JPS6048237U - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6048237U JPS6048237U JP13912283U JP13912283U JPS6048237U JP S6048237 U JPS6048237 U JP S6048237U JP 13912283 U JP13912283 U JP 13912283U JP 13912283 U JP13912283 U JP 13912283U JP S6048237 U JPS6048237 U JP S6048237U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning equipment
- cleaning device
- ultraviolet
- ultraviolet cleaning
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図面は本考案実施例の断面図である。
１・・・・・・装置箱、２・・・・・・照射箱、３・・
・・・・照射室、４・・・・・・灯具、５・・・・・・
紫外線ランプ、６・・・・・・ミラー、７・・・・・・
被洗浄体、９・・・・・・加熱器、１０・・・・・・冷
却水路、２１・・・・・・内箱、２２・・・・・・外箱
。
・・・・照射室、４・・・・・・灯具、５・・・・・・
紫外線ランプ、６・・・・・・ミラー、７・・・・・・
被洗浄体、９・・・・・・加熱器、１０・・・・・・冷
却水路、２１・・・・・・内箱、２２・・・・・・外箱
。
Claims (1)
- 被洗浄体に紫外線ランプの光を照射して表面に付着する
有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗浄装置であ
って、被洗浄体が内部に支持される照射箱を内箱との二
重構造とし、外箱を水冷あるいは空冷により冷却するよ
うにしたことを特徴とする紫外線洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13912283U JPS6048237U (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13912283U JPS6048237U (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048237U true JPS6048237U (ja) | 1985-04-04 |
Family
ID=30311926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13912283U Pending JPS6048237U (ja) | 1983-09-09 | 1983-09-09 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048237U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52155144A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-23 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Improved apparatus for low temperature plasma etching |
| JPS56105480A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma etching method |
| JPS5852827A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-03-29 | Hitachi Ltd | ドライエツチング方法および装置 |
-
1983
- 1983-09-09 JP JP13912283U patent/JPS6048237U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52155144A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-23 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Improved apparatus for low temperature plasma etching |
| JPS56105480A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma etching method |
| JPS5852827A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-03-29 | Hitachi Ltd | ドライエツチング方法および装置 |
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