JPS6037580B2 - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
- Publication number
- JPS6037580B2 JPS6037580B2 JP50116517A JP11651775A JPS6037580B2 JP S6037580 B2 JPS6037580 B2 JP S6037580B2 JP 50116517 A JP50116517 A JP 50116517A JP 11651775 A JP11651775 A JP 11651775A JP S6037580 B2 JPS6037580 B2 JP S6037580B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode ray
- ray tube
- light
- film
- face plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
一般に、陰極線管のけし、光面は、フェースプレートの
内面にけし、光体粒子を積層し、レナい光膜層を形成し
て製作される。
内面にけし、光体粒子を積層し、レナい光膜層を形成し
て製作される。
その方法には沈降法、スラリ一法、ダスティング法など
種々のものがあり、とくにカラー受像管の場合は露光、
現像などいわゆるフオトリソグラフィックな方法が適用
されている。しかしいずれの方法によっても、第１図に
示す如くマナし、光膜層３は数ミクロン〜１項敦ミクロ
ンのけし、光体粒子が数層にわたって損層したものであ
り、フェースプレート１のガラス表面とげい光膜層３と
の接触は粒子による点接触であり、フェースプレートと
げし、光膜層との界面には多くの空隙４が存在し、両者
は光学的に密な接触（オプチカルコンタクト）からは程
遠いものである。したがって、電子線によりけし、光体
が励起され発光が生じても、フェースプレート内に光が
進入する場合、フェースプレートとげい光粒子間の空間
（真空状態）４を経由し、しかも両者の光学的密度の差
が大きいため矢印で示した如く光の反射が生じフェース
プレート内に進入する光量はその分だけ損失を招くこと
になる。たとえ多重反射の結果進入が生じたとしても、
本質的な光の減少は防止できず、それだけけし、光膜の
実効上の発光を低下させることになる。陰極線管の品質
としてマナし、光膜の明るさ向上は極めて重要な因子で
ある事実から、このような従来のけし、光膜形成法の欠
陥は無視できるものではない。本発明は、この問題を解
消しより明るいムナし、光膜を有する陰極線管に係るも
ので、以下その内容を説明する。
種々のものがあり、とくにカラー受像管の場合は露光、
現像などいわゆるフオトリソグラフィックな方法が適用
されている。しかしいずれの方法によっても、第１図に
示す如くマナし、光膜層３は数ミクロン〜１項敦ミクロ
ンのけし、光体粒子が数層にわたって損層したものであ
り、フェースプレート１のガラス表面とげい光膜層３と
の接触は粒子による点接触であり、フェースプレートと
げし、光膜層との界面には多くの空隙４が存在し、両者
は光学的に密な接触（オプチカルコンタクト）からは程
遠いものである。したがって、電子線によりけし、光体
が励起され発光が生じても、フェースプレート内に光が
進入する場合、フェースプレートとげい光粒子間の空間
（真空状態）４を経由し、しかも両者の光学的密度の差
が大きいため矢印で示した如く光の反射が生じフェース
プレート内に進入する光量はその分だけ損失を招くこと
になる。たとえ多重反射の結果進入が生じたとしても、
本質的な光の減少は防止できず、それだけけし、光膜の
実効上の発光を低下させることになる。陰極線管の品質
としてマナし、光膜の明るさ向上は極めて重要な因子で
ある事実から、このような従来のけし、光膜形成法の欠
陥は無視できるものではない。本発明は、この問題を解
消しより明るいムナし、光膜を有する陰極線管に係るも
ので、以下その内容を説明する。
その骨子は第２図および第３図に示するようにフェース
プレートーの内面に先ず反射防止膜２を予め形成してお
き、その上に従来の方法でけし、光腹層３を形成するも
ので、反射防止膜の形成法は蒸着、溶液塗布、気相反応
等いずれの方法でもよく、発光色に応じて光学的密度、
光学的厚さを制御すればよく、そのため、多層膜を形成
することも含まれる。またカラー受像管などのように三
原色発光をするものでは各色毎に夫々に最適の反射防止
膜を分割して形成してもよく、あるいはパンク。マラィ
ックな防止層を全面に連続して形成してもよい。このよ
うな方法によれば、けし・光体から発光を効率よくフェ
ースプレートガラスにとり込むことができ、その分だけ
明るいレナい光面を有する陰極線管を製作することが可
能になる。以下実施例を述べる。実施例 １ フェースプレート内面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２
）を蒸着し、厚さ約１０００Ａの膜を形成する。
プレートーの内面に先ず反射防止膜２を予め形成してお
き、その上に従来の方法でけし、光腹層３を形成するも
ので、反射防止膜の形成法は蒸着、溶液塗布、気相反応
等いずれの方法でもよく、発光色に応じて光学的密度、
光学的厚さを制御すればよく、そのため、多層膜を形成
することも含まれる。またカラー受像管などのように三
原色発光をするものでは各色毎に夫々に最適の反射防止
膜を分割して形成してもよく、あるいはパンク。マラィ
ックな防止層を全面に連続して形成してもよい。このよ
うな方法によれば、けし・光体から発光を効率よくフェ
ースプレートガラスにとり込むことができ、その分だけ
明るいレナい光面を有する陰極線管を製作することが可
能になる。以下実施例を述べる。実施例 １ フェースプレート内面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２
）を蒸着し、厚さ約１０００Ａの膜を形成する。
そして従公知の方法でけし、光塗布、メタルバック等の
所定の工程を経て陰極線管を形成した。その結果、白黒
、カラーいずれの受像管においても２％以上の明るさ向
上ができた。実施例 ２ フェースプレート１内面にフツ化カルシウム（ＣａＦ２
）を蒸着し厚さ約１１００Ａの膜を形成し、実施例１と
同様に陰極線管を形成した結果、白黒、カラーいずれの
受像管においても３％以上の明るさ向上ができた。
所定の工程を経て陰極線管を形成した。その結果、白黒
、カラーいずれの受像管においても２％以上の明るさ向
上ができた。実施例 ２ フェースプレート１内面にフツ化カルシウム（ＣａＦ２
）を蒸着し厚さ約１１００Ａの膜を形成し、実施例１と
同様に陰極線管を形成した結果、白黒、カラーいずれの
受像管においても３％以上の明るさ向上ができた。
実施例 ３
フェースプレート内面にＭが２、ＣｅＦ３、ＺｎＳ、Ｍ
ｇＦ２の順に夫々の厚さ、１０００Ａ、８５０Ａ、１２
００Ａ、１０００Ａとなるように蒸着した多層膜を形成
した。
ｇＦ２の順に夫々の厚さ、１０００Ａ、８５０Ａ、１２
００Ａ、１０００Ａとなるように蒸着した多層膜を形成
した。
そして、実施例１と同様に陰極線管を形成した結果、白
黒、カラーいずれの受像管においても明るさ４％以上の
向上ができた。
黒、カラーいずれの受像管においても明るさ４％以上の
向上ができた。
第１図は従来の陰極線管の縦側側面の一部拡大図、第２
図は本発明の陰極線管の一実施例を示す一部切欠側面図
、第３図は本発明の陰極線管の−実施例の縦断側面の一
部拡大図である。 １・・…・フェースプレート、２・・・・・・反射防止
膜、３・・・…けい光膜層。 第「図 弟Ｚ図 髪３図
図は本発明の陰極線管の一実施例を示す一部切欠側面図
、第３図は本発明の陰極線管の−実施例の縦断側面の一
部拡大図である。 １・・…・フェースプレート、２・・・・・・反射防止
膜、３・・・…けい光膜層。 第「図 弟Ｚ図 髪３図
Claims (1)
- １ けい光膜を有する陰極線管において、フエースプレ
ート内面とけい光膜の間に反射防止膜を介在させたこと
を特徴とする陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50116517A JPS6037580B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | 陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50116517A JPS6037580B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | 陰極線管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5242071A JPS5242071A (en) | 1977-04-01 |
| JPS6037580B2 true JPS6037580B2 (ja) | 1985-08-27 |
Family
ID=14689091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50116517A Expired JPS6037580B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | 陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037580B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6473250A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-17 | Fuji Electric Co Ltd | Immersion testing type ultrasonic flaw detector |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4827753U (ja) * | 1971-08-06 | 1973-04-04 | ||
| JPS4849945U (ja) * | 1971-10-11 | 1973-06-30 |
-
1975
- 1975-09-29 JP JP50116517A patent/JPS6037580B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5242071A (en) | 1977-04-01 |
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