JPS6037462B2 - 欠陥パタ−ン修正装置 - Google Patents

欠陥パタ−ン修正装置

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Publication number
JPS6037462B2
JPS6037462B2 JP51104097A JP10409776A JPS6037462B2 JP S6037462 B2 JPS6037462 B2 JP S6037462B2 JP 51104097 A JP51104097 A JP 51104097A JP 10409776 A JP10409776 A JP 10409776A JP S6037462 B2 JPS6037462 B2 JP S6037462B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
pattern
defective
stage
pattern correction
Prior art date
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Expired
Application number
JP51104097A
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English (en)
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JPS5329806A (en
Inventor
雅人 中島
勝美 藤原
雄史 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5329806A publication Critical patent/JPS5329806A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プリント基板にパターンを焼き付ける際に用
いるマスクパターンの欠陥部分を修正する欠陥パターン
修正装置に関する。
混成集積回路やプリント配線板を製造する際に使用する
フオトマスクは、感光性フィルムにマスクのパターンを
焼き付けて現像したものである。
又焼き付けの際に使用するマスクは、縮小カメラで撮影
して感光性フィルム等の上にパターンを形成したもので
ある。ところで、マスクパターンを現像する際或はマス
クの取り扱い中にパターンを損傷させると、この欠陥部
分はプリント基板上に現われるため、マスクを使用する
際にマスクのパターンを検査するものである。
そして欠陥部分があった場合には、これを修復しなけれ
ばならない。従釆は、マスクを顕微鏡で調べ、欠陥部分
を修正ペンを用いて人手で塗りつぶしていた。
このため修正に多くの時間を要するほか、可成りの熟練
を要するという不都合があった。本発明は、上述の如き
従来の欠点を改善する新規な発明であり、その目的は、
欠陥パターン部分を迅速・正確かつ簡単に修正すること
ができるような欠陥パターン修正装置を提供することに
ある。
その目的を達成せしめるため、本発明の欠陥パターン修
正装置は、欠陥パターンを含む試料を載層するステージ
と、インクの微粒子を噴射するインク噴射装置とを備え
、ステージ上に載層された試料の欠陥パターン部分にイ
ンクの微粒子を噴射して欠陥パターンを修正することを
特徴とするもので、以下実施例について詳細に説明する
図は、本発明に係る一実施例の構成図であり、1は大地
に固定されたステージで、その中央に点線で示すような
孔2を設けている。3は、ステージー上において×方向
およびY方向に移動する移動台で、その中央には点線で
示すようにステージ1に設けた孔2と運通する孔4を設
ける。
5は移動台3の孔4上に置かれた試料、6は移動台3を
×方向に移動させるモータ、7は移動台3をY方向に移
動させるモータ、8はインク噴射装置、9はインク噴射
装置8およびモータ6,7を制御する制御部、10‘ま
テレビカメラで、インク噴射装置からインクの微粒子が
噴射される方向の真下に配置されている。
11はテレビモニ夕で、テレビカメラ9で撮像した映像
をブラウン管12上に表示する。
なお、ブラウン管11上には、インク噂射装置8から噴
射されるインクの微粒子の噴射位置を線13および線1
4の交点で表示してある。次に動作について説明する。
まず、操作者が制御部9に指示を与えてモータ6および
7を動作させ、移動台3を動かして試料5を端から順次
テレビカメラ10で撮像し、試料の画像をテレビモニタ
11のブラウン管12上に表示する。
そして、操作者はブラウン管12上に映し出されたパタ
ーンを目視し、欠陥部分が発見されたならば、いったん
移動台3の動きを止め、次にモータ6および7を微動さ
せて欠陥部分15を線13および14の交点に移動させ
る。この位置は、ちようどインク噴射装置8の真下であ
る。
この状態でインク噴射装置8からインクの微粒子を試料
5に噴射すると、インクの微粒子は欠陥部分15に付着
し、欠陥部分15を塗りつぶして欠陥部分を修正する。
欠陥部分の面積が大きく、1個のインクの微粒子だけで
は塗りつぶすことができないときは移動台3をさらに移
動させて再度インクの微粒子を噴射すればよい。なお、
インク噴射装置8からのインクの微粒子は、連続的ある
いは単発的の発射も可能であるので、円形ないし線状の
欠陥も修正できるし、また、電気的にインクの微粒子の
直径を制御することも可能であるので、小さい欠陥たと
えば直径数十〔仏m〕程度の欠陥部分もインクを余分に
塗布することなしに修正できる。
上記実施例は、テレビモニタ11に表示されるパターン
を目視しながらの修正であるが、次のように修正を自動
的に行なうこともできる。
まず、パターン自動検査装置を使用するかあるいは顕微
鏡検査などであらかじめ試料5の欠陥位置を調査してお
き、この欠陥位置情報を制御部9に加え、その情報をも
とに移動台3を自動的に移動させてインク噴射装置8の
真下に欠陥部分を位置させ、インク噴射装置8からイン
クの微粒子を噴射させて欠陥部分を自動的に修正するこ
ともできる。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、シルク・
スクリーン、ステンレス・スクリーンへパターンを焼き
付けるときに使用するマスク材などの試料の欠陥部分を
人手によらずインクジェットで修正できるので、作業性
の改善がはかれるばかりか、インクの微粒子の直径、単
発噴射あるいは連続噴射を自由に使いわけることができ
るので、複雑な欠陥部分の修正も迅速・簡単にできるし
、また人手による修正のようにパターンからのはみだし
などのミスは皆無になるなど多くの効果を有するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
図は、本発明の一実施例の構成図である。 図において、1はステージ、2は孔、3は移動台、4は
孔、5は試料、8はインク噴射装置、9は制御部、1川
まテレビカメラ、11はテレビモニタである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 欠陥パターンを含む試料を載置するステージと、イ
    ンクの微粒子を噴射するインク噴射装置とを備え、ステ
    ージ上に載置された試料の欠陥パターン部分にインクの
    微粒子を噴射して欠陥パターンを修正することを特徴と
    する欠陥パターン修正装置。
JP51104097A 1976-08-31 1976-08-31 欠陥パタ−ン修正装置 Expired JPS6037462B2 (ja)

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JP51104097A JPS6037462B2 (ja) 1976-08-31 1976-08-31 欠陥パタ−ン修正装置

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JPS5329806A JPS5329806A (en) 1978-03-20
JPS6037462B2 true JPS6037462B2 (ja) 1985-08-26

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0513870U (ja) * 1991-08-07 1993-02-23 アラコ株式会社 リアウインドの雨滴除去装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58115898U (ja) * 1982-01-30 1983-08-08 株式会社島津製作所 誘導電動機用可変電圧・可変周波数インバ−タ
JPS5946647A (ja) * 1982-09-09 1984-03-16 Toppan Printing Co Ltd 画像修正装置
JPH0695209B2 (ja) * 1986-10-17 1994-11-24 東洋インキ製造株式会社 製版方法

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