JPS6041504A - 透過度改変膜 - Google Patents
透過度改変膜Info
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/26—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen nitrogen-containing groups
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/76—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74
- B01D71/80—Block polymers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
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- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxy groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、がス分ｐｉｎｔ用の多成分膜に関するもので
ある。
ある。
従来の技術
がス混合物から１つのガスを分離する操作に適した［摸
は公知であり、その例には、比較的薄くかつ比較的低い
空隙率の層と、それを担持する多孔性基層とから構成さ
れた中空繊維型の多成分膜があげられる。どの型のガス
分離用膜であっても、これは次の１イト質を有すること
が好ましく、すなわち、がス混合物のうちから１つのが
スを分離するときにその所望びスを最高の透過度で透過
でき、かつ、所望がスを該混合物中の他種ガスから最高
の分離度で分離できるような膜が好ましい。換言すれば
、分離されるべき１つのがスすなわち所望がスは最高透
過率で膜を透過でき、前記混合物中の他種がスは膜を最
低透過率においてのみ透過Ｉ７得るという条件をみたす
膜が好ましいのである。
は公知であり、その例には、比較的薄くかつ比較的低い
空隙率の層と、それを担持する多孔性基層とから構成さ
れた中空繊維型の多成分膜があげられる。どの型のガス
分離用膜であっても、これは次の１イト質を有すること
が好ましく、すなわち、がス混合物のうちから１つのが
スを分離するときにその所望びスを最高の透過度で透過
でき、かつ、所望がスを該混合物中の他種ガスから最高
の分離度で分離できるような膜が好ましい。換言すれば
、分離されるべき１つのがスすなわち所望がスは最高透
過率で膜を透過でき、前記混合物中の他種がスは膜を最
低透過率においてのみ透過Ｉ７得るという条件をみたす
膜が好ましいのである。
しかしながら従来は、膜の透過度または分離度のいずれ
か１つを上昇させた場合には、一般に他の１つの性質が
悪くなるという結果が得られていたのである。膜の透過
Ｉｆまたは分離度のいずれか１つを、他の１つｔ低下さ
せることなく上昇させることが望ましい。
か１つを上昇させた場合には、一般に他の１つの性質が
悪くなるという結果が得られていたのである。膜の透過
Ｉｆまたは分離度のいずれか１つを、他の１つｔ低下さ
せることなく上昇させることが望ましい。
米国特許第４．２ ３ ０．４ ６ ３号には、多孔質
基層と、その−Ｌに低空隙率の薄膜を担持させてなる中
空線ＫＪｔ体の形の多成分膜が開示されている。その好
ましい具体例としては、ホリスルホン系基層と、その上
に形成されたポリ（ジメチルシロキシサン）系の被ｇｌ
（Ｊからなる多成分系の膜があげられる。
基層と、その−Ｌに低空隙率の薄膜を担持させてなる中
空線ＫＪｔ体の形の多成分膜が開示されている。その好
ましい具体例としては、ホリスルホン系基層と、その上
に形成されたポリ（ジメチルシロキシサン）系の被ｇｌ
（Ｊからなる多成分系の膜があげられる。
発明の概要
本発明は、多孔質基膜（サブストレート膜）と、その上
に施されたポリ（ジメチルシロキサン）被覆かも構成さ
れた多成分膜であって、このポリ（ジメチルシロキサン
）被覆が、次式 ０式％ Ｃｌ ミＢＩＣＨ２０Ｈ，，０Ｈ２ＮＨＯＯＮＨＨ２ １ ２５ｉＯＨ２０Ｈ２０Ｈ２０−ＯＨ２０ＨＯＨ２ＮＨ１ の基からなる群から選択された基である透過性改変基’
Ｌ１−２０部〔ポリ（ジメチルシロキサン）１００部当
り〕含有するものであることｔ特徴とする、がス分離用
多成分膜に関するものである。
に施されたポリ（ジメチルシロキサン）被覆かも構成さ
れた多成分膜であって、このポリ（ジメチルシロキサン
）被覆が、次式 ０式％ Ｃｌ ミＢＩＣＨ２０Ｈ，，０Ｈ２ＮＨＯＯＮＨＨ２ １ ２５ｉＯＨ２０Ｈ２０Ｈ２０−ＯＨ２０ＨＯＨ２ＮＨ１ の基からなる群から選択された基である透過性改変基’
Ｌ１−２０部〔ポリ（ジメチルシロキサン）１００部当
り〕含有するものであることｔ特徴とする、がス分離用
多成分膜に関するものである。
この被覆は基吸上に次の方法によって施すことができ、
すなわち、被覆層形成成分の０．０５−１重量係溶液（
酵媒としてくメタン等が使用できる）ン基膜上に適用す
ることによって前記被覆ン施すことができる。
すなわち、被覆層形成成分の０．０５−１重量係溶液（
酵媒としてくメタン等が使用できる）ン基膜上に適用す
ることによって前記被覆ン施すことができる。
発明の詳細な記載
本発明の多成分謹は、ガス混合物から或１棟のガスを分
離する操作に有利に使用できる。たとえば、窒素から酸
素の分離、−酸化炭素、二酸化炭素、窒素、ｒ便素、ア
ルノン、亜酸化窒素、Ｃ１−０５炭化水素特にメタン、
エタン、エタンのウチの少なくとも１種のがスから水素
の分離の際に、この膜が有利に使用できる。これらのガ
スおよび他のがスの種々の混合物は工業的プロセスにお
いてしばしば見出れるものである。
離する操作に有利に使用できる。たとえば、窒素から酸
素の分離、−酸化炭素、二酸化炭素、窒素、ｒ便素、ア
ルノン、亜酸化窒素、Ｃ１−０５炭化水素特にメタン、
エタン、エタンのウチの少なくとも１種のがスから水素
の分離の際に、この膜が有利に使用できる。これらのガ
スおよび他のがスの種々の混合物は工業的プロセスにお
いてしばしば見出れるものである。
、がス混合物から或１種のがスＺ分離する操作が実施で
きるのは、膜が上記の１種のガス馨混合物中の他種がス
よりも一層高い透過度で透過できるからである。この分
＋１ｙａ＝実施する方法について説明する。がス混合物
乞適当な圧力差（すなわち膜を横切る圧力差）のもとで
膜の片面に接触させるのである。そうすると、より高透
過度の・ブス、すなわち、より速い（ｆａｓｔｅｒ ）
がスは膜を透過して、反対側の片面から回収される。膜
乞中空繊維体の形に加工した場合には、前記の１片面”
はこの中空繊維体の外面に相当し、前記の６反対側の片
面″がこの中空＃ａ維体の内側面（内面）すなわちボア
面に相当する。
きるのは、膜が上記の１種のガス馨混合物中の他種がス
よりも一層高い透過度で透過できるからである。この分
＋１ｙａ＝実施する方法について説明する。がス混合物
乞適当な圧力差（すなわち膜を横切る圧力差）のもとで
膜の片面に接触させるのである。そうすると、より高透
過度の・ブス、すなわち、より速い（ｆａｓｔｅｒ ）
がスは膜を透過して、反対側の片面から回収される。膜
乞中空繊維体の形に加工した場合には、前記の１片面”
はこの中空繊維体の外面に相当し、前記の６反対側の片
面″がこの中空＃ａ維体の内側面（内面）すなわちボア
面に相当する。
成膜においてその横断面の断面積が或一定値である場合
には、より速いガスの回収率（回収速度）、および回収
されたガス（回収がス）の純度は、膜乞横切る圧力差、
および、より速いがスと混合物中の他種がスとの透過度
の比によって決まるものである。より速いガスの透過度
（混合物中の他種がスと比較したときの相対値）が高け
れば高い程、当該分離工程の効率がますます高くなるで
あろう。
には、より速いガスの回収率（回収速度）、および回収
されたガス（回収がス）の純度は、膜乞横切る圧力差、
および、より速いがスと混合物中の他種がスとの透過度
の比によって決まるものである。より速いガスの透過度
（混合物中の他種がスと比較したときの相対値）が高け
れば高い程、当該分離工程の効率がますます高くなるで
あろう。
がス混合物から或１つのがスを分離することが所望され
る場合には、この１つのがス乞非常に高い透過率で透過
させるが混合物中の他種がスは全く透過させない膜を使
用するのが理想的であり、すなわち、前記の１つのガス
に対する透過度の値が非常圧大きく、かつ、この１つの
がスと混合物中の他種がスとの分離度すなわち分離比の
値も非常に大きい膜を使用するのが理想的である。しか
しながら、公知の膜はこの理想的条件？みたすものでは
ない。公知の膜では一般に、ガスの透過率と分離度とが
反比例関係で父化し、すなわち、分離度（すなわち選択
度）を改善しようとすれば−般に１漠の透過１田が悪く
なるという結果が得られるであろう。したがって、より
速いがスの透過度を低下させろことなく分離度乞−ヒ昇
できるような膜乞作るのが望ましいのである。本発明は
、このような膜乞提共するものである。
る場合には、この１つのがス乞非常に高い透過率で透過
させるが混合物中の他種がスは全く透過させない膜を使
用するのが理想的であり、すなわち、前記の１つのガス
に対する透過度の値が非常圧大きく、かつ、この１つの
がスと混合物中の他種がスとの分離度すなわち分離比の
値も非常に大きい膜を使用するのが理想的である。しか
しながら、公知の膜はこの理想的条件？みたすものでは
ない。公知の膜では一般に、ガスの透過率と分離度とが
反比例関係で父化し、すなわち、分離度（すなわち選択
度）を改善しようとすれば−般に１漠の透過１田が悪く
なるという結果が得られるであろう。したがって、より
速いがスの透過度を低下させろことなく分離度乞−ヒ昇
できるような膜乞作るのが望ましいのである。本発明は
、このような膜乞提共するものである。
本発明の多成分膜は、重合体系の基膜と、この基膜と接
触してその上に施された被覆とから＋ｉ／を成され、そ
してこの被覆が、後記の基のうぢから選択された透過度
改変基を含有するのであることン特徴とするもσ）であ
る。基膜は、米国特許第４．２３０，４６５号等に記載
された型のポリスルホン重合体から作られた中空繊維体
の形のものであることが好ましい。
触してその上に施された被覆とから＋ｉ／を成され、そ
してこの被覆が、後記の基のうぢから選択された透過度
改変基を含有するのであることン特徴とするもσ）であ
る。基膜は、米国特許第４．２３０，４６５号等に記載
された型のポリスルホン重合体から作られた中空繊維体
の形のものであることが好ましい。
基膜は、外部直径約２００−１０００ミクロン、壁厚的
５０−６００ミクロンの中空繊維体の形のものであるこ
とが好ましい。Ａｉｌ記のポリスルホン基膜は多孔質で
あって、空孔の平均断面直径は５−２０，０００オン〃
ゝストロームの範囲内で種々変化するでキ）ろう。この
暎ではその内部の空孔の寸法がより大きく、膜の表面の
空孔の寸法がより小さく、したがってこの膜は異方性で
ある。この基膜は、空隙容積率（外形体積基準、すなわ
ち、この多孔質の分離用膜の外形寸法に基く体積基準）
が１０−９０係好ましくは約３０−７０％に達する程度
の空隙率（ボロシチイ）を有する。
５０−６００ミクロンの中空繊維体の形のものであるこ
とが好ましい。Ａｉｌ記のポリスルホン基膜は多孔質で
あって、空孔の平均断面直径は５−２０，０００オン〃
ゝストロームの範囲内で種々変化するでキ）ろう。この
暎ではその内部の空孔の寸法がより大きく、膜の表面の
空孔の寸法がより小さく、したがってこの膜は異方性で
ある。この基膜は、空隙容積率（外形体積基準、すなわ
ち、この多孔質の分離用膜の外形寸法に基く体積基準）
が１０−９０係好ましくは約３０−７０％に達する程度
の空隙率（ボロシチイ）を有する。
前記の被覆はその厚みが５，０００オングストロームな
いし５０ミクロンであり、そしてこれは、後記の透過度
改変基Ｙ１−２０部（ジメチルシロキサンジオール１０
０部当り）含有するシラノール末端型−ポリ（ジメチル
シロキサン）才なわら・ジメチルシロキサンジオールか
らなるものである。
いし５０ミクロンであり、そしてこれは、後記の透過度
改変基Ｙ１−２０部（ジメチルシロキサンジオール１０
０部当り）含有するシラノール末端型−ポリ（ジメチル
シロキサン）才なわら・ジメチルシロキサンジオールか
らなるものである。
この被ｆ！σは硬化された状態のものであって、すなわ
ち硬化操作によって、Ａｉｌ記の基を化学的にボ゛す（
ジメチルシロキサン）に結合させると同時にポリ（ジメ
チルシロキサン）を架橋させたものである。換言すれば
、この被覆はシラノール末端型−ポリ（ジメチルシロキ
サン）と後記の基との縮合生成物からなるものである。
ち硬化操作によって、Ａｉｌ記の基を化学的にボ゛す（
ジメチルシロキサン）に結合させると同時にポリ（ジメ
チルシロキサン）を架橋させたものである。換言すれば
、この被覆はシラノール末端型−ポリ（ジメチルシロキ
サン）と後記の基との縮合生成物からなるものである。
たたし本発明はこｃｌ’）被覆の市［記架橋反応に関す
るものではなく、？Ｕ記の基のペンダン＋−＋Ｓ＋＋と
多孔′ｄ基膜との相互結合乞重要な条件とするもＪ）で
ある。
るものではなく、？Ｕ記の基のペンダン＋−＋Ｓ＋＋と
多孔′ｄ基膜との相互結合乞重要な条件とするもＪ）で
ある。
使用される被覆用組成物は、ポリ（ジメチルシロキサン
）ジオールおよび透過性改変基の他に、ツブチル錫ジラ
ウレート、オクタン酸錫（錫オクトエート）またはジプ
チル錫ジアセテートの如き適当な触媒Ｚ約１−６部（ジ
メチルシロキサンジオール１．００部当り）含有する。
）ジオールおよび透過性改変基の他に、ツブチル錫ジラ
ウレート、オクタン酸錫（錫オクトエート）またはジプ
チル錫ジアセテートの如き適当な触媒Ｚ約１−６部（ジ
メチルシロキサンジオール１．００部当り）含有する。
この透過度改変基は、次式の基からなる群から１べ択さ
れるものである。
れるものである。
一８ｉＣｉＨ２０Ｈ２０Ｈ２ＮＨＣＨ２０Ｈ２ＮＨ２Ｏ
Ｈ０ 一５１０Ｈ２０Ｈ２０Ｈ２ＮＩＩＣＨ２ＣＨ，、ＮＨＯ
Ｈ２０Ｈ２ＮＨ２Ｈ ＯＨＢｒ ＝＝ＳｉＯＨ２０Ｈ２０Ｈ２ＮＨＯＯＮＨ「 ＯＨ２ 前記のシロキサンジオールと透過性改変基との反応の前
には、この基は、該基の珪素原子に結合したメトキシ基
、エトキシ基またはアセトキシ基゛を有するであろう。
Ｈ０ 一５１０Ｈ２０Ｈ２０Ｈ２ＮＩＩＣＨ２ＣＨ，、ＮＨＯ
Ｈ２０Ｈ２ＮＨ２Ｈ ＯＨＢｒ ＝＝ＳｉＯＨ２０Ｈ２０Ｈ２ＮＨＯＯＮＨ「 ＯＨ２ 前記のシロキサンジオールと透過性改変基との反応の前
には、この基は、該基の珪素原子に結合したメトキシ基
、エトキシ基またはアセトキシ基゛を有するであろう。
この被覆を縞幅上に施す方法について説明する。
被覆形成成分をペンタンの如き適当な溶媒に溶解させて
なる溶液Ｚ縞幅上に適用する。この溶液は被覆形成成分
を０．０１−５重量％含有するものであるべきである。
なる溶液Ｚ縞幅上に適用する。この溶液は被覆形成成分
を０．０１−５重量％含有するものであるべきである。
この被覆用溶液の濃度は０．０５−１重量係であること
が好ましい（溶媒中の被覆形成成分の濃度で示す）。
が好ましい（溶媒中の被覆形成成分の濃度で示す）。
被覆は次の如くして施すのが好ましい。好ましくは中空
繊維体の形の基膜な前記の被覆用溶液に浸漬し、これに
よって被覆された基層を該溶液から取出し、これを周囲
条件（ａｍｂｉｅｎｔ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ ）のも
とで乾燥する。この乾燥７行っている間にシロキサンジ
オールと透過性改変基との間に反応が起り、このジメチ
ルシロキサンジオールと透過性改変基との縮合生成物が
生成する。
繊維体の形の基膜な前記の被覆用溶液に浸漬し、これに
よって被覆された基層を該溶液から取出し、これを周囲
条件（ａｍｂｉｅｎｔ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ ）のも
とで乾燥する。この乾燥７行っている間にシロキサンジ
オールと透過性改変基との間に反応が起り、このジメチ
ルシロキサンジオールと透過性改変基との縮合生成物が
生成する。
前記透過性改変基のペンダント部と基膜の表面との相互
作用（反応）については未だ充分に解明されていないが
、このペンダント部の末端が何らかの結合形式で基膜の
表面に結合するかまたは引き寄せられ、これによって、
膜の透過度を著しく低下させることなく膜の分離度が著
しく向上するのであろうと思われる。非常に少量の透過
性改変剤を使用するだけで充分である。溶媒中に被覆形
成物質を１１１１りも実質的に低い濃度で含む被覆用溶
液を使用したときに良い結果が得られることが見出され
た。この透過性改変基の量は約１＝２０部好ましくは２
−１２部（ジメチルシロキサンジオール１００部当り）
である。
作用（反応）については未だ充分に解明されていないが
、このペンダント部の末端が何らかの結合形式で基膜の
表面に結合するかまたは引き寄せられ、これによって、
膜の透過度を著しく低下させることなく膜の分離度が著
しく向上するのであろうと思われる。非常に少量の透過
性改変剤を使用するだけで充分である。溶媒中に被覆形
成物質を１１１１りも実質的に低い濃度で含む被覆用溶
液を使用したときに良い結果が得られることが見出され
た。この透過性改変基の量は約１＝２０部好ましくは２
−１２部（ジメチルシロキサンジオール１００部当り）
である。
実施例
既述の文節中に定義された中空繊維体の形のポリスルホ
ン縞幅の上に、既述の文節中に定義された透過性改変基
１０部〔ポリ（ジメチルシロキサン）ジオール１００部
当り〕を含む分子量約ｉ ｏ ｏ、ｏ ｏ ｏのポリ（
ジメチルシロキサン）ジオール、および触媒どしてのジ
プチル錫ジラウレート２部（ジメチルシロキサンジオー
ル１００部当リ）を含む被覆を施した。このシリコーン
（珪素樹脂）は充分な量のペンタンに溶解して０．１１
重量ｇｉｉ’ｖ作って、これを被覆用組成物として使用
した。
ン縞幅の上に、既述の文節中に定義された透過性改変基
１０部〔ポリ（ジメチルシロキサン）ジオール１００部
当り〕を含む分子量約ｉ ｏ ｏ、ｏ ｏ ｏのポリ（
ジメチルシロキサン）ジオール、および触媒どしてのジ
プチル錫ジラウレート２部（ジメチルシロキサンジオー
ル１００部当リ）を含む被覆を施した。このシリコーン
（珪素樹脂）は充分な量のペンタンに溶解して０．１１
重量ｇｉｉ’ｖ作って、これを被覆用組成物として使用
した。
前記の繊維体の孔隙に真空を適用しそしてこの繊維体を
被覆用組成物中に２−３回浸漬した。浸漬は１０−２０
秒間隔で行い、各浸漬操作の実施時間は１−１０秒間で
あった。形成された被覆を其後に室温において硬化させ
た。被覆が硬化した後に、暎の水素透過度Ｃ（Ｐ／ｌ）
Ｈ２）を測定し、次いでＨ２と一酸化炭素との分離度
（αＨ２／ＣＯ）、すなわち、水素の透過度と一酸化炭
素の透過度との比乞測定した。この測定は常法に従って
行った。
被覆用組成物中に２−３回浸漬した。浸漬は１０−２０
秒間隔で行い、各浸漬操作の実施時間は１−１０秒間で
あった。形成された被覆を其後に室温において硬化させ
た。被覆が硬化した後に、暎の水素透過度Ｃ（Ｐ／ｌ）
Ｈ２）を測定し、次いでＨ２と一酸化炭素との分離度
（αＨ２／ＣＯ）、すなわち、水素の透過度と一酸化炭
素の透過度との比乞測定した。この測定は常法に従って
行った。
この透過度と分離度との測定は、前記繊維体に被覆ケ施
した後の種々の時期に行った。この測定の時期は、第１
表中の６日数”の欄に記載されている。所定の日数経過
後に前記の性質を測定した目的は、この被覆の安定性２
調べるためであった。
した後の種々の時期に行った。この測定の時期は、第１
表中の６日数”の欄に記載されている。所定の日数経過
後に前記の性質を測定した目的は、この被覆の安定性２
調べるためであった。
第１表に、被覆用組成物の被覆形成用固体物質のｉを示
した。第１表にはまた、透過度および分離度の測定値も
示した。
した。第１表にはまた、透過度および分離度の測定値も
示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）（ａ）多孔質基膜と、 （ｂ）前記の膜と接してその上に施されたポリ（ジメチ
ルシロキサン）被覆 とから構成され、前記の被覆は透過性改変基を、１１記
のポリ（ジメチルシロキサン）に結合した形で１−２０
部〔前記のポリ（ジメチルシロキサン）１００部当り〕
含有し、前記透過性改変基は、次式 ％式％ ０Ｈ １′ １ 一８ｉＯＨ２０１（２０Ｈ２ＮＨＯＯＮＨ１ し工 ■ 一８１０Ｈ２０Ｈ２０Ｈ２０ＣＲ２−ＯＨ−ＯＨ３１１
１ ＨＮＨ の基からなる群から選択されたものであることを特徴と
するがス分離用の多成分膜。 （２） 被覆がポリ（ジメチルシロキサン）を２−１２
部（被覆１００部当り）含有するものである特許請求の
範囲第１項に記載の多成分膜。 （３） 被覆がポリ（ジメチルシロキサン）ジオールと
透過性改変剤との縮合生成物から構成され、該縮合生成
物が次式 ％式％ （ここにＲｏはメトキシ基、エトキシ基またはアセトキ
シ基であり、Ｒ２は前記の透過性改変基である） 造を有するものである特許請求の範囲第２項載の多成分
膜。 被覆がポリ（ジメチルシロキサン）ジオール０部と透過
度改変剤１−２０部との縮合生成ら構成されたものであ
る特許請求の範囲第３項に記載の多成分膜。 （５） ポリ（ジメチルシロキサン）ジオール１００部
と透過度改変剤１−２０部との縮合生成物を充分な量の
溶媒に溶解して０．０１−５重量係溶液を形成させ、こ
の溶液を用いて施した被覆である、特許請求の範囲第４
項に記載の多成分膜。 （６） 前記の重量百分率が０．０５−１重量係である
特許請求の範囲第５項に記載の多成分膜。 （７）基膜がポリスルホン重合体から構成された中空繊
維体の形を有するものである特許請求の範囲第６項記載
の多成分膜。 （８）基膜が１０−９０％の間隙容積率と、平均空隙断
面直径が５−２０．０００オングストロームとなるよう
な空隙率とを有するものである特許請求の範囲第７項に
記載の多成分膜。 （９）被覆の厚みカ５０００オングストロームないし５
０ミクｌ−】ンである特許請求の範囲第８項に記載の多
成分膜。
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- 1984-06-29 CA CA000457897A patent/CA1231598A/en not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61149226A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-07 | Agency Of Ind Science & Technol | ガス選択透過性複合膜およびその製造方法 |
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