JPS60254651A - Cmos回路の入力保護回路 - Google Patents

Cmos回路の入力保護回路

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Publication number
JPS60254651A
JPS60254651A JP59112493A JP11249384A JPS60254651A JP S60254651 A JPS60254651 A JP S60254651A JP 59112493 A JP59112493 A JP 59112493A JP 11249384 A JP11249384 A JP 11249384A JP S60254651 A JPS60254651 A JP S60254651A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
input protection
type
resistor
protection circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59112493A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Tosaka
登坂 高夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP59112493A priority Critical patent/JPS60254651A/ja
Publication of JPS60254651A publication Critical patent/JPS60254651A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H10D89/911—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using passive elements as protective elements

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、0M03回路の入力保護回路に関するもの
である。
〔従来技術〕
従来、この種の装置として第1図に示すものがあった。
第1図は従来の0M03回路の入力保護回路の一例を示
す。図において、P、NはCMOSインバータ10を構
成するP及びNチャネルMOSトランジスタ、D1〜D
3はダイオード、INは信号入力端子、A及びOUTは
上記インバータ10の人、出力端子、R1は端子IN、
A間に接続された入力保護抵抗である。なおVccは電
源端子、GNDは接地端子である。そして本回路におい
て、ダイオードDI、D2.D3と、抵抗R1とがイン
バータ0M03回路10の入力保護回路になっている。
第2図は第1図の入力保護回路のうち、ダイオードDI
、D2と抵抗R1とを示す構造断面図であり、図におい
て、22はN型半導体基板、21はP型拡散抵抗、23
は表面保護膜、24はN型高濃度拡散層、25は配線電
極である。
この第2図の構造によれば第1図のダイオードDIは必
然的に生じる寄生ダイオードであることが分かる。入力
保護回路としての役割からすれば、本来このダイオード
D1は不必要なものであり、入力にプラスのサージ電圧
が印加されたとき、あるいは入力電圧が電源電圧Vcc
よりも高い場合等に、入力端子INから電源端子Vcc
へ流れこむ電流を増加させるという有害な作用を持って
いる。
〔発明の概要〕
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除力保護抵
抗を形成することにより、入力端子と電源端子とを結ん
でいる本来的には不要な寄生ダイオードを除法すること
ができる0M03回路の入力保護回路を提供することを
目的としている。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第3図は本発明の一実施例による0M03回路の入力保
護回路を示す。
図において、第1図と同一符号は同じものを示す。D4
.D5は電源Vcc、接地端子GND間に直列接続され
たダイオード、R2は信号入力端子INとCMOSイン
バータ10の入力端子Bとの間に接続された入力保護抵
抗である。この第3図では、第1図のダイオードDIに
相当するものが除去されている。
第4図は第3図の抵抗R2の部分を示す構造断面図であ
る。図において、47はP型(第1導電型)の半導体基
板、42はN型(第2導電型)のエピタキシャル層で、
該エピタキシャル層42はP型分離拡散層46により複
数の島に分離され、そのうちの1つに入力保護抵抗とし
てのP型拡散抵抗41が形成されている。なお43は表
面保護膜、45は配線電極である。
なお図示していないが、P型分離領域46は、回路の最
低電位であるGND端子と接続することにより、N型エ
ピタキシャル層42の島は、P型分離拡散層46との間
にP−N接合の逆バイアス・構造を構成することとなり
、P型拡散抵抗41の周囲の領域42は、他のエピタキ
シャル領域42の島と分離される。
また第3図の入力保護回路のダイオードD4゜D5は、
第4図では図示していないが、P型拡散抵抗と別の島内
にそれぞれ形成される。
次に作用効果について説明する。
第4図の構造によれば、第2図の構造で寄生的に生ずる
ダイオードD1がないため、入力端子INから電源端子
Vccに流れこむ電流値を小さな値におさえることが容
易で、0M03回路の異常動作の原因となる有害なCM
O3回路中の寄生サイリスクに対する耐量を向上させる
ことができ、集積回路の設計が容易となる。
なお、上記実施例ではダイオードと抵抗からなる入力保
護回路について説明したが、トランジスタと抵抗からな
る入力保護回路に適用してもよく、上記実施例と同様の
効果を奏する。
また、上記実施例では半導体基板及び分離拡散層がP型
、エピタキシャル層がN型の場合について説明したが、
導電型がそれぞれ逆の場合であってもよく、上記実施例
と同様の効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、半導体基板上に分離形
成されたエピタキシャル層の1つの島の中に、他の素子
と分離して入力保護抵抗を形りするようにしたので、従
来必然的に生じていた入力端子と電源端子間の寄生ダイ
オードを除去することができ、本来の保護抵抗としての
働きを向上できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の0M03回路の入力保護回路の一実施例
を示す回路図、第2図は第1図の一部を示す構造断面図
、第3図は本発明の一実施例を示す回路図、第4図は第
3図の回路の一部を示す構造断面図である。 D’4.D5・・・ダイオード、P、 N・・・P、 
N型MOSトランジスタ、B・・・入力端子、IN・・
・信号入力端子、R2・・・入力保護抵抗、10・・・
インバータ(0M03回路) 、Vcc−電源端子、G
 N D ・・・接地端子、47・・・P型半導体基板
(第1導電型の半導体基板)、42・・・N型エピタキ
シャル層(第2導電型のエピタキシャル層)、46・・
・P型分離拡散層(第1導電型の分離拡散層)、41・
・・P型拡散抵抗。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 第1図 化2図 第3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 入力保護抵抗を有し0M08回路のラッチアッ
    プを防止する0M03回路の入力保護回路において、第
    1導電型の半導体基板上に形成された第2導電型のエピ
    タキシャル層は第1導電型の分離拡散層により複数の島
    に分離して形成され、上記抵抗は1つの核晶の中に他の
    素子と分離して形成されていることを特徴とする0M0
    3回路の入力保護回路。
JP59112493A 1984-05-30 1984-05-30 Cmos回路の入力保護回路 Pending JPS60254651A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2598852A1 (fr) * 1986-05-16 1987-11-20 Eurotechnique Sa Dispositif de protection d'entree pour circuits integres en technologie cmos.
JPS6393146A (ja) * 1986-10-08 1988-04-23 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置
US5324982A (en) * 1985-09-25 1994-06-28 Hitachi, Ltd. Semiconductor memory device having bipolar transistor and structure to avoid soft error

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4916391A (ja) * 1972-03-27 1974-02-13

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