフＡはこのようなプ
ラズマ処理を施こして得られた多数のポリエステ
ルベースフイルムの水との接触角とプラズマ処理
時間との関係を表わしたものであり、グラフＢは
さらに真空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テ
ープの接着力とプラズマ処理時間との関係を表わ
したものである。 実施例 ３ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し
た以外は実施例１と同様にしてプラズマ処理を行
ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープをつく
つた。第４図のグラフＡはこのようなプラズマ処
理を施こして得られた多数のポリエステルベース
フイルムの水との接触角とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものであり、グラフＢはさらに真
空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたもの
である。 実施例 ４ 実施例２におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用し
た以外は実施例２と同様にしてプラズマ処理を行
ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープをつく
つた。第５図のグラフＡはこのようなプラズマ処
理を施こして得られた多数のポリエステルベース
フイルムの水との接触角とプラズマ処理時間との
関係を表わしたものであり、グラフＢはさらに真
空蒸着を行なつて得られた多数の磁気テープの接
着力とプラズマ処理時間との関係を表わしたもの
である。 以上のようにして得られた第２図乃至第５図の
グラフＡおよびグラフＢから明らかなように、い
ずれの場合においてもプラズマ処理時間が経過す
ると接触角が急激に低下し、接触角が50度以下で
は接着力が充分に良好になつており、このことか
ら接触角が50度以下になるまでプラズマ処理を行
なえばポリエステルベースフイルムと強磁性金属
薄膜層との接着性が充分に向上されることがわか
る。 実施例 ５ 実施例１において電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の
電流を15秒間印加してプラズマ処理したポリエス
テルベースフイルムを使用し、これを真空蒸着す
る前に、真空槽１内のＷボート５上にアルミニウ
ムをセツトし、排気系７で真空槽１内を真空排気
した後ボート５を加熱しアルミニウムを蒸発させ
てポリエステルベースフイルム６の下面にアルミ
ニウムからなる0.02μ厚の下地層を形成した。次
いで実施例１と同様にして真空蒸着を行ない0.1μ
厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成
し、これを所定の巾に裁断して磁気テープをつく
つた。 実施例 ６ 実施例５におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてアルゴンガスを同じガス圧で使用
し、電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の電流を30秒間印
加した以外は実施例５と同様にしてプラズマ処理
を行ない、更にアルミニウムからなる下地層を形
成した後真空蒸着を行なつて磁気テープをつくつ
た。 実施例 ７ 実施例１におけるプラズマ処理において、酸素
ガスに代えてヘリウムガスを同じガス圧で使用
し、電圧約500Vで0.3ｍＡ／cm2の電流を30秒間印
加した以外は実施例１と同様にしてプラズマ処理
を行ない、更に真空蒸着を行なつて磁気テープを
つくつた。 比較例 実施例１において、プラズマ処理を省いた以外
は実施例１と同様にして真空蒸着を行ない、0.1μ
厚のコバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成し
た後、所定の巾に裁断して磁気テープをつくつ
た。 実施例５乃至７においてプラズマ処理されたポ
リエステルベースフイルムの水との接触角を測定
し、また比較例で使用したポリエステルベースフ
イルムの水との接触角を測定して、実施例１で15
秒間プラズマ処理して得られたポリエステルベー
スフイルムおよび実施例２乃至４で30秒間プラズ
マ処理して得られたポリエステルベースフイルム
の水との接触角と比較した。また実施例５乃至７
で得られた磁気テープおよび比較例で得られた磁
気テープについて実施例１と同じ方法で接着力を
測定し、実施例１で15秒間プラズマ処理しさらに
真空蒸着して得られた磁気テープおよび実施例２
乃至４で30秒間プラズマ処理しさらに真空蒸着し
て得られた磁気テープの接着力と比較した。 下表はその結果である。
【表】
上表から明らかなように、この発明で得られた
磁気テープ（実施例１〜７）は従来の磁気テープ
（比較例）に比し、いずれも接触角が50度以下で
小さく、又接着力が大きく、このことからこの発
明によつて得られる磁気記録媒体はポリエステル
ベースフイルムと強磁性金属薄膜層との接着性が
一段と向上されていることがわかる。
磁気テープ（実施例１〜７）は従来の磁気テープ
（比較例）に比し、いずれも接触角が50度以下で
小さく、又接着力が大きく、このことからこの発
明によつて得られる磁気記録媒体はポリエステル
ベースフイルムと強磁性金属薄膜層との接着性が
一段と向上されていることがわかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために
使用する装置の一実施例を示す概略断面図、第２
図乃至第５図は実施例１乃至４で得られたポリエ
ステルベースフイルムおよび磁気テープの接触角
および接着力とプラズマ処理時間との関係図であ
る。 １……真空槽、３，４……交流電極、５……Ｗ
ボート、６……ポリエステルベースフイルム。
使用する装置の一実施例を示す概略断面図、第２
図乃至第５図は実施例１乃至４で得られたポリエ
ステルベースフイルムおよび磁気テープの接触角
および接着力とプラズマ処理時間との関係図であ
る。 １……真空槽、３，４……交流電極、５……Ｗ
ボート、６……ポリエステルベースフイルム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プラズマ処理により表面を清浄化し活性化す
るとともに適度にエツチングして乾燥状態での水
との接触角を50度以下にしたポリエステルベース
フイルム上に、真空成膜法で強磁性金属薄膜層を
直接あるいは下地層を介して形成してなる磁気記
録媒体。 ２ 乾燥状態での水との接触角が33〜50度のポリ
エステルベースフイルムを使用する特許請求の範
囲第１項記載の磁気記録媒体。 ３ 強磁性金属薄膜層が鉄、コバルト、ニツケル
等の金属またはこれらの合金からなる強磁性金属
薄膜層である特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録媒体。 ４ アルミニウム、銅、チタン、クロムから選ば
れる金属からなる下地層を介してポリエステルベ
ースフイルム上に、真空成膜法で強磁性金属薄膜
層を形成した特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録媒体。 ５ ポリエステルベースフイルムの表面を120ｍ
Ａ・sec／cm2以下の印加電流で乾燥状態での水と
の接触角が50度以下となるまでプラズマ処理し、
この上に強磁性金属薄膜層を直接あるいは下地層
を介して形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 ６ プラズマ処理が真空槽内で酸素ガス、アルゴ
ンガス、ヘリウムガス、ネオンガス、窒素ガスの
少なくとも１種を含むガス雰囲気下で行われる特
許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒体の製造方
法。 ７ プラズマ処理が１×10-3〜１トールの真空度
で行われる特許請求の範囲第５項記載の磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175315A JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175315A JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877030A JPS5877030A (ja) | 1983-05-10 |
| JPH0480448B2 true JPH0480448B2 (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=15993939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175315A Granted JPS5877030A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877030A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59223932A (ja) * | 1983-06-02 | 1984-12-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4575475A (en) * | 1983-07-12 | 1986-03-11 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPS60119635A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-27 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0687300B2 (ja) * | 1984-08-02 | 1994-11-02 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録方法 |
| JPH0610856B2 (ja) * | 1984-08-04 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0778865B2 (ja) * | 1984-10-15 | 1995-08-23 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS61156519A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| GB2168911B (en) * | 1984-12-29 | 1989-06-07 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JP2002128926A (ja) * | 2000-08-15 | 2002-05-09 | Learonal Japan Inc | 樹脂複合材料およびその形成方法 |
| WO2002046281A1 (en) * | 2000-12-05 | 2002-06-13 | Learonal Japan Inc. | Resin composite material and method of forming the same |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5084677A (ja) * | 1973-11-28 | 1975-07-08 | ||
| JPS5825330B2 (ja) * | 1976-02-27 | 1983-05-26 | 帝人株式会社 | 磁気記録材料用ポリエステルフイルムの製造法 |
| JPS5317533A (en) * | 1976-07-31 | 1978-02-17 | Nippon Steel Corp | Production method of electrootin plate |
| JPS6019047B2 (ja) * | 1979-11-13 | 1985-05-14 | 積水化学工業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS5864381A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空蒸着装置 |
-
1981
- 1981-10-31 JP JP56175315A patent/JPS5877030A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5877030A (ja) | 1983-05-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0480448B2 (ja) | ||
| JPS59126779A (ja) | 銅表面を粗面化するための方法 | |
| US4002546A (en) | Method for producing a magnetic recording medium | |
| EP0035894B1 (en) | Process for producing a magnetic recording medium | |
| JPH02280310A (ja) | 電解コンデンサ用電極材料の製造方法 | |
| JPH01184722A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0382747A (ja) | 耐食性と密着性とに優れた金属表面薄膜の形成方法 | |
| JPH0253936B2 (ja) | ||
| JP2000006297A (ja) | ガスバリア性フィルムとその製造方法およびガスバリア性フィルムを用いた積層材 | |
| JPH0521289A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
| JPS60212847A (ja) | ダイヤモンド部品 | |
| JPH0613335A (ja) | プラズマｃｖｄ成膜方法 | |
| JPS63103061A (ja) | プラスチツクフイルム表面への金属薄膜被着形成方法 | |
| JPS6046181B2 (ja) | 真空蒸着方法 | |
| JPS6164874A (ja) | スパツタ膜の形成方法 | |
| JPH01243234A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0551739A (ja) | 光磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS5931592B2 (ja) | スパツタリング用タ−ゲツト | |
| JPS6383255A (ja) | 金属薄膜の形成方法 | |
| JPS58133372A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPH02240829A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63259838A (ja) | 磁性薄膜記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPH04356728A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH01102734A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6171447A (ja) | 磁気テ−プ摺接部材の窒化チタン膜形成方法 |