JPS60253036A - 光記録層 - Google Patents
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- JPS60253036A JPS60253036A JP60078641A JP7864185A JPS60253036A JP S60253036 A JPS60253036 A JP S60253036A JP 60078641 A JP60078641 A JP 60078641A JP 7864185 A JP7864185 A JP 7864185A JP S60253036 A JPS60253036 A JP S60253036A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は記録要素に関する。本発明は、さらに詳しく述
べると、色素とバインダの無定形の光記録層1に有する
記録要素に関する。
べると、色素とバインダの無定形の光記録層1に有する
記録要素に関する。
光記録層を熱変形させることによって情報を記録する方
式の記録要素は公知である。このような要素は、多量の
ディジタル情報を小面積で迅速に記録するのに有用であ
る。これらの要素はまたビデオ情報を記録するのに有用
である。
式の記録要素は公知である。このような要素は、多量の
ディジタル情報を小面積で迅速に記録するのに有用であ
る。これらの要素はまたビデオ情報を記録するのに有用
である。
光記録要素における記録は、例えばレーザービームのよ
うな光エネルギー−密度輻射線のビームを用いることに
よって達成することができる。このレーザービームを要
素の光記録層の表面上に集束させる。記録層がレーザー
からのエネルギーを吸収することの結果、その記録層の
小部分が変形せしめられる。変形は、ビット、ホール(
穴)又はその他の材料の変形であることができる。熱変
形可能な記録層で上記のようにして光記録を行なう技法
は、通常、光記録の技術分野において゛アブレーション
記録(ablatlve recording )”と
呼ばれている。
うな光エネルギー−密度輻射線のビームを用いることに
よって達成することができる。このレーザービームを要
素の光記録層の表面上に集束させる。記録層がレーザー
からのエネルギーを吸収することの結果、その記録層の
小部分が変形せしめられる。変形は、ビット、ホール(
穴)又はその他の材料の変形であることができる。熱変
形可能な記録層で上記のようにして光記録を行なう技法
は、通常、光記録の技術分野において゛アブレーション
記録(ablatlve recording )”と
呼ばれている。
一般的に、レーザービームと記録層との間には連続した
相対的な運動が存在し、したがって、レーザーをパルス
変調した場合、サイズを異にする断続的ガ変形が記録層
において発生せしめられる。
相対的な運動が存在し、したがって、レーザーをパルス
変調した場合、サイズを異にする断続的ガ変形が記録層
において発生せしめられる。
これらの変形のサイズや間隔(スペース)が符号化され
た情報を構成することとなる。熱変形可能な記録層とし
て使用するため、種々の材料がすでに提案されている。
た情報を構成することとなる。熱変形可能な記録層とし
て使用するため、種々の材料がすでに提案されている。
とりわけ有用な光記録層は米国特許第4.380,76
9号明細書に開示されている。これらの層は色素とバイ
ンダの無定形混合物からなっている。レーザーによる書
き込み及び再生プロセスの間、このような層を保護する
ことが望ましい。米国特許第4.388,400号明細
書は、金属記録層上に塗被されたセラミックの保護層を
開示している。この保護層の膜厚は0.01〜5μmで
ある。しかし、上記した膜厚範囲の上限域の大半に包含
される膜厚をもったセラミック保護層は、先に引用した
米国特許第4,380,769号明細書に開示されるタ
イプの光記録層のレーザー記録感度、キャリヤー/ノイ
ズ比(Cハ比又はCNRとも呼ばれる)、そして記録の
直線性(recording 1inearity ;
レーザーにより形成される記録変形の長さの時間にもと
づく変数)に対して有害な影響を及ばすという欠点を有
する。
9号明細書に開示されている。これらの層は色素とバイ
ンダの無定形混合物からなっている。レーザーによる書
き込み及び再生プロセスの間、このような層を保護する
ことが望ましい。米国特許第4.388,400号明細
書は、金属記録層上に塗被されたセラミックの保護層を
開示している。この保護層の膜厚は0.01〜5μmで
ある。しかし、上記した膜厚範囲の上限域の大半に包含
される膜厚をもったセラミック保護層は、先に引用した
米国特許第4,380,769号明細書に開示されるタ
イプの光記録層のレーザー記録感度、キャリヤー/ノイ
ズ比(Cハ比又はCNRとも呼ばれる)、そして記録の
直線性(recording 1inearity ;
レーザーにより形成される記録変形の長さの時間にもと
づく変数)に対して有害な影響を及ばすという欠点を有
する。
上記したような従来の技術の欠点が本発明が解決しよう
とする問題点である。換言すると、本発明の目的は、従
来のオーバーコート付の光記録層の有害な影響を有しな
いかも1.<けそれが最低である保護層をオーバーコー
ト1,7に色素と・ぐイ/ダの無定形記録Nを有する記
録要素を提供することにある。
とする問題点である。換言すると、本発明の目的は、従
来のオーバーコート付の光記録層の有害な影響を有しな
いかも1.<けそれが最低である保護層をオーバーコー
ト1,7に色素と・ぐイ/ダの無定形記録Nを有する記
録要素を提供することにある。
上記問題点は、本発明によれば、0.(15μm1での
膜厚を有する透明なセラミックオーバーコートを保護層
として有する色素とバインダの無定形光記録層によって
解決することができる。
膜厚を有する透明なセラミックオーバーコートを保護層
として有する色素とバインダの無定形光記録層によって
解決することができる。
以下、本発明の光記録層を詳細に説明する第1図には、
記録要素16に情報を記録し、イーしてその要素16か
ら情報を再生するための装置がブロック図として示され
ている。記録要素]6は、第2図に示されるように オ
ーバーコート層41、熱変形可能な無定形の光記録層4
2、反射層43、表面平滑化層44、そして基板45を
有する。図中の10は記録用し〜デーからのグイメート
記録ピーノ、である。このビーム100強度を、駆動信
号に応答して、そして記録要素】6に記録されるべき情
報にもとづいて、変調する。変調したレーザービームを
レンズ14によって集め、レンズ18によって平行ビー
ムとなし、そしてミラー要素2 +1 、23及び24
を用いて高開口数レンズ26に案内する。このレンズ2
6によって、変調レーザービームを記録要素16上の記
録スポット26に集束させる。
記録要素16に情報を記録し、イーしてその要素16か
ら情報を再生するための装置がブロック図として示され
ている。記録要素]6は、第2図に示されるように オ
ーバーコート層41、熱変形可能な無定形の光記録層4
2、反射層43、表面平滑化層44、そして基板45を
有する。図中の10は記録用し〜デーからのグイメート
記録ピーノ、である。このビーム100強度を、駆動信
号に応答して、そして記録要素】6に記録されるべき情
報にもとづいて、変調する。変調したレーザービームを
レンズ14によって集め、レンズ18によって平行ビー
ムとなし、そしてミラー要素2 +1 、23及び24
を用いて高開口数レンズ26に案内する。このレンズ2
6によって、変調レーザービームを記録要素16上の記
録スポット26に集束させる。
記録の間、記録要素16を一定の速度で、例えば180
0回転/分(rpm)で回転させる。結果として、情報
のトラック30が光記録層上に記録され、そして記録要
素16が情報保持記録要素となる。記録の継続時、ここ
では図示しない手段によって記録スポット28″j&:
記録要素16の中心に向けて高速で走査し、よって、外
半径R8から内半径R4tで延在するら旋状のトラック
にそって情報変形を記録する。ここで、記録レーデ−駆
動信号の情報保有量や記録要素16上の半径位置に従っ
て、記録された情報のマークのサイズや間隔がいろいろ
に変化する。
0回転/分(rpm)で回転させる。結果として、情報
のトラック30が光記録層上に記録され、そして記録要
素16が情報保持記録要素となる。記録の継続時、ここ
では図示しない手段によって記録スポット28″j&:
記録要素16の中心に向けて高速で走査し、よって、外
半径R8から内半径R4tで延在するら旋状のトラック
にそって情報変形を記録する。ここで、記録レーデ−駆
動信号の情報保有量や記録要素16上の半径位置に従っ
て、記録された情報のマークのサイズや間隔がいろいろ
に変化する。
セラミックオーバーコートをもった本発明の光記録要素
で記録を実施する場合、要素の光記録層が変形して/ヤ
ープな形状を有するリッツによって取り囲まれたピント
を形成する。さらに加えて、光記録層上のセラミックオ
ー・ぐ−コー1がドーム状の構造体をピット上に形成す
る。第3図は、情報記録を行なった後の記録要素16を
断面でボしたものである。この図から、ビット46、そ
してそれと組み合わさったドーム47を認めることがで
きる。なお、゛′シャープな形状を有するリッツ″とは
、’J ツノ(うね)と穴/〈ぼみとが顕著な境界を有
すること、そして、記録層の未変形の外表面の面でかつ
、もしもあるならば、記録ビームと記録層との間の相対
運動の方向で測定し7た場合に、リッツの幅が穴/くほ
みの幅よりも狭いかもシ7りはそれと同じであることを
意味する。これは、リッツそのものが顕著ではないけれ
ども、穴/くほみがツヤーゾにうかたれているような場
合を包含する。
で記録を実施する場合、要素の光記録層が変形して/ヤ
ープな形状を有するリッツによって取り囲まれたピント
を形成する。さらに加えて、光記録層上のセラミックオ
ー・ぐ−コー1がドーム状の構造体をピット上に形成す
る。第3図は、情報記録を行なった後の記録要素16を
断面でボしたものである。この図から、ビット46、そ
してそれと組み合わさったドーム47を認めることがで
きる。なお、゛′シャープな形状を有するリッツ″とは
、’J ツノ(うね)と穴/〈ぼみとが顕著な境界を有
すること、そして、記録層の未変形の外表面の面でかつ
、もしもあるならば、記録ビームと記録層との間の相対
運動の方向で測定し7た場合に、リッツの幅が穴/くほ
みの幅よりも狭いかもシ7りはそれと同じであることを
意味する。これは、リッツそのものが顕著ではないけれ
ども、穴/くほみがツヤーゾにうかたれているような場
合を包含する。
再生フ0rJセスの間、今情報を保持するに至った記録
要素16を記録の間のその回転と同速度で回転させる。
要素16を記録の間のその回転と同速度で回転させる。
読み出し用レーザーからのレーザービーム22の直径を
レンズ34及び36によって拡大させる。読み出し用レ
ーザーのビームの光路をビームスプリンター、ノ・−フ
ミラー21、そしてミラー23及び24を用いて曲げる
。次いで、この読み出し用レーザービームを記録要素1
6上の再生スポットに高開口数レンズ26によって集め
る。記録ディスク16が反射型ディスクであると仮定し
た場合、光記録要素16上に記録された情報マークと相
互作用した後の再生スポット形成輻射線が再び高開口数
レンズ26を通って反射される。(透過型光記録要素の
場合には、記録された情報マークとの相互作用を可能な
らしめるため、再生スポットが光ディスクを透過するよ
うに再生光学系を配置しなければならない。)反射され
たレーザービームハ、プリズムビームスシリツタによっ
て方向を転換せしめられた後、レンズ38を通ってデテ
クタ40に集められ、ここで電気的再生信号に変えられ
る。なお、再生信号の形成は、デテクタ40に照射され
た反射レーザービームの輻射照度の一時的変化に応答し
て行なわれる。
レンズ34及び36によって拡大させる。読み出し用レ
ーザーのビームの光路をビームスプリンター、ノ・−フ
ミラー21、そしてミラー23及び24を用いて曲げる
。次いで、この読み出し用レーザービームを記録要素1
6上の再生スポットに高開口数レンズ26によって集め
る。記録ディスク16が反射型ディスクであると仮定し
た場合、光記録要素16上に記録された情報マークと相
互作用した後の再生スポット形成輻射線が再び高開口数
レンズ26を通って反射される。(透過型光記録要素の
場合には、記録された情報マークとの相互作用を可能な
らしめるため、再生スポットが光ディスクを透過するよ
うに再生光学系を配置しなければならない。)反射され
たレーザービームハ、プリズムビームスシリツタによっ
て方向を転換せしめられた後、レンズ38を通ってデテ
クタ40に集められ、ここで電気的再生信号に変えられ
る。なお、再生信号の形成は、デテクタ40に照射され
た反射レーザービームの輻射照度の一時的変化に応答し
て行なわれる。
有用なセラミックオーバーコート材料は再生用レーザー
及び記録用レーザーの波長において透明である。このよ
うなオーバーコートはまた次のような性質を有するべき
である: 】)記録中のオーバーコートの熱損傷を避けるための低
い熱拡散率; 2)光記録層に対する低い付着力; 3)ビット形成時における過度の流れを避けるための高
温度下における高い粘度; 及び 4)光記録層上に連続した均一なフィルムの形で塗布可
能であること。
及び記録用レーザーの波長において透明である。このよ
うなオーバーコートはまた次のような性質を有するべき
である: 】)記録中のオーバーコートの熱損傷を避けるための低
い熱拡散率; 2)光記録層に対する低い付着力; 3)ビット形成時における過度の流れを避けるための高
温度下における高い粘度; 及び 4)光記録層上に連続した均一なフィルムの形で塗布可
能であること。
積重しくは、オー・ぐ−コート材料はできるかぎり安定
であるべきである。有用なセラミック材料は、酸化アル
ミニウム、−酸化珪素(S IO)、AZ 20 s
。
であるべきである。有用なセラミック材料は、酸化アル
ミニウム、−酸化珪素(S IO)、AZ 20 s
。
二酸化珪素(S102)、/リカ、ガラス、例えば5c
hott−Glass (商標名;スコツトガラス社製
)。
hott−Glass (商標名;スコツトガラス社製
)。
水晶及び弗化マグネシウム(MgF2)を包含する。
゛ とりわけ有用な記録層は米国特許第4,380,7
69号に記載されるものである。これらの層は無定形の
色素−バインダ層であり、そして20よりも大きな吸光
係数を有している。ここで、無定形材料のパ吸光係数″
は、その無定形材料に含まれる色素の重量分率と得らば
れた記録ビームの波長における色素のモル吸光係数の積
を色素の分子量(鼎)で割った値とj〜て定義すること
ができ、その単位はl/9.cmである。
69号に記載されるものである。これらの層は無定形の
色素−バインダ層であり、そして20よりも大きな吸光
係数を有している。ここで、無定形材料のパ吸光係数″
は、その無定形材料に含まれる色素の重量分率と得らば
れた記録ビームの波長における色素のモル吸光係数の積
を色素の分子量(鼎)で割った値とj〜て定義すること
ができ、その単位はl/9.cmである。
したがって、光記録層42は、好ましくは適切な熱変形
を被るのに十分なエネルギーを記録ビームから吸収する
のを可能ならしめるため、非常に高い光学濃度、すなわ
ち、選らばれた記録ビームの波長において20もしくは
それ以上の吸光係数を有するべきである。(色素−パイ
ツタ組成物が与えられである場合、光学濃度は膜厚に依
存するというものの吸光係数は膜厚に依存しないという
ことが容易に理解されるであろう。しかし、もしもその
組成物が20よりも大なる吸光係数を有する場合、薄い
層であっても高い濃度を有するであろう。)層42のガ
ラス転移温度は、室温よりも著12<高温度であり、そ
して記録中に選らげれた記録ビームによりその層上の1
点に加えられる温度よりも低温度である。換言すると、
層42は、熱変形ツクターンを記録後に保持することが
不可能であり、さもなければ、記録を行なうことが全く
不可能である。層42の有用なガラス転移温度の範囲は
、好1しくけ、約り0℃〜約150℃である。但し、上
記よりも高温もしくは低温のガラス転移温度の材料も1
だ有用である。
を被るのに十分なエネルギーを記録ビームから吸収する
のを可能ならしめるため、非常に高い光学濃度、すなわ
ち、選らばれた記録ビームの波長において20もしくは
それ以上の吸光係数を有するべきである。(色素−パイ
ツタ組成物が与えられである場合、光学濃度は膜厚に依
存するというものの吸光係数は膜厚に依存しないという
ことが容易に理解されるであろう。しかし、もしもその
組成物が20よりも大なる吸光係数を有する場合、薄い
層であっても高い濃度を有するであろう。)層42のガ
ラス転移温度は、室温よりも著12<高温度であり、そ
して記録中に選らげれた記録ビームによりその層上の1
点に加えられる温度よりも低温度である。換言すると、
層42は、熱変形ツクターンを記録後に保持することが
不可能であり、さもなければ、記録を行なうことが全く
不可能である。層42の有用なガラス転移温度の範囲は
、好1しくけ、約り0℃〜約150℃である。但し、上
記よりも高温もしくは低温のガラス転移温度の材料も1
だ有用である。
本発明の記録要素の基板は、その記録要素の所望の再生
モードに依存して反射性であるかもしくは透明である。
モードに依存して反射性であるかもしくは透明である。
反射性基板の場合には、その基板基板の両側に被覆され
る。基板そのものは任意に広範囲の材料であることがで
き、そしてガラス、自己支持性のシラスチック、例えば
ポリ(エチレンフタレート)、酢酸セルロース1.j?
す(メチルメタクリレート)、ポリ(塩化ビニル)及び
ポリスチレン、又は金属、例えばアルミニウムンートを
包含する。記録中における基板の変形を避けるため、基
板の融点は比較的に高温度であることが望ましい。基板
は、望ましくは、記録−再生プロセスにおけるノイズや
ドロップアウトを避けるために非常に平滑である。ある
好ましい態様に従うと、基板に反射層や本願明細書に記
載の光記録要素のその他の層を塗被するに先がけてその
基板に平滑化層を塗被する。
る。基板そのものは任意に広範囲の材料であることがで
き、そしてガラス、自己支持性のシラスチック、例えば
ポリ(エチレンフタレート)、酢酸セルロース1.j?
す(メチルメタクリレート)、ポリ(塩化ビニル)及び
ポリスチレン、又は金属、例えばアルミニウムンートを
包含する。記録中における基板の変形を避けるため、基
板の融点は比較的に高温度であることが望ましい。基板
は、望ましくは、記録−再生プロセスにおけるノイズや
ドロップアウトを避けるために非常に平滑である。ある
好ましい態様に従うと、基板に反射層や本願明細書に記
載の光記録要素のその他の層を塗被するに先がけてその
基板に平滑化層を塗被する。
平滑化層の形成に用いられる組成物は、基板の表面上に
塗被可能な、低粘度でありかつ重合可能な液体である。
塗被可能な、低粘度でありかつ重合可能な液体である。
この液体は、塗被に続いて重合させると、極く平滑な表
面を基板上に形成する。次いで、例えば基板のイ滑化表
面上にアルミニウムを蒸着するなどして平滑面の真空蒸
着を行なうことによって基板を反射性にする。とりわけ
有用な重合可能な液体は光重合性単量体である。好まし
くは、かかる単量体又はそれらの混合物は溶剤の不存在
下において低粘度の液体である。有用な重合可能な液体
の組成物は、米国特許第4,092,173号、そして
同第4,171,979号明細書に記載されている。
面を基板上に形成する。次いで、例えば基板のイ滑化表
面上にアルミニウムを蒸着するなどして平滑面の真空蒸
着を行なうことによって基板を反射性にする。とりわけ
有用な重合可能な液体は光重合性単量体である。好まし
くは、かかる単量体又はそれらの混合物は溶剤の不存在
下において低粘度の液体である。有用な重合可能な液体
の組成物は、米国特許第4,092,173号、そして
同第4,171,979号明細書に記載されている。
光記録層42の膜厚は好洩しくけ045μm未満である
。通常の膜厚、すなわち、1〜10μmもしくはそれ以
上を有する高吸光係数の層でもすぐれた記録を得ること
ができかつこれらの記録を非吸収再生ビームで読み取る
ことができるというものの、非常に簿い層のほうがCN
Rをさらに改良することができる。例えば、ある1つの
材料が与えられた場合、o、4511m よりも小さな
膜厚をもった層から再生される記録情報のCNRは2t
imの層からの再生のそれよりもadb犬である。本発
明の特に好ましい態様に従うと、層42の膜厚は035
μm未満である。
。通常の膜厚、すなわち、1〜10μmもしくはそれ以
上を有する高吸光係数の層でもすぐれた記録を得ること
ができかつこれらの記録を非吸収再生ビームで読み取る
ことができるというものの、非常に簿い層のほうがCN
Rをさらに改良することができる。例えば、ある1つの
材料が与えられた場合、o、4511m よりも小さな
膜厚をもった層から再生される記録情報のCNRは2t
imの層からの再生のそれよりもadb犬である。本発
明の特に好ましい態様に従うと、層42の膜厚は035
μm未満である。
選らばれた色素はバインダとの相容性をもたなければな
らない。ここで、パ相容性”とは、その色素を、層を乾
燥した後に結晶化を伴々わずに必要な吸光係数を得るの
に十分な濃度のバインダと混合することが可能であるこ
と全意味する。層42は無定形でなければならない。こ
の混合物は、通常、1重量部の・ぐインダかもしくはバ
インダ混合物、そして1重量部の色素かもしくは色素混
合物からなる。但し、一部の場合には、混合物中のバイ
ンダの割合を増加することが望ましい。また、一部の場
合には、所望とする変形性能を達成するため、可塑剤を
混合物中に含ませるのが有用である。好ましい態様に従
うと、この無定形の材料は有機溶剤、例えはンクロヘキ
サン、アセトン、ベンゼン又はキシレンに可溶である。
らない。ここで、パ相容性”とは、その色素を、層を乾
燥した後に結晶化を伴々わずに必要な吸光係数を得るの
に十分な濃度のバインダと混合することが可能であるこ
と全意味する。層42は無定形でなければならない。こ
の混合物は、通常、1重量部の・ぐインダかもしくはバ
インダ混合物、そして1重量部の色素かもしくは色素混
合物からなる。但し、一部の場合には、混合物中のバイ
ンダの割合を増加することが望ましい。また、一部の場
合には、所望とする変形性能を達成するため、可塑剤を
混合物中に含ませるのが有用である。好ましい態様に従
うと、この無定形の材料は有機溶剤、例えはンクロヘキ
サン、アセトン、ベンゼン又はキシレンに可溶である。
有用なバインダは、例えば、酢酸、酪酸セルロース、硝
酸セルロース、ポリスチレン、ポリスルホンアミド、ポ
リカーゼネート、ヒドロアビエチルアルコール(例えば
商標名Abitol AUKとしてバーキュレスケミカ
ル社より市販されている)、ポリ(エチルメタクリレー
ト)、Iす(ビニルブチラール)及びその混合物及び誘
導体である。好ましい・ぐインダは、非高分子化合物の
混合物からなる材料である。この混合物は、a)無定形
であり、b)約20℃で固体であり、そしてC)最低2
種類の異なる化合物を有する。これらの化合物は、それ
ぞれ、1個の多価有機核を最低2個の有機核と結合する
最低2個の結合成分を有し、また、その際、前記多価有
機核の最低1個は多環式もしくは芳香族の核である。こ
のようなバインダの例を次の第1表に記載する。
酸セルロース、ポリスチレン、ポリスルホンアミド、ポ
リカーゼネート、ヒドロアビエチルアルコール(例えば
商標名Abitol AUKとしてバーキュレスケミカ
ル社より市販されている)、ポリ(エチルメタクリレー
ト)、Iす(ビニルブチラール)及びその混合物及び誘
導体である。好ましい・ぐインダは、非高分子化合物の
混合物からなる材料である。この混合物は、a)無定形
であり、b)約20℃で固体であり、そしてC)最低2
種類の異なる化合物を有する。これらの化合物は、それ
ぞれ、1個の多価有機核を最低2個の有機核と結合する
最低2個の結合成分を有し、また、その際、前記多価有
機核の最低1個は多環式もしくは芳香族の核である。こ
のようなバインダの例を次の第1表に記載する。
以下余白
このようなバインダは米国特許第4.499.165号
明細書に記載のものである。
明細書に記載のものである。
色素は、前述の通り、選らばれたバインダとの相容性や
選らばれた記録ビームの波長における高い吸光係数を考
慮して選らばれる。数多くの色素が有効である。このよ
うな色素の多くは、米国特許第4.415,621号及
び同第4,380,769号明細書、そしてリサーチ・
ディスクロージャー(Re5earch Disclo
sure )、Item21638゜1982年4月、
117頁1発行所:インダストリアル・オポチュニティ
ーズ社(IndustrialOpportuniti
es 、 Ltd 、13 14 Homewell
*Havent 、 Hampshive 、 Eng
land)に開示されている。
選らばれた記録ビームの波長における高い吸光係数を考
慮して選らばれる。数多くの色素が有効である。このよ
うな色素の多くは、米国特許第4.415,621号及
び同第4,380,769号明細書、そしてリサーチ・
ディスクロージャー(Re5earch Disclo
sure )、Item21638゜1982年4月、
117頁1発行所:インダストリアル・オポチュニティ
ーズ社(IndustrialOpportuniti
es 、 Ltd 、13 14 Homewell
*Havent 、 Hampshive 、 Eng
land)に開示されている。
とりわけ有用な色素は、前記したリサーチ・ディスクロ
ージャー誌に記載の金属ジチェン色素を包含する。この
ような色素のfllを次の第1表に記載する。
ージャー誌に記載の金属ジチェン色素を包含する。この
ような色素のfllを次の第1表に記載する。
以下余白
第0表
有用なオキソインドリジウム色素を次の第m表に記載す
る。
る。
寧 水
の 1rI
■ ■
〔実施例〕
レーザー記録感度や、CNRで表わされる記録要素のレ
ーザー再生/記録性能及びビット誤り率の測定にもとづ
く記録直線性に対するセラミックオーバーコートの効果
を説明するために以下の例を記載する。
ーザー再生/記録性能及びビット誤り率の測定にもとづ
く記録直線性に対するセラミックオーバーコートの効果
を説明するために以下の例を記載する。
本発明のオーバーコート付き記録要素16のレーザー記
録感度を、オーバーコートなしの対照と比較しつつ、書
き込みを行なうのに1すなわち、オーバーコートなしの
対照で得られるCNRを達成するのに適当なビットを形
成するのにそれぞれの場合に必要であるレーザー出力を
測定することによって、決定した。
録感度を、オーバーコートなしの対照と比較しつつ、書
き込みを行なうのに1すなわち、オーバーコートなしの
対照で得られるCNRを達成するのに適当なビットを形
成するのにそれぞれの場合に必要であるレーザー出力を
測定することによって、決定した。
オーバーコートなし及びセラミックオーツぐ一コート付
の光記録層42のレーザー再生/記録性能を、CNR,
そして記録の直線性を決定するだめのビット誤り率を測
定することによって、決定(−た。
の光記録層42のレーザー再生/記録性能を、CNR,
そして記録の直線性を決定するだめのビット誤り率を測
定することによって、決定(−た。
上述の測定を行なうため、記録及び再生を次のような基
本的な光記録要素を用いて実施した。セラミックオーバ
ーコートをもたない要素を対照として使用し、そして要
素に0.05μm未満の膜厚でセラミック材料をオーバ
ーコートしたものを本発明の1例として使用し、た。オ
ーバーコートの形成は真空蒸着によって実施した。
本的な光記録要素を用いて実施した。セラミックオーバ
ーコートをもたない要素を対照として使用し、そして要
素に0.05μm未満の膜厚でセラミック材料をオーバ
ーコートしたものを本発明の1例として使用し、た。オ
ーバーコートの形成は真空蒸着によって実施した。
3種類の異なる記録要素を次のようKして調製した。直
径300閣の円板状ガラス基板に表面平滑化組成物をス
ピンコードした。この表面平滑化のため、ガラス基板に
平滑化組成物を低回転数(約80〜10100rpで流
し塗りし、そして次に回転速度を約50 Orpmまで
増大させて塗膜を平担にした。表面平滑化組成物の組成
は次の通りであった Rンタエリトリトールテトラアクリレート 20 g低
粘度のウレタン−アクIル′−ト単H体20 Ji’(
UV硬化性トッゾコート; 874−C−2002(商標名)。
径300閣の円板状ガラス基板に表面平滑化組成物をス
ピンコードした。この表面平滑化のため、ガラス基板に
平滑化組成物を低回転数(約80〜10100rpで流
し塗りし、そして次に回転速度を約50 Orpmまで
増大させて塗膜を平担にした。表面平滑化組成物の組成
は次の通りであった Rンタエリトリトールテトラアクリレート 20 g低
粘度のウレタン−アクIル′−ト単H体20 Ji’(
UV硬化性トッゾコート; 874−C−2002(商標名)。
フーラーオープリエン社製)
2−エトキシエタノール 60.9
クマリン増感剤組成物 3.9
表面活性剤 3滴
塗布し、そして乾燥した表面平滑化組成物を、ツレに:
3000W、fルス化キセノン−アーク灯を18インチ
(45,5c+++)のところで4分間にわたって照射
することによって硬化させた。
3000W、fルス化キセノン−アーク灯を18インチ
(45,5c+++)のところで4分間にわたって照射
することによって硬化させた。
次いで、上記のようにして平滑化した基板の表面に膜厚
005μmのアルミニウム反射層を真空蒸着によって塗
布した。
005μmのアルミニウム反射層を真空蒸着によって塗
布した。
色素又は色素混合物とバインダの1:1混合物をブロモ
ベンゼンに溶解してなる塗布組成物を調製した。この塗
布組成物を反射層上に低回転数でスピンコードし、そし
て次に約800 rpmで平担化した◎ 上記した手法を使用して2種類の異なる記録要素を調製
した。これらの要素は光記録層の違いを除いて前記要素
に同じであった。光記録層の組成は次の通9であっfc
: 光記録要素1 第■表に記載の色素2及び色素3の1.1混合物1部プ
ラス第1表に記載の・ぐインダニ部光記録要素2 第■表に記載の色素31部プラス第1表に記載のバイン
ダ31部 乾燥後、得られた記録要素を対照として使用17、また
、本発明の要素を形成するためにオー・マーコートを施
した。オーバーコートの形成は真空蒸着により実施した
。
ベンゼンに溶解してなる塗布組成物を調製した。この塗
布組成物を反射層上に低回転数でスピンコードし、そし
て次に約800 rpmで平担化した◎ 上記した手法を使用して2種類の異なる記録要素を調製
した。これらの要素は光記録層の違いを除いて前記要素
に同じであった。光記録層の組成は次の通9であっfc
: 光記録要素1 第■表に記載の色素2及び色素3の1.1混合物1部プ
ラス第1表に記載の・ぐインダニ部光記録要素2 第■表に記載の色素31部プラス第1表に記載のバイン
ダ31部 乾燥後、得られた記録要素を対照として使用17、また
、本発明の要素を形成するためにオー・マーコートを施
した。オーバーコートの形成は真空蒸着により実施した
。
記録要素16を180 Orpmで回転させながら83
0 nmのダイオードレーザ−を用いて記録を実施し7
た。キャリヤー信号8.8 MH7,が記録された。
0 nmのダイオードレーザ−を用いて記録を実施し7
た。キャリヤー信号8.8 MH7,が記録された。
CNR1に測定するため、記録保持要素を記録回転速度
で回転させながらその記録保持要素を再生し、た・読み
出しはHe−Neレーザーを用いて実施した。
で回転させながらその記録保持要素を再生し、た・読み
出しはHe−Neレーザーを用いて実施した。
例1
001μm力゛ラスオーツぐ−コート
前記光記録要素lを本例で使用した。CNR(d B
)ヲ、オーバーコートなしの対照記録要素及び001f
im 5chott−Glass (前出)オーツクー
コート付きの記録要素に関して測定した。このCNR測
定のため、一連のレーザー出力でCNRを記録し、そし
て各出力レベルでのCNRを測定し7た。得られた測定
結果は第4図に曲線で示される通りである。第4図の曲
線から、約12〜16mWのレーザー出カの場合、60
を上廻るすぐれたCNRが対照及びオーバーコート付き
サンプルの両方で得られることが判る。対照のCNHの
ほうがオーバーコート付きの要素のCNRよりもわずか
に大であるというものの、その差はほんの約4〜5dB
であり、0.01t1mの5chott−Glassオ
ーバーコートを用いてもCNRに対する影響は実質的に
ゼロであるということを示している。どちらの場合にも
高品位の記録が達成される。これらの測定結果は捷た、
対照の感度と0.01 Am 5chott−Glaa
sオーバーコート付き要素のそれとは、どちらの要素を
用いても同じレーザー出力では高度のCNRが達成され
たという点において、実質的に同等であるということを
示している。
)ヲ、オーバーコートなしの対照記録要素及び001f
im 5chott−Glass (前出)オーツクー
コート付きの記録要素に関して測定した。このCNR測
定のため、一連のレーザー出力でCNRを記録し、そし
て各出力レベルでのCNRを測定し7た。得られた測定
結果は第4図に曲線で示される通りである。第4図の曲
線から、約12〜16mWのレーザー出カの場合、60
を上廻るすぐれたCNRが対照及びオーバーコート付き
サンプルの両方で得られることが判る。対照のCNHの
ほうがオーバーコート付きの要素のCNRよりもわずか
に大であるというものの、その差はほんの約4〜5dB
であり、0.01t1mの5chott−Glassオ
ーバーコートを用いてもCNRに対する影響は実質的に
ゼロであるということを示している。どちらの場合にも
高品位の記録が達成される。これらの測定結果は捷た、
対照の感度と0.01 Am 5chott−Glaa
sオーバーコート付き要素のそれとは、どちらの要素を
用いても同じレーザー出力では高度のCNRが達成され
たという点において、実質的に同等であるということを
示している。
第4図は、また、記録媒体によって吸収されるレーザー
の使用を通じて再生を行なう場合、記録された情報を破
壊することなく再生を達成し得るレーザー出力がより容
易に決定されるということを示している。すなわち、第
4図に図示されるところのCNRva レーザー出力の
曲線は、0.01μmのガラスオーバーコート付きの記
録要素は対照の傾きよりもさらに約6〜8mWはどシャ
ープな傾きを有するということを示している。このこと
がら、対照に比較して記録情報の破壊をひきおこしにく
い再生出力を図示の曲線の傾きにそってより良好に選択
することが可能であるということが判る。
の使用を通じて再生を行なう場合、記録された情報を破
壊することなく再生を達成し得るレーザー出力がより容
易に決定されるということを示している。すなわち、第
4図に図示されるところのCNRva レーザー出力の
曲線は、0.01μmのガラスオーバーコート付きの記
録要素は対照の傾きよりもさらに約6〜8mWはどシャ
ープな傾きを有するということを示している。このこと
がら、対照に比較して記録情報の破壊をひきおこしにく
い再生出力を図示の曲線の傾きにそってより良好に選択
することが可能であるということが判る。
基本的に、本願明細書に記載されるタイプの記録要素に
蓄積することのできる情報には2つの種類がある。これ
らの種類とは、FM(周波数変調)を符号化したもの、
そしてディジタルである。ディソタル情報の場合には、
最初にそれらのデータを種々のタイプの有効な符号、例
えばミラー(Miller )コード、すなわち、(2
,7)コードに従って符号化する。これらの符号化され
たデータ信号で時間量をコントロールし、よって、・や
ルス化記録ダイオードレーザーをデータ・母ターンにも
とづきオン及びオフとなす。次いで、レーザーのオン及
びオフ時間からレーザー記録のビット長さ、そしてビッ
トとビットの間の間隔(ビット間スに一ス)を決定する
。このようにして、ディノタル記録の間に種々の長さの
ビットを形成することができる。ビットの長さは、レー
ザーや時間に応じて直線的に変化しなければならない。
蓄積することのできる情報には2つの種類がある。これ
らの種類とは、FM(周波数変調)を符号化したもの、
そしてディジタルである。ディソタル情報の場合には、
最初にそれらのデータを種々のタイプの有効な符号、例
えばミラー(Miller )コード、すなわち、(2
,7)コードに従って符号化する。これらの符号化され
たデータ信号で時間量をコントロールし、よって、・や
ルス化記録ダイオードレーザーをデータ・母ターンにも
とづきオン及びオフとなす。次いで、レーザーのオン及
びオフ時間からレーザー記録のビット長さ、そしてビッ
トとビットの間の間隔(ビット間スに一ス)を決定する
。このようにして、ディノタル記録の間に種々の長さの
ビットを形成することができる。ビットの長さは、レー
ザーや時間に応じて直線的に変化しなければならない。
例えば、もしもレーザーがある時間tについてオンであ
りかつ記録されたピントの長さがtである場合、そのレ
ーザーの時間nt でのビット長さはntであるヘキで
ちる。第5図は、001μmのガラスオーバーコート付
きの記録要素上に形成された記録の直線性を走査型電子
顕微鏡写真に撮り、これをスケッチしたものである。図
中のビット48では450 rpmにおける記録レーザ
ーノクルス長が0200μ秒であった。このパルス長は
、0.400μ秒のパルスが記録されたビット49の長
さの正しく0.5倍であった。
りかつ記録されたピントの長さがtである場合、そのレ
ーザーの時間nt でのビット長さはntであるヘキで
ちる。第5図は、001μmのガラスオーバーコート付
きの記録要素上に形成された記録の直線性を走査型電子
顕微鏡写真に撮り、これをスケッチしたものである。図
中のビット48では450 rpmにおける記録レーザ
ーノクルス長が0200μ秒であった。このパルス長は
、0.400μ秒のパルスが記録されたビット49の長
さの正しく0.5倍であった。
上記したような直線的な挙動がなぜに得られるかという
と、それは、005μmまでの膜厚のセラミックオーバ
ーコートはピット形成中に加熱記録層42の流れを妨害
しないからでちる。オーバーコートはピント上にドーム
47を形成し、よって、記録媒体を縁端部(リム)に流
すことが可能になる。
と、それは、005μmまでの膜厚のセラミックオーバ
ーコートはピット形成中に加熱記録層42の流れを妨害
しないからでちる。オーバーコートはピント上にドーム
47を形成し、よって、記録媒体を縁端部(リム)に流
すことが可能になる。
001μmのガラスオーバーコートのビット誤り率に対
する効果、そして従ってセラミックオーバーコート付き
の光記録要素のパルス変調符号化ディジタル記録におけ
る有用性を評価するためにビット誤り率を測定した。ビ
ット誤り率の測定のため、ビット誤り率検出器(Sch
lunberger721 Telemstry )及
びMFM符号化を使用した。
する効果、そして従ってセラミックオーバーコート付き
の光記録要素のパルス変調符号化ディジタル記録におけ
る有用性を評価するためにビット誤り率を測定した。ビ
ット誤り率の測定のため、ビット誤り率検出器(Sch
lunberger721 Telemstry )及
びMFM符号化を使用した。
こノ測定の結果、001μmのガラスオーバーコートで
は14761ワー ト責16ピノトワード)でビット誤
り数4であった。このビット誤す率は対照のそれに同じ
であった。したがって、上記ガラスオーバーコートはデ
ィノタル記録におけるピント誤り率に対して有害な影響
を示さなかった。
は14761ワー ト責16ピノトワード)でビット誤
り数4であった。このビット誤す率は対照のそれに同じ
であった。したがって、上記ガラスオーバーコートはデ
ィノタル記録におけるピント誤り率に対して有害な影響
を示さなかった。
このビット誤り率は、また、得られた記録は前記したよ
うに線状であったことを示している。
うに線状であったことを示している。
例2
005μm ′jfラスオーバーコート前記光記録要素
1を本例で使用した。記録(レーザー書き込み)及び再
生(レーザー読み取り)を前記例IK記載のようKして
実施した。再生を行なったところ0.05μm 5ch
ott−Glass (前出)オーバーコート付きのサ
ンプルでは高品位の記録が得られかっ12−16 mW
のレーザー出カ範囲でのCNRは60 dB よりも大
であることが判明した。この結果もまた前記第4図に示
されている。
1を本例で使用した。記録(レーザー書き込み)及び再
生(レーザー読み取り)を前記例IK記載のようKして
実施した。再生を行なったところ0.05μm 5ch
ott−Glass (前出)オーバーコート付きのサ
ンプルでは高品位の記録が得られかっ12−16 mW
のレーザー出カ範囲でのCNRは60 dB よりも大
であることが判明した。この結果もまた前記第4図に示
されている。
この結果から、0.05μmのオーバーコートハレーザ
ー記録感度に対して顕著な有害な影響を及はさないこと
が判る。また、この第4図から、00511m 5ch
ott−GlaII3オーツクーコート付きのサンプル
のCNRvs、レーザー出力曲線のシャープな傾きは対
照のそれよりもさらにシャープであることが判る。した
がって、レーデ−を選択する場合、読み取り用の記録さ
れた情報によって吸収され、シャープな傾きが得られか
つ、よって、対照のケースに比較してそれよりも記録情
報を破壊する危険性の少ないレーザーを選択することが
できる。
ー記録感度に対して顕著な有害な影響を及はさないこと
が判る。また、この第4図から、00511m 5ch
ott−GlaII3オーツクーコート付きのサンプル
のCNRvs、レーザー出力曲線のシャープな傾きは対
照のそれよりもさらにシャープであることが判る。した
がって、レーデ−を選択する場合、読み取り用の記録さ
れた情報によって吸収され、シャープな傾きが得られか
つ、よって、対照のケースに比較してそれよりも記録情
報を破壊する危険性の少ないレーザーを選択することが
できる。
以下余白
例3
0.005μm MgF2オーバーコート前記記録要素
1で0.005μmMgF2オーバーコートを有するも
のを本例で使用した。MgF2 オーバーコートのCN
RK対する効果を前記例1に記載のようにして測定した
。記録及び再生を前記したMgF2オーバーコート付き
の基本記録要素について実施した。CNR測定結果から
レーザー記録感度及びレーザー再生性能におけるロスは
前記例1の対照に比較して実質的にないことが判った。
1で0.005μmMgF2オーバーコートを有するも
のを本例で使用した。MgF2 オーバーコートのCN
RK対する効果を前記例1に記載のようにして測定した
。記録及び再生を前記したMgF2オーバーコート付き
の基本記録要素について実施した。CNR測定結果から
レーザー記録感度及びレーザー再生性能におけるロスは
前記例1の対照に比較して実質的にないことが判った。
005μm よりも厚いオーバーコートを使用した場合
には記録直線性に対して悪い影響が出ることを以下の比
較例4及び5で説明する 例4 01μmガラスオーバーコート 前記記録要素2で01μm Schott−G)ams
(前出)オーバーコートを有するものを本例で使用し
た。得ることのできる最大CNRは、ガラス基板の半径
が110C1+でありかつダイオードレーザ出力が16
mWである場合、1800rpm で周波数8、8
MHzの時に40dBよりも小であった。標準的なディ
ジタル記録条件(5Mb/see、 ミラー符号化デー
タ、ディスク回転数450 rpm、 R=100W+
)を使用したところ、0.1 ttm 5chott−
Glassオーバーコート付きの要素では満足のいく再
生を行なうことができなかった。ビット誤り率の測定は
、01μm 5choLt−Glassオーバーコート
によって信号の変形やレーザー記録の非直線性がひきお
こされたため、実施不可能であった。
には記録直線性に対して悪い影響が出ることを以下の比
較例4及び5で説明する 例4 01μmガラスオーバーコート 前記記録要素2で01μm Schott−G)ams
(前出)オーバーコートを有するものを本例で使用し
た。得ることのできる最大CNRは、ガラス基板の半径
が110C1+でありかつダイオードレーザ出力が16
mWである場合、1800rpm で周波数8、8
MHzの時に40dBよりも小であった。標準的なディ
ジタル記録条件(5Mb/see、 ミラー符号化デー
タ、ディスク回転数450 rpm、 R=100W+
)を使用したところ、0.1 ttm 5chott−
Glassオーバーコート付きの要素では満足のいく再
生を行なうことができなかった。ビット誤り率の測定は
、01μm 5choLt−Glassオーバーコート
によって信号の変形やレーザー記録の非直線性がひきお
こされたため、実施不可能であった。
例5
0.3μmガラスオーバーコート
前記記録要素2で0.3μm 5chott−Glas
s (前出)オーバーコートを有するものを本例で使用
した。最大CNRは、ディスク状ガラス基板の半径が1
00mでありかつダイオードレーザ−出力が16mWで
ある場合、1800rprn で周波数8.8MHzの
時に50dB であることが測定された。通常のディジ
タル記録条件下(5Mb/sec 、ミラー符号化デー
タ、ディスク回転数45 Orpm、 R=100閾)
、レーザー記録の非直線性が03μmオーバーコートで
ひきおこされたためにビット誤り率の測定を実施するこ
とが不可能であった。
s (前出)オーバーコートを有するものを本例で使用
した。最大CNRは、ディスク状ガラス基板の半径が1
00mでありかつダイオードレーザ−出力が16mWで
ある場合、1800rprn で周波数8.8MHzの
時に50dB であることが測定された。通常のディジ
タル記録条件下(5Mb/sec 、ミラー符号化デー
タ、ディスク回転数45 Orpm、 R=100閾)
、レーザー記録の非直線性が03μmオーバーコートで
ひきおこされたためにビット誤り率の測定を実施するこ
とが不可能であった。
0.05μmVでの薄いセラミックオーバーコートを有
する本発明の光記録層では記録感度の実質的なロスが不
存在である。要素上の記録情報はすぐれたCNR(q/
IN比)及び直線性を有する。さらに、情報を記録し、
そしてその記録情報を再生するためにダイオードレーザ
−を使用することができる。
する本発明の光記録層では記録感度の実質的なロスが不
存在である。要素上の記録情報はすぐれたCNR(q/
IN比)及び直線性を有する。さらに、情報を記録し、
そしてその記録情報を再生するためにダイオードレーザ
−を使用することができる。
第1図は、本発明の記録要素に情報を記録し、そしてそ
の記録情報を再生するための装置を図式的に示したブロ
ック図、 第2図及び第3図は上れそれ、本発明の記録要素の断面
を記録の前後について示した略示図、第4図は、対照、
そして前記例1及び例2のセラミックオーバーコート付
き記録要素のCNRvsレーザー出力曲線を示したグラ
フ、そして第5図は、前記例1において形成されたピッ
トの走査型電子顕微鏡写真のスケッチ図である。 図中、1は光記録要素、41はセラミックオーバーコー
ト、42は光記録層、43は反射層、44は平滑化層、
そして45は基板である。 特許出願人 イーストマン コダノクカンノやニー 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 七 FIG、 3
の記録情報を再生するための装置を図式的に示したブロ
ック図、 第2図及び第3図は上れそれ、本発明の記録要素の断面
を記録の前後について示した略示図、第4図は、対照、
そして前記例1及び例2のセラミックオーバーコート付
き記録要素のCNRvsレーザー出力曲線を示したグラ
フ、そして第5図は、前記例1において形成されたピッ
トの走査型電子顕微鏡写真のスケッチ図である。 図中、1は光記録要素、41はセラミックオーバーコー
ト、42は光記録層、43は反射層、44は平滑化層、
そして45は基板である。 特許出願人 イーストマン コダノクカンノやニー 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 七 FIG、 3
Claims (1)
- 1.0.05μmまでの膜厚を有する透明なセラミック
オーバーコートをもった光記録層。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/600,643 US4538159A (en) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Ceramic overcoated optical recording element |
| US600643 | 2006-11-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253036A true JPS60253036A (ja) | 1985-12-13 |
Family
ID=24404467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60078641A Pending JPS60253036A (ja) | 1984-04-16 | 1985-04-15 | 光記録層 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4538159A (ja) |
| EP (1) | EP0161809B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60253036A (ja) |
| CA (1) | CA1229915A (ja) |
| DE (1) | DE3568887D1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4757472A (en) * | 1986-12-31 | 1988-07-12 | Tecon Memory, Inc. | Electrophotographic optical memory system |
| JPH0798421B2 (ja) * | 1987-06-09 | 1995-10-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
| EP0376327B1 (en) * | 1988-12-29 | 1995-08-09 | Sony Corporation | Optical recording medium |
| DE3911829A1 (de) * | 1989-04-11 | 1990-10-18 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium |
| CA2039522C (en) * | 1990-04-07 | 1996-07-09 | Hisato Itoh | Compact disk-write once type optical recording media |
| DE69123562T2 (de) * | 1990-09-24 | 1997-07-03 | Eastman Kodak Co | Verfahren zum überschreiben von daten auf einem optischen scheibemedien |
| WO1994007331A1 (en) * | 1992-09-15 | 1994-03-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Video multiplexing system |
| US5321684A (en) * | 1992-09-15 | 1994-06-14 | Sri International | Bidirectional sinusoidal scanning system |
| US5343458A (en) * | 1992-09-15 | 1994-08-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of storing digital video, audio and control information on an an optical storage medium |
| US5363200A (en) * | 1992-09-15 | 1994-11-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Buffering method and system for resonant scanner used to read and write data with respect to a storage medium |
| JPH09306030A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Sony Corp | 記録媒体 |
| US6191384B1 (en) | 1998-05-05 | 2001-02-20 | Tapematic S.P.A. | Apparatus for trimming dye coated on a recordable disc substrate and related method |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4069487A (en) * | 1974-12-26 | 1978-01-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording member and process for recording |
| FR2355337A1 (fr) * | 1976-06-18 | 1978-01-13 | Thomson Brandt | Procede de fabrication d'un support d'information inscriptible et lisible optiquement, et support ainsi obtenu |
| US4300143A (en) * | 1977-08-29 | 1981-11-10 | Rca Corporation | Thin protective overcoat layer for optical video disc |
| US4101907A (en) * | 1977-08-29 | 1978-07-18 | Rca Corporation | Overcoat structure for optical video disc |
| US4242689A (en) * | 1977-09-19 | 1980-12-30 | Rca Corporation | Ablative optical recording medium |
| WO1979000404A1 (en) * | 1977-12-19 | 1979-07-12 | Eastman Kodak Co | Medium for recording by thermal deformation |
| JPS5613534A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Toshiba Corp | Optical recording body and its manufacture |
| US4268840A (en) * | 1979-07-27 | 1981-05-19 | Xerox Corporation | Optical recording member |
| US4314262A (en) * | 1980-02-04 | 1982-02-02 | Xerox Corporation | Optical data recording medium |
| JPS5764596A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat mode recording material |
| US4446223A (en) * | 1982-06-24 | 1984-05-01 | Eastman Kodak Company | Recording and information record elements comprising oxoindolizine and oxoindolizinium dyes |
-
1984
- 1984-04-16 US US06/600,643 patent/US4538159A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-03 CA CA000460305A patent/CA1229915A/en not_active Expired
-
1985
- 1985-04-15 JP JP60078641A patent/JPS60253036A/ja active Pending
- 1985-04-15 DE DE8585302603T patent/DE3568887D1/de not_active Expired
- 1985-04-15 EP EP85302603A patent/EP0161809B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3568887D1 (en) | 1989-04-20 |
| US4538159A (en) | 1985-08-27 |
| EP0161809A1 (en) | 1985-11-21 |
| CA1229915A (en) | 1987-12-01 |
| EP0161809B1 (en) | 1989-03-15 |
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