JPS6045355A - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6045355A JPS6045355A JP15313883A JP15313883A JPS6045355A JP S6045355 A JPS6045355 A JP S6045355A JP 15313883 A JP15313883 A JP 15313883A JP 15313883 A JP15313883 A JP 15313883A JP S6045355 A JPS6045355 A JP S6045355A
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- JP
- Japan
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- ultraviolet
- cleaned
- irradiation chamber
- ozone
- ultraviolet rays
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線洗浄装置に関するものである。
紫外線ランプよ抄発生するオゾンを利用して汚染物を分
解洗浄することが行われているが、この紫外線ランプ、
例えば低圧水銀ランプを点灯すると、主として波長が２
５４ｎｍの水銀共鳴線の紫外線が外部に放出され、従と
して１８５ｎｍの紫外線が、更には他の波長のものがわ
ずかに放出される。
解洗浄することが行われているが、この紫外線ランプ、
例えば低圧水銀ランプを点灯すると、主として波長が２
５４ｎｍの水銀共鳴線の紫外線が外部に放出され、従と
して１８５ｎｍの紫外線が、更には他の波長のものがわ
ずかに放出される。
そして、波長１８５ｎｍの紫外線によってオゾンが生成
し、次にこのオゾンが波長２５４ｎｍＫより分解されて
発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有機汚染物
を分解してガス状態で飛散することが知られている。
し、次にこのオゾンが波長２５４ｎｍＫより分解されて
発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有機汚染物
を分解してガス状態で飛散することが知られている。
この紫外線洗浄装置は各種の被洗浄体に適用されるが、
その一つに水晶振動子がある。水晶振動子はその共鳴周
波数を利用して時間の基準を定めるものであシ、いろい
ろな商品に利用されているが、水晶振動子の表面が汚染
されると共鳴周波数に狂いが生じる。従ってその表面は
清浄でなければならないが、最近は共鳴周波数の正確性
に対する要請はますます大きくなり、表面は高い清浄度
が要求される。また、この表面に金属膜を蒸着する際に
、表面の汚染物は蒸着膜の密着性を著しく阻害する。
その一つに水晶振動子がある。水晶振動子はその共鳴周
波数を利用して時間の基準を定めるものであシ、いろい
ろな商品に利用されているが、水晶振動子の表面が汚染
されると共鳴周波数に狂いが生じる。従ってその表面は
清浄でなければならないが、最近は共鳴周波数の正確性
に対する要請はますます大きくなり、表面は高い清浄度
が要求される。また、この表面に金属膜を蒸着する際に
、表面の汚染物は蒸着膜の密着性を著しく阻害する。
ところで従来の紫外線洗浄装置は、紫外線ランプが照射
室の上面に設置されており、被洗浄体の上面に紫外線を
照射するようになっていた。有機汚染物の分解にオゾン
自体もいくらかは寄与するが、大部分は紫外線によるも
のであるため、上面にのみ紫外線を照射したのでは、水
晶振動子のように紫外線を透過するものでも、透過中に
幾分かは吸収されるため、裏面の汚染物の分解は不完全
なものである。そして、金属ウエノ・−の様に紫外線を
透過しないものの両面を洗浄する場合は、−面を洗浄し
たのちに反転して他面全洗浄することが行れていた。従
って、操作が煩雑であり、洗浄時間も長時間を要した。
室の上面に設置されており、被洗浄体の上面に紫外線を
照射するようになっていた。有機汚染物の分解にオゾン
自体もいくらかは寄与するが、大部分は紫外線によるも
のであるため、上面にのみ紫外線を照射したのでは、水
晶振動子のように紫外線を透過するものでも、透過中に
幾分かは吸収されるため、裏面の汚染物の分解は不完全
なものである。そして、金属ウエノ・−の様に紫外線を
透過しないものの両面を洗浄する場合は、−面を洗浄し
たのちに反転して他面全洗浄することが行れていた。従
って、操作が煩雑であり、洗浄時間も長時間を要した。
そして、反転操作の最中に洗浄の終った一面が他面の汚
染物などのために再び汚染されるなどの問題点があった
。
染物などのために再び汚染されるなどの問題点があった
。
そこで本発明は、操作が簡単で、平面状の被洗浄物の両
面を短時間で確実に洗浄できる紫外線洗浄装置を提供す
ることを目的とし、その構成は、紫外線ランプの光でオ
ゾンを発生させ、このオゾンの分解により生成される発
生基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚染物
などを分解して洗浄する紫外線洗浄装置であって、被洗
浄体が支持される照射室の上下両面もしくは左右両側面
に、ミラーがその背後に配置された紫外線ランプを配設
し、かつ照射室内に酸素を含むガスが供給されることを
特徴とする。
面を短時間で確実に洗浄できる紫外線洗浄装置を提供す
ることを目的とし、その構成は、紫外線ランプの光でオ
ゾンを発生させ、このオゾンの分解により生成される発
生基の酸素により被洗浄体の表面に付着する有機汚染物
などを分解して洗浄する紫外線洗浄装置であって、被洗
浄体が支持される照射室の上下両面もしくは左右両側面
に、ミラーがその背後に配置された紫外線ランプを配設
し、かつ照射室内に酸素を含むガスが供給されることを
特徴とする。
以下に図面に示す実施例に基いて本発明を具体的に説明
する。
する。
第１図は装置の断面図を示すが、装置箱１には灯体２が
内蔵されて二重構造をなし、発生したオゾンが外部に漏
洩しないようになっている。灯体２の内部が照射室６で
あるが、この照射室６の上方と下方にはそれぞれ紫外線
ランプ４としてＵ字状の６５０Ｗ高出力低圧水銀灯が２
本づつ配設されている。上下の紫外線ランプ４の背後に
はそれぞれミラー５が配置され、紫外線ランプ４の光は
上下両方から照射室６の中央に向けて照射される。
内蔵されて二重構造をなし、発生したオゾンが外部に漏
洩しないようになっている。灯体２の内部が照射室６で
あるが、この照射室６の上方と下方にはそれぞれ紫外線
ランプ４としてＵ字状の６５０Ｗ高出力低圧水銀灯が２
本づつ配設されている。上下の紫外線ランプ４の背後に
はそれぞれミラー５が配置され、紫外線ランプ４の光は
上下両方から照射室６の中央に向けて照射される。
なお、灯体２の上面と下面には冷却水路６が固着されて
冷却されている。被洗浄体７は直径７期程度の水晶振動
子であり、平面状の支持具８上に多数配列されて照射室
６の中央部に支持されるが、光が下方からも照射される
ため、支持具８には水晶振動子の大きさに相応する孔が
あけられ、水晶振動子は孔周縁の爪によりて点接触で支
持されてお９下面にも直接光が照射される。そして灯体
２の側方には酸素を含むガスを照射室５に供給する吸入
孔９と、内部のガスを分解された汚染物とともに排出す
る排気孔１０が設けられているが、排気孔１０より吸引
されたガスはオゾン分解室で処理された後に大気中に放
出される。
冷却されている。被洗浄体７は直径７期程度の水晶振動
子であり、平面状の支持具８上に多数配列されて照射室
６の中央部に支持されるが、光が下方からも照射される
ため、支持具８には水晶振動子の大きさに相応する孔が
あけられ、水晶振動子は孔周縁の爪によりて点接触で支
持されてお９下面にも直接光が照射される。そして灯体
２の側方には酸素を含むガスを照射室５に供給する吸入
孔９と、内部のガスを分解された汚染物とともに排出す
る排気孔１０が設けられているが、排気孔１０より吸引
されたガスはオゾン分解室で処理された後に大気中に放
出される。
しかして、紫外線ランプ４を点灯すると水晶振動子の上
下両面に紫外線が照射されるが、照射室５内に酸素を含
むガスが供給されているので、発生基の酸素／Ｊ’上下
両面の近傍で生成され、これによって汚染物は分解され
て上下面とも一様に洗浄される。従って、従来の片面照
射に比べて清浄に洗浄され、共鳴周波数の正確度が向上
し、後工程で蒸着される金属膜の密着力も大きくなる。
下両面に紫外線が照射されるが、照射室５内に酸素を含
むガスが供給されているので、発生基の酸素／Ｊ’上下
両面の近傍で生成され、これによって汚染物は分解され
て上下面とも一様に洗浄される。従って、従来の片面照
射に比べて清浄に洗浄され、共鳴周波数の正確度が向上
し、後工程で蒸着される金属膜の密着力も大きくなる。
そして本実施例の被洗浄体７は紫外線を透過する水晶振
動子であるが、これが金属ウエノ・−の様に紫外線を透
過しないものであっても上下両面が同時に洗浄されるの
で、被洗浄体７を途中で反転する必要がなく、操作が簡
単で、短時間で再汚染なく洗浄できる。
動子であるが、これが金属ウエノ・−の様に紫外線を透
過しないものであっても上下両面が同時に洗浄されるの
で、被洗浄体７を途中で反転する必要がなく、操作が簡
単で、短時間で再汚染なく洗浄できる。
なお、本実施例では紫外線ラング４を照射室６の上下両
面に配設したが、これを左右両（１１１面に配設しても
同様の効果を得ることができる。
面に配設したが、これを左右両（１１１面に配設しても
同様の効果を得ることができる。
そして、被洗浄体７が紫外線透過性の場合は、第２図〜
第５図に示すように、水平ないし傾斜状態で間隔ｔｌ−
あけて多重に支持具８で支持してもよく、更には垂直状
態に並べて支持してもよい。これらの場合も、上下両方
から紫外線が照射されるので、従来の上方のみから照射
されるの。に比べて短時間でより確実に洗浄することが
できる。
第５図に示すように、水平ないし傾斜状態で間隔ｔｌ−
あけて多重に支持具８で支持してもよく、更には垂直状
態に並べて支持してもよい。これらの場合も、上下両方
から紫外線が照射されるので、従来の上方のみから照射
されるの。に比べて短時間でより確実に洗浄することが
できる。
以上説明した通り、本発明の紫外線洗浄装置は、被洗浄
体が支持される照射室の上下両面もしくは左右両側面に
、ミラーがその背後に配置された紫外線ランプを配設し
、照射室内に酸素を含むガスを供給するようにしたので
、本発明に従えば、操作が簡単で、平面状の被洗浄物の
両面を短時間で、かつ確実に洗浄できる紫外線洗浄装置
を提供することができる。
体が支持される照射室の上下両面もしくは左右両側面に
、ミラーがその背後に配置された紫外線ランプを配設し
、照射室内に酸素を含むガスを供給するようにしたので
、本発明に従えば、操作が簡単で、平面状の被洗浄物の
両面を短時間で、かつ確実に洗浄できる紫外線洗浄装置
を提供することができる。
第１図は本発明実施例の断面図、第２図は被洗浄体の支
持態様を示す正面図、第３図は同じく平面図、第４図は
他の支持絆梯を示す正面図、第５図は同じく平面図であ
る。 １・・・装置箱 ２・・・灯体 ３・・・照射室４・・
・紫外線ランプ ５・・・ミラー ６・・・冷却水路７
・・・被洗浄体（水晶振動子） ８・・・支持具９・・
・吸入孔 １０・・・排気孔 出願人 ウシオ電機株式会社 代理人 弁理士 田原寅之助
持態様を示す正面図、第３図は同じく平面図、第４図は
他の支持絆梯を示す正面図、第５図は同じく平面図であ
る。 １・・・装置箱 ２・・・灯体 ３・・・照射室４・・
・紫外線ランプ ５・・・ミラー ６・・・冷却水路７
・・・被洗浄体（水晶振動子） ８・・・支持具９・・
・吸入孔 １０・・・排気孔 出願人 ウシオ電機株式会社 代理人 弁理士 田原寅之助
Claims (1)
- 紫外線ラングの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の表面
に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
浄装置であって、被洗浄体が支持される照射室の上下両
面もしくは左右両側面に、ミラーがその背後に配置され
た紫外線ランプを配設し、かつ照射室内罠酸素を含むガ
スが供給されるように構成された紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15313883A JPS6058976B2 (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15313883A JPS6058976B2 (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045355A true JPS6045355A (ja) | 1985-03-11 |
| JPS6058976B2 JPS6058976B2 (ja) | 1985-12-23 |
Family
ID=15555834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15313883A Expired JPS6058976B2 (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058976B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009082359A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Iwasaki Electric Co Ltd | 殺菌装置 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP15313883A patent/JPS6058976B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009082359A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Iwasaki Electric Co Ltd | 殺菌装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6058976B2 (ja) | 1985-12-23 |
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