JPS6032859A - 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 - Google Patents

活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物

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JPS6032859A
JPS6032859A JP14055783A JP14055783A JPS6032859A JP S6032859 A JPS6032859 A JP S6032859A JP 14055783 A JP14055783 A JP 14055783A JP 14055783 A JP14055783 A JP 14055783A JP S6032859 A JPS6032859 A JP S6032859A
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Masaki Niimoto
新本 雅樹
Hideyasu Ryoke
領家 英泰
Hideo Nakamoto
中本 英夫
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、紫外線等の活性エネルギー線照射により硬化
し得る活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
近年、省資源、省エネルギーの観点から、塗料業界にお
いて、紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射し硬
化塗膜を得る、所謂、UV−EB硬化型塗料が普及して
いる。UV−EB硬化型塗料は、常温で、瞬時に硬化し
、塗膜強度の高い塗膜が得られる反面、硬化時の体積収
縮が大きいために、得られる塗膜と基材との密着性が不
充分であるという欠点を有しており、種々の密着促進剤
や熱可塑性ポリマーを添加して使用しているのが現状で
ある。
しかし、密着促進剤や熱可塑性ポリマーを添加した場合
、耐湿性、耐熱性、耐水性等の環境試験を行なった場合
、経時的に密着性が低下する等の問題があり、密着促進
剤等の添加剤を使用せずとも良好な密着性を示す塗膜を
形成するUV−EB硬化型塗料の出現が強く望まれてい
る。
本発明者らは、上述の問題点を解決すべく、鋭意検討し
た結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の第一の活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物は、 (a)次式(1): (式中、Rは水素原子又はメチル基を表わし、nは 1
〜8の整数を表わす) で示される含窒素モノマー0.5〜50重量部と、該含
窒素モノマーと共重合可能な千ツマー50〜88.5重
量部との共重合体100重量部 及び (b)活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化
合物0.1〜30重量部 からなることを特徴とするものである。
また、本発明の第二の活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物は、 (a′) 前記式(I)で示される含窒素モノマー0.
5〜50爪昂部と、該含窒素モノマーと共重合可能な七
ツマー50〜99.5重量部との共重合体5〜98重量
部、 (b′)分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物
1〜85重量部 並びに (C’) 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生す
る化合物0.1〜30重量部 からなることを特徴とするものである。
本発明に用いる前記式(I)で示される含窒素モノマー
は、前記式(I)で示されるものであれば、如何なるも
のでもよいが、特に、2−(1−アジリジニル)エチル
メタクリレート、 2−(l−アジリジニル)エチルア
クリレ−I・が好ましい。
前記含窒素モノマーと共重合可能なモノマーとしては、 ■ α、β −エチレン系不飽和カルボン酸のアルキル
エステル及びヒドロキシアルキルエステル、 ■ ビニル共重合可能なジカルボン酸及び多価カルボン
酸並びにその無水物及びアルキルエステル、 ■ スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレ
ン、メチルスチレン、アクリロニトリル等のビニルモノ
マー、 ■ α、β −不飽和カルボン酸アミド並びにそのアル
キル置換体、ヒドロキシアルキル置換体及びアルコキシ
アルキル置換体 等が挙げられ、前記含窒素モノマーとの組み合わせによ
り、種々の特徴を有する共重合体を得ることができる。
かかる共重合体の形成に際し、用いる前記含窒素上ツマ
−と、該千ツマ−と共重合可能なモノマーとの使用割合
は、重量比で0.5〜50:!io〜98.5であるこ
とが必要である。前記含窒素モノマーの使用割合が前記
下限未満であると、該モノマーによる効果が不充分であ
り、前記上限を超えると、大幅なコストアップを招く。
前記共重合体の形成に適用される重合法としては、通常
使用される過酸化物、アゾ系等の任意の触媒を用いる懸
7M6重合法、塊状重合法、乳化重合法、溶液重合法等
が使用できるが、取り扱いの容易な溶液重合法が好適で
ある。
また、活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化
合物としては、次式(II):[Ra R’ b X]
c ・[M X’ d]−(d−e)(II )(式中
、Rは1価の芳香族有機基;R1は2価の芳香族有機基
;X及び×1は、それぞれ、1 、Br、CI、 F等
(7) ハtffゲン元素;Xは、sb、Fe、 Sn
、旧、A1、Ga、In、T1.Zr、SC,v、Cr
、Mn、 Cs等の遷移金属元素、La、 Ce、 P
r、 Nd等のランタニド元素、Th、 Pa、 U 
、Np等のアクチニド元素、B 、P 、 As等の元
素;aはO又は2の整数;bはO又はlの整数;eは2
〜7の整数であるhの原子価;dはeより大きな8まで
の整数;をそれぞれ表わし、a+bは2又は×の原子価
であり、c=d−eの関係にあり;[MX’ dl−(
d−e)で示される錯陰イオンの例としては、B F 
a−1pF、、−1AsF6−1S b F 、−1F
aCI4’−1SnCI6−2SbC16”、B i 
Cl 5’−等が挙げられる)で示される芳香族/\ロ
ニウム塩、 次式(■): (式中、M、X’、c、d、白は前記と同義であり;Y
は、ニトロ基、/\ロゲン元素、N−モルホリノ基、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミ7基、アリ
ールアミ7基、アルキルアミノ基、アリールメルカプト
基等を表わす)で示される芳香族ジアゾニウム塩及び錯
ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩等が挙げられるが
、錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩が発泡等の欠
点がなく好適である。
錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩としては、トリ
フェニルスルホニウムテトラフルオロポレート、トリフ
ェニルスルホニウムへキサフルオロアンチモネート、5
−フェニルジベンンチオフエニウムフルオロポレート、
フェナシルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、トリフェニルスルホニウムへキサフルオ
ロアルセネート等が挙げられる。
かかる活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化
合物の配合割合は;前述の本発明の第一の樹脂組成物に
おいては、前記共重合体((a)成分)100重量部に
対して、前述の本発明の第二の樹脂組成物においては、
前記共重合体((a’)成分)及び前記エポキシ化合物
((b’)の合計ioo重量部に対して:それぞれ0.
1〜30重量部であることが必要である。該化合物の配
合割合が前記下限未満であると、該化合物による効果が
不充分であり、前記上限を超えると、得られる樹脂組成
物の貯蔵安定性が不良となる。
本発明の第二の樹脂組成物において、(b′)成分とし
て用いるエポキシ化合物は、分子中に1個以上のエポキ
シ基を有する化合物であれば如何なるものでもよく、例
えば、 (i)2個のエポキシシクロアルキル基を有するエポキ
シドエステル (i)ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェ
ノールSのジグリシジルエーテル(ii)ポリエポキシ
化フェノールノボラック樹脂又はタレゾールノボラック
樹脂 (iv)多価アルコールのポリグリシジルエーテル(V
)シクロアルキル系炭化水素、アルキルシクロアルキル
系゛炭化水素又はエーテルのジェポキシド (vi)フェニルグリシジルエーテル、2−エチルへキ
シルグリシジルエーテル等の単官能グリシジルエーテル
類 等が挙げられる。
これらのうち、商業的に入手し得る前記エポキシドエス
テルとしては、3.4−エポキシシクロヘキシルメチル
3.4−エボキシシクロヘキサンカルボキシレ−1・(
ユニオンカーバイド社製、URL’−4221;チバガ
イギー社製、CY−179) 、 ビス(3,4−エポ
キシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート(
ユニオンカーバイド社製、 ERL−4289)及びビ
ス(3,4−エポキシシクロへキシルメチル)アジペー
ト(ユニオンカーバイド社製、 ERL−4299)等
が挙げられ、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル
としては、チバガイギー社のアラルダイト601O、ダ
ウケミカル社のDER331及びシェル化学社のエポン
828が挙げられる。
ポリエポキシ化フェノールノボラック樹脂は、ダウケミ
カル社DEN−431及び438等として、また、ポリ
エポキシ化クレゾールノボラック樹脂は、チパガイギー
社アダルダイト538等として入手可能である。
多価アルコールのポリグリシジルエーテルとしては、ブ
タン−1,4−ジオールに由来するものとして、チバガ
イギー社アラルダイトRD−2等が、また、グリセリン
に由来するものとして、シェル化学社エポン812等が
入手可能である。
更に、アルキルシクロアルキル系炭化水素のジエポキシ
ドは、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオンカー
バイド社製、ERL−42013)として。
また、シクロアルキルエーテルのジエボキシドは、ビス
(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル(ユニオ
ンカーバイド社製、URL−0400)として入手可能
である。
本発明の第二の樹脂組成物において、(a′)成分とし
て用いる前記共重合体と、(b′)成分として用いる前
記エポキシ化合物との配合割合は、重量比で5〜99:
1〜85であることが必要である・エポキシ化合物の配
合割合が前記上限を超えると、得られる塗膜の密着性が
低下し、前記下限未満であると、エポキシ化合物の添加
効果が不充分となる。
本発明の組成物には、上述した化合物以外に通常使用さ
れる添加剤、開始剤、着色剤、可塑剤、無機充填剤、重
合禁止剤等の任意成分を含めることができる。
また、本発明の組成物を硬化させる活性エネルギー線と
しては、γ線、紫外線、電子線、X線等が使用できるが
、好ましくは紫外線、電子線が挙げられる。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から得られ
た硬化物は、従来のものに比し、極めて優れた密着性及
び耐溶剤性を有する。
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説
明する。
[実施例1] 温度計、還流冷却器、攪拌器を付した2ノの三頚フラス
コに、酢酸エチル150g、l・ルエン350g、メタ
クリル酸メチル400g、2−(1−アジリジニル)エ
チルメタクリレート100g、α、α′−アゾビスイソ
ブチロニトリル5gを加え、外部から湯浴で加熱して攪
拌しなから80°Cに昇温し、重合率が10(Hとなる
ように重合を行ない、2−(1−アジリジニル)エチル
メタクリレートを構r&単位として含有した共重合体溶
液を得た。
この共重合体溶液200重量部(共重合体100重量m
 含有)に、トリノェニルスルホニウムへキサフルオロ
アンチモネート 5重量部を加え攪拌・混合した後、パ
ーコーターNo、22を用いて軟綱板上に塗布した。こ
の塗板を80°Cで10分間セツティングした後、80
W/cmの紫外線ランプを用いて照射距離10c+wで
30秒間照射したところ、塗膜は完全に硬化し、密着性
、耐溶剤性の優れた塗膜が得られた。
[実施例2] 実施例1と同様な装置を用いて重合を行ない、スチレン
/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/2−(1−
アジリジニル)エチルメタクリレート= 25/ 27
/ 20/ 8なる組成比(重量比)の酢酸ブチル/キ
シレン= 50/ 50溶液の共重合体を得た。
この共重合体溶液200重量部(共重合体100重量部
含有)に、トリフェニルスルホニウムへキサフルオロア
ル上ネート10重量部を加え、攪拌・混合した後、八−
コーターNo 、 22を用いて軟綱板上に塗布した。
この塗板を実施例1と同様にして硬化したところ、塗膜
は完全に硬化し、密着性、耐溶剤性の優れた塗膜が得ら
れた。
[比較例1] 実施例1で得られた共重合体溶液に何も添加せずに同様
に紫外線を照射したところ、密着性はある程度良好であ
るが耐溶剤性の劣る塗膜しか得られなかった。
[比較例21 実施例2で得られた共重合体溶液を、単に、軟綱板上に
塗布し、実施例2と同様に紫外線を照射したところ、密
着性は良好であるが耐溶剤性の劣る塗膜しか得られなか
った。
[実施例31 実施例1で得られた共重合体溶液 180重量部(共重
合体80重量部含有)に、3.4−エポキシシクロヘキ
シルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート(ユニオンカーバイド社製、 URL−4221
) 10重量部を混合した後、トリフェニルスルホニウ
ムへキサフルオaアンチモネート 5重量部を加え、攪
拌・混合した後、バーコーターNo、22を用いて軟綱
板上に塗布した。
この塗板を80℃で10分11JIセツテイングした後
、80W/cmの紫外線ランプをmmいて、照射距#1
0C11で30秒間照射したところ、塗膜は完全に硬化
し、密着性、耐溶剤性の優れた塗面が得られた。
[実施例41 実施例1で得られた共重合体溶液 100重量部(共重
合体50重量部含有)に、ビスフェノールAのジグリシ
ジルエーテル(シェル化学社製、エポン82B )’5
0重量部を混合した後、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネー) 5kM部を加え、攪拌・混
合した後、バーコーターNo。
22を用いて軟綱板上に塗布した。
この塗板を、実施例3と同様にして硬化したところ、密
着性、耐溶剤性の優れた塗膜が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(a)次式: (式中、 Rは水素原子又はメチル基を表わし、nは 
    1〜8の整数を表わす) で示される含窒素上ツマー0.5〜50重量部と、該含
    窒素モノマ、−と共重合可能な千ツマ−50〜98.5
    重量部との共重合体100重量部及び (b) 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する
    化合物0.1〜30重量部 からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂
    組成物。 2 含窒素モノマーが、次式: で示される化合物である特許請求の範囲第1項記載の活
    性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 3 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化合
    物が、錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩である特
    許請求の範囲第1項記載の樹脂組成物。 4 活性エネルギー線が、紫外線又は電子線である特許
    請求の範囲第1項記載の樹脂組成物。 5 (a’)次式 : (式中、 Rは水素原子又はメチル基を表わし、nは 
    1〜8の整数を表わす) で示される含窒素モノマー0.5〜50重量部と、該含
    窒素モノマーと共重合可能な千ツマ−50〜88.5重
    量部との共重合体5〜99重量部、(b′)分子中に1
    個以上のエポキシ基を有する化合物1〜85重量部 並びに (c’)活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する
    化合物0.1〜30重量部 からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂
    組成物。 6 含窒素モノマーが、次式 : で示される化合物である特許請求の範囲第5項記載の活
    性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 7 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化合
    物が、錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩である特
    許請求の範囲第5項記載の樹脂組成物。 8 活性エネルギー線が、紫外線又は電子線である特許
    請求の範囲第5項記載の樹脂組成物。
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