JPS603624A - 感光性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエツチングレジスト、メツキレシスト及び穴埋
めインクとして使用されるインキ組成物、特に紫外線照
射により硬化し、その硬化塗膜がアルカリ水溶液により
溶解除去可能な感光性インキ組成物に関する。
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射により硬化し、その硬化塗膜がアルカリ水溶液により
溶解除去可能な感光性インキ組成物に関する。
印刷回路板や部分メッキ製品の製造工程においては被印
刷物(銅張積層板)や被メッキ品にスクリーン印刷、オ
フセット印刷等の手法によりエツチングレジスト又はメ
ツキレシストとして成膜性の付キを印刷して所望のパタ
ーン*i’;膜を形成した後、酸性のエツチング液又は
メッーキ液に浸漬して塗膜の形成されていない露出7;
ts分をエツチング又はメッキし、ついでアルカリ水溶
液に浸漬して塗膜を除去する操作が行7cわれる。従っ
てこの株のインキには塗膜として1月酸性であること、
アルカリ水溶液で塗膜が1rzIJHに除去できること
が要求される。従来上としてエツチングレジストに用い
られて来たインキ+i:i、を酸物としてはロジン、マ
レイン敲変性ロジン、フェノールノゼラック樹脂等のア
ルカリ可C谷)コL樹脂を溶剤に溶解したものが知られ
ている。これらは溶剤を揮発させて塗膜の形成ヶ行りも
ので、一般には熱乾燥型エツチングレジストと呼ばれて
いる。このタイプのエツチングレジストは比較的解像性
は良いが鉛蔽硬度がHB以下ど低いため、印刷回路基板
加工工程において傷か入り易く、この為、断線不良も起
り易い。又印刷工程においてはインキ中の溶剤が揮発し
て枯度が上昇したり、スクリーン印刷の場合はスクリー
ンが乾燥して目詰りが起り、印刷パターンにピンホール
やカスレ等が生じて鮮明な回路パターンが得られ難い。
刷物(銅張積層板)や被メッキ品にスクリーン印刷、オ
フセット印刷等の手法によりエツチングレジスト又はメ
ツキレシストとして成膜性の付キを印刷して所望のパタ
ーン*i’;膜を形成した後、酸性のエツチング液又は
メッーキ液に浸漬して塗膜の形成されていない露出7;
ts分をエツチング又はメッキし、ついでアルカリ水溶
液に浸漬して塗膜を除去する操作が行7cわれる。従っ
てこの株のインキには塗膜として1月酸性であること、
アルカリ水溶液で塗膜が1rzIJHに除去できること
が要求される。従来上としてエツチングレジストに用い
られて来たインキ+i:i、を酸物としてはロジン、マ
レイン敲変性ロジン、フェノールノゼラック樹脂等のア
ルカリ可C谷)コL樹脂を溶剤に溶解したものが知られ
ている。これらは溶剤を揮発させて塗膜の形成ヶ行りも
ので、一般には熱乾燥型エツチングレジストと呼ばれて
いる。このタイプのエツチングレジストは比較的解像性
は良いが鉛蔽硬度がHB以下ど低いため、印刷回路基板
加工工程において傷か入り易く、この為、断線不良も起
り易い。又印刷工程においてはインキ中の溶剤が揮発し
て枯度が上昇したり、スクリーン印刷の場合はスクリー
ンが乾燥して目詰りが起り、印刷パターンにピンホール
やカスレ等が生じて鮮明な回路パターンが得られ難い。
更に硬化塗膜を得る為には80℃で3〜5分程度の乾燥
が必要となり、この為エネルギーの損失や溶剤による引
火の危険性及び環境汚染等の問題が残る。そこでこれら
の欠点を解消する為、近年・7、雪外線硬化型のインキ
が提案されている(特開昭56−8417号公+1)。
が必要となり、この為エネルギーの損失や溶剤による引
火の危険性及び環境汚染等の問題が残る。そこでこれら
の欠点を解消する為、近年・7、雪外線硬化型のインキ
が提案されている(特開昭56−8417号公+1)。
しかしこの提案のインキ組成物ではスチレン−マレイン
酸共重合体を使用していることから、臭気が強い上、目
、鼻等の粘膜に強い刺激を与えるので好ましくない。ま
た経時的にインキの粘度変化が生じたり、硬化条件によ
りアルカリ水溶液に対する硬化塗膜の溶解度が減少して
1影潤剥離を起すなどの欠点もあり、十分に満足し得る
ものではない。
酸共重合体を使用していることから、臭気が強い上、目
、鼻等の粘膜に強い刺激を与えるので好ましくない。ま
た経時的にインキの粘度変化が生じたり、硬化条件によ
りアルカリ水溶液に対する硬化塗膜の溶解度が減少して
1影潤剥離を起すなどの欠点もあり、十分に満足し得る
ものではない。
本発明の目的は臭気や粘膜に対する刺激が少なく、経時
によるインキの特性変化や硬化条件による塗膜の特性変
化も少なく、しかも耐酸性に優れ、印刷特性が良好で、
且つ硬度の高い硬°化塗膜を形成し得るアルカリ溶解型
紫外線硬化型感光性インキ組成物ン提供することである
。
によるインキの特性変化や硬化条件による塗膜の特性変
化も少なく、しかも耐酸性に優れ、印刷特性が良好で、
且つ硬度の高い硬°化塗膜を形成し得るアルカリ溶解型
紫外線硬化型感光性インキ組成物ン提供することである
。
本発明の′感光性組成物は(a)分子量が2000以下
のノゼラック樹脂と(b1分子内に少くとも1個のアル
コール性水酸基及び1個の重合性二重結合を有する化合
物と(C1光沌合開始剤とを主成分とするもので、紫外
線により硬化し、且つこの硬化部が水性アルカリに可溶
であることを特徴とするものである。
のノゼラック樹脂と(b1分子内に少くとも1個のアル
コール性水酸基及び1個の重合性二重結合を有する化合
物と(C1光沌合開始剤とを主成分とするもので、紫外
線により硬化し、且つこの硬化部が水性アルカリに可溶
であることを特徴とするものである。
本発明の感光性組成物は硬化堕膜が耐r戊性に優れ、且
つアルカリ可溶であることから、エツチングレジストや
メツキレシスト及び穴埋めインクとしてば力)りでなく
、このようン工イ快化1Z、ミm:’;+。
つアルカリ可溶であることから、エツチングレジストや
メツキレシスト及び穴埋めインクとしてば力)りでなく
、このようン工イ快化1Z、ミm:’;+。
の特性を利用したあらゆる用途に適用できる。
本発明に使用される(a)のノボラックaJ ]i’J
とは水性アルカリに可溶のフェノール樹脂、クレゾール
樹脂及びアルキルフェノール位(脂をいう。 へ分子量
は2000以上では硬化が悪くなるので、2000以下
が好ましい。
とは水性アルカリに可溶のフェノール樹脂、クレゾール
樹脂及びアルキルフェノール位(脂をいう。 へ分子量
は2000以上では硬化が悪くなるので、2000以下
が好ましい。
(b)の分子内に少くとも1個のアルコール性水酸基及
び1個の二重結合な有する化合物としては2−ヒドロキ
シメチ迭アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒト90キシプロピルアクリレート、3−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
クロルプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルア
クリレート、ジエチレングリコール七ノアクリレート及
びこれらに対応するブタン1)レートが挙げられる。添
加縫は(a)成分に対し20〜70wt、係が好ましく
、こθ〕範囲以外でQ家?匣(ヒ性が悪く、硬化塗膜の
l104エツチング性も8X−・。
び1個の二重結合な有する化合物としては2−ヒドロキ
シメチ迭アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒト90キシプロピルアクリレート、3−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
クロルプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルア
クリレート、ジエチレングリコール七ノアクリレート及
びこれらに対応するブタン1)レートが挙げられる。添
加縫は(a)成分に対し20〜70wt、係が好ましく
、こθ〕範囲以外でQ家?匣(ヒ性が悪く、硬化塗膜の
l104エツチング性も8X−・。
次に(c)の光重合開始剤としてはペンツ°イン、ブチ
ロイン、アセトイン等のα−刀ルゼニルアルコール類;
ベンゾインメチルニー・チル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ペンゾインインフ”ロビルエーテル、ペンゾインイ
ソフ′チルエーテル、ビバロインエチルエーテル等ノア
シロインエーテル頌;ジアセチル、ジペンソ9イル、ジ
フェニルケトン、フェニルグリオキサール、2.3−ペ
ンメジオン、1−フェニルブタン−1,2−ジオン、2
,3−オクタジオン、ジフェニルトリケトン等の隣接ポ
リケトン化合物頷;ベンゾフェノン、′ω−ブロムアセ
トフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノン、4′−イソプロビル−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、p −tert−ブチルトリクロロ
アセトフェノン、p −tart−ブチルモノクロロア
セトフェノン、2 、2’−ジェトキシアセトフェノン
、4 、4’−ビス−ジアルキルアミノベンゾフェノン
、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等
のフェノン’fA %が2hげられる。
ロイン、アセトイン等のα−刀ルゼニルアルコール類;
ベンゾインメチルニー・チル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ペンゾインインフ”ロビルエーテル、ペンゾインイ
ソフ′チルエーテル、ビバロインエチルエーテル等ノア
シロインエーテル頌;ジアセチル、ジペンソ9イル、ジ
フェニルケトン、フェニルグリオキサール、2.3−ペ
ンメジオン、1−フェニルブタン−1,2−ジオン、2
,3−オクタジオン、ジフェニルトリケトン等の隣接ポ
リケトン化合物頷;ベンゾフェノン、′ω−ブロムアセ
トフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノン、4′−イソプロビル−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、p −tert−ブチルトリクロロ
アセトフェノン、p −tart−ブチルモノクロロア
セトフェノン、2 、2’−ジェトキシアセトフェノン
、4 、4’−ビス−ジアルキルアミノベンゾフェノン
、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等
のフェノン’fA %が2hげられる。
以上の(a)、(b)、(C)3成分の端的な割合は使
用目的によって若干変動するが、(a)成分については
(bl成分に対して30〜70wt、憾、(b)成分に
ついては(a)成分に対して30〜70 wL、 4、
(c)成分については(al +(b)の合計敬に対し
て2〜15 wt、 %が適当である。(&)成分の割
合力’ib)成分に対して30wt、%以下か70 w
t、4以上では硬化速度が遅くなったり内部硬化不良を
起して耐薬品性が不十分と1よる。また(c1成分の割
合が2 wt0%以下では硬化速度が遅くなる上、内部
硬化不良を起して塗膜の耐薬品性が悪くなる。
用目的によって若干変動するが、(a)成分については
(bl成分に対して30〜70wt、憾、(b)成分に
ついては(a)成分に対して30〜70 wL、 4、
(c)成分については(al +(b)の合計敬に対し
て2〜15 wt、 %が適当である。(&)成分の割
合力’ib)成分に対して30wt、%以下か70 w
t、4以上では硬化速度が遅くなったり内部硬化不良を
起して耐薬品性が不十分と1よる。また(c1成分の割
合が2 wt0%以下では硬化速度が遅くなる上、内部
硬化不良を起して塗膜の耐薬品性が悪くなる。
一方(c)成分の割合が15%以上では特性の向上が見
られず不経済である。
られず不経済である。
本発明の組成物には通常この分野で使用される各種添加
物、例えば改質剤、粘度調整剤、アルカリ除去促進剤、
充填剤、チクソトロピー剤、レベリング剤、着色剤、熱
重合禁止剤、消泡剤等を添加することができる。
物、例えば改質剤、粘度調整剤、アルカリ除去促進剤、
充填剤、チクソトロピー剤、レベリング剤、着色剤、熱
重合禁止剤、消泡剤等を添加することができる。
改質剤としてはキシレン樹脂、ロジン、ロジン変性樹脂
、アクリル系共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体
等がある。これらの使用量は組成I吻に対して1〜30
wt、 4であり、主としては膜の密着性、レベリン
グ、耐薬品性等の同上を目的として添加される。
、アクリル系共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体
等がある。これらの使用量は組成I吻に対して1〜30
wt、 4であり、主としては膜の密着性、レベリン
グ、耐薬品性等の同上を目的として添加される。
粘度MLf4整剤としてはメトキシエチルアクリレート
、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロア
クリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチル
アクリレート、シクロヘキ′シルアクリレート、カルピ
トールアクリレート及びこれらに相当するメタクリレー
トが挙げられる。これらの使用量は組成物に対して通常
20 wt、 4以下である。アルカリ除去促進剤、塗
膜硬度の向上剤としてはイタコ/■♀、メチルへキサヒ
ドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−
メチルテトラヒドロフiA’H% コハク9、メチルへ
Φサヒドロフタル酸及びそれらの酸無水物と2−ヒドロ
キシエチルアクリレート(又はメタクリレート)或いは
2−ヒドロキシエチルアクリレート(又はメタクリレー
ト)等、分子内に少くとも1個のアルコール性水酸基及
び1個の重合性二重結合を有する化合物等とで形成され
るモノエステル化物が挙げられる。これらの使用量は組
成物に対して通常40 wt、4以下である。
、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロア
クリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチル
アクリレート、シクロヘキ′シルアクリレート、カルピ
トールアクリレート及びこれらに相当するメタクリレー
トが挙げられる。これらの使用量は組成物に対して通常
20 wt、 4以下である。アルカリ除去促進剤、塗
膜硬度の向上剤としてはイタコ/■♀、メチルへキサヒ
ドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−
メチルテトラヒドロフiA’H% コハク9、メチルへ
Φサヒドロフタル酸及びそれらの酸無水物と2−ヒドロ
キシエチルアクリレート(又はメタクリレート)或いは
2−ヒドロキシエチルアクリレート(又はメタクリレー
ト)等、分子内に少くとも1個のアルコール性水酸基及
び1個の重合性二重結合を有する化合物等とで形成され
るモノエステル化物が挙げられる。これらの使用量は組
成物に対して通常40 wt、4以下である。
充填剤としてはメルク、硫酸バリウム、クレー、シリカ
等がある。これらの使用量は組成物に対して通常1〜5
0 wt、 %である。
等がある。これらの使用量は組成物に対して通常1〜5
0 wt、 %である。
チクソトロピー剤としてはアエロシールナ100アエロ
シール≠200、アエロシールR−972(日本アエロ
ジル(株)iAA)のシリカ系化合物やオルガナイ)A
((株)豊順洋行製)のようなモンモリナイトの有機塩
基複合体等がある。これらの使用量は組成物に対し通常
1〜5wt、%である。
シール≠200、アエロシールR−972(日本アエロ
ジル(株)iAA)のシリカ系化合物やオルガナイ)A
((株)豊順洋行製)のようなモンモリナイトの有機塩
基複合体等がある。これらの使用量は組成物に対し通常
1〜5wt、%である。
着色剤としてはフタロシアニン系、スレン系等の顔料及
びメチルバイオレット、メチレンブルー等の染料がある
。これらの使用量は組成物に対し通常02〜3wt−%
である。
びメチルバイオレット、メチレンブルー等の染料がある
。これらの使用量は組成物に対し通常02〜3wt−%
である。
SXCXC合剤止剤てはノ〜イドロキノン、p−メトキ
シフェノール、塩化第一銅、ナフチルアミン等がある。
シフェノール、塩化第一銅、ナフチルアミン等がある。
これらの使用量は組成物に対し通常0.001〜0.1
wt、係である。
wt、係である。
消泡剤としては TSA−720,TSA−750゜Y
SA−02(東芝シリコン(株)製)等のシリコーン系
消泡剤や弗素系界面活性剤がある。これらの使用量は組
成物に対し曲常0.5− 2 wt、 %である。
SA−02(東芝シリコン(株)製)等のシリコーン系
消泡剤や弗素系界面活性剤がある。これらの使用量は組
成物に対し曲常0.5− 2 wt、 %である。
以下に本発明を実施例によって(に詳νもず・ニン。
フェノールノゼヲツク樹脂の合成:
フェノール類 50 50
ホルマリン 47 47
蓚 酸 1.3 1.8
塩 酸 1.2 i、 2
製造方法:
マスフェノール類とホルマリン′とf^FIZとを反応
器に仕込み、還流温度で60分間反応させ、次に塩酸を
加えてさらに35分間縮合させる。
器に仕込み、還流温度で60分間反応させ、次に塩酸を
加えてさらに35分間縮合させる。
冷水を多量添加して反応を停止し、30分曲fil(置
する。次に減圧脱水を行ない、その後、Cットに得られ
た樹脂液を流して固まらせる。
する。次に減圧脱水を行ない、その後、Cットに得られ
た樹脂液を流して固まらせる。
実施例1
下記処決の感光性組成物を調製しtこ。
ノエノールノボラツク樹脂(合成例2) 30wt、%
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 30 〃フタロ
シアニンブル−〇、5 wt、qb2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオフェノン 3 〃硫酸バリウム 36
.5 tt 比紋例1 実施例1に2いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
トのみをカルピトールアクリレートに変えて感光性組成
物を調製した。
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 30 〃フタロ
シアニンブル−〇、5 wt、qb2−ヒドロキシ−2
−メチルプロピオフェノン 3 〃硫酸バリウム 36
.5 tt 比紋例1 実施例1に2いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
トのみをカルピトールアクリレートに変えて感光性組成
物を調製した。
比較例2
実施例2に訃いて 2−ヒドロキシエチルメタクリレー
トのみを1,3−プクンジオールアクリレートに変えて
感光性組成物を調製した。
トのみを1,3−プクンジオールアクリレートに変えて
感光性組成物を調製した。
実施例2
下記処決の感光性組成物を調製した。
フェノールノボラック樹脂(合成例1) 20wt、4
2−メメクロキシエチルアシット’−+ナヒドロフタレ
ート 10 〃2〜ヒドロキシプロピルアクリレート
40 〃フタロシアニンブルー 0.5〃 2.2−ジェトキシアセトフェノン 5 〃モダフロー
(モンサント社製しベリンク剤) 3 、ttシリカ
24.5 7/ 比較例3 実施例2において、2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートのみをベンジルアクリレートに変えて感光性組成物
を調製し4こ。
2−メメクロキシエチルアシット’−+ナヒドロフタレ
ート 10 〃2〜ヒドロキシプロピルアクリレート
40 〃フタロシアニンブルー 0.5〃 2.2−ジェトキシアセトフェノン 5 〃モダフロー
(モンサント社製しベリンク剤) 3 、ttシリカ
24.5 7/ 比較例3 実施例2において、2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートのみをベンジルアクリレートに変えて感光性組成物
を調製し4こ。
比較例4
実施例2において、2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ートのみをテトラエチレングリコールに変えて感光性組
成物を調製した。
ートのみをテトラエチレングリコールに変えて感光性組
成物を調製した。
次に以上の感光性組成物をインキとして苗(T’な銅張
積層板にスクリーン印刷により20μnLの膜厚となる
よう印刷塗布し、これを強凡80W/cIrLのオゾン
レス集光型高圧水銀灯を” 16j 1!:’iiえた
紫外線硬化炉中、sm/分の速度でNyx j:ilJ
きせながら、照射距離10CrILで紫外線照射して?
fミ膜を硬化させ、この硬化塗膜について鉛”ill
4Qi、!p:、’l、アルカリ浴解性及び耐エツチン
グ性な試J6 した。
積層板にスクリーン印刷により20μnLの膜厚となる
よう印刷塗布し、これを強凡80W/cIrLのオゾン
レス集光型高圧水銀灯を” 16j 1!:’iiえた
紫外線硬化炉中、sm/分の速度でNyx j:ilJ
きせながら、照射距離10CrILで紫外線照射して?
fミ膜を硬化させ、この硬化塗膜について鉛”ill
4Qi、!p:、’l、アルカリ浴解性及び耐エツチン
グ性な試J6 した。
また感光性組成物(インキ)についてもイ’、+:存安
定性を試験した。これらの試験方法は下記のと 1おり
である。
定性を試験した。これらの試験方法は下記のと 1おり
である。
鉛筆硬度:
硬化塗膜試片の塗膜上に市販の鉛筆(三菱鉛筆(株)製
ユニ)を当てその上に1ゆの荷重をかけて塗膜に傷が入
った時の硬度をめる。
ユニ)を当てその上に1ゆの荷重をかけて塗膜に傷が入
った時の硬度をめる。
アルカリ溶解性:
硬化塗膜試片の塗膜面に39g水酸化ナトリウムを吹き
付けて塗膜が溶解する迄の時間をめる。
付けて塗膜が溶解する迄の時間をめる。
耐エツチング液性:
塩化第一銅40wt、係、塩酸10 wt、チ及び水5
0 wt0%よりなる50℃のエツチング液に硬化塗膜
試片な30分間浸漬し、塗膜の状態を目視で観察する。
0 wt0%よりなる50℃のエツチング液に硬化塗膜
試片な30分間浸漬し、塗膜の状態を目視で観察する。
保存安定性:
感光性組成物50gを容器50ccの茶色のポリ容器に
入れ、70℃の恒温槽中に放置して組成物がゲル化する
迄の時間をめる。
入れ、70℃の恒温槽中に放置して組成物がゲル化する
迄の時間をめる。
試験結果は下表の通りである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)分子量が2000以下のノゼラツク樹脂と(
b)分子内に少くとも1個のアルコール性水酸基及び1
個の重合性二重結合を有する化合物と(e)光重合開始
剤とを主成分とする感光性組成物。 2、光1合開始剤がフ二ノン系である特許請求の範囲第
1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233483A JPS603624A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233483A JPS603624A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603624A true JPS603624A (ja) | 1985-01-10 |
| JPH0336210B2 JPH0336210B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=14584077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11233483A Granted JPS603624A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603624A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1150165A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | JSR Corporation | Radiation sensitive resin composition for forming barrier ribs for an el display element, barrier ribs and el display element |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55127097A (en) * | 1979-03-20 | 1980-10-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Photocurable resin composition and solder resist |
| JPS5825371A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-15 | Toyobo Co Ltd | 紫外線硬化型印刷回路用インキ組成物 |
-
1983
- 1983-06-22 JP JP11233483A patent/JPS603624A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55127097A (en) * | 1979-03-20 | 1980-10-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Photocurable resin composition and solder resist |
| JPS5825371A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-15 | Toyobo Co Ltd | 紫外線硬化型印刷回路用インキ組成物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1150165A1 (en) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | JSR Corporation | Radiation sensitive resin composition for forming barrier ribs for an el display element, barrier ribs and el display element |
| KR20010098809A (ko) * | 2000-04-25 | 2001-11-08 | 마쯔모또 에이찌 | El 표시 소자의 격벽 형성용 감방사선성 수지 조성물,격벽 및 el 표시 소자 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0336210B2 (ja) | 1991-05-30 |
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