JPS6048953A - ジメチルヘキサメチレンジアミンの製法 - Google Patents
ジメチルヘキサメチレンジアミンの製法Info
- Publication number
- JPS6048953A JPS6048953A JP58156277A JP15627783A JPS6048953A JP S6048953 A JPS6048953 A JP S6048953A JP 58156277 A JP58156277 A JP 58156277A JP 15627783 A JP15627783 A JP 15627783A JP S6048953 A JPS6048953 A JP S6048953A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- ammonia
- catalyst
- raney
- dimethyladiponitrile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジメチルアジポニトリル（以下ＤＭＡＤＮと
略す）を水素添加し、高収率、高選択率でジメチルへキ
サメチレンジアミン（以下ＤＭＨＭＤと略す）を製造す
る方法に関するものである。
略す）を水素添加し、高収率、高選択率でジメチルへキ
サメチレンジアミン（以下ＤＭＨＭＤと略す）を製造す
る方法に関するものである。
ＤＭＨＭＤは、農薬、医薬の原料として有用であるほか
、透明ナイロンの原料として重要な物質である。
、透明ナイロンの原料として重要な物質である。
ＤＭＡＤＮからＤＭＨＭＤを製造する従来技術としては
、ＤＭＡＤＮをラネーニッケルの存在下で水素添加して
製造する方法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｅｎ １ｅｔｔｅｒ
、 １９７０Ｐ−３７９１〜４］が提案されているが、
との製法は詳細な説明がなく単にラネーニッケルを用い
水素添加を行うと記載されているだけであシ詳細な製法
は分らないが、反応収率はＤＭＨＭＤで５６％、ジメチ
ルへキサメチレンイミン（以下ＤＭ’ｆ（ＭＩと略す）
で９係と記載されておシ、反応収率からでは、工業的な
製造法としては十分なものとはいいがたい。
、ＤＭＡＤＮをラネーニッケルの存在下で水素添加して
製造する方法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｅｎ １ｅｔｔｅｒ
、 １９７０Ｐ−３７９１〜４］が提案されているが、
との製法は詳細な説明がなく単にラネーニッケルを用い
水素添加を行うと記載されているだけであシ詳細な製法
は分らないが、反応収率はＤＭＨＭＤで５６％、ジメチ
ルへキサメチレンイミン（以下ＤＭ’ｆ（ＭＩと略す）
で９係と記載されておシ、反応収率からでは、工業的な
製造法としては十分なものとはいいがたい。
本発明者らは、ＤＭＨＭＤの収率が高収率で且つ工業的
に容易に実施しうる方法を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、アンモニアの存在下で、ラネー触媒を用いて水素
添加することで、極めて高収率で容易にＤＭ Ｍ Ｄ
を製造しうることを見出した。
に容易に実施しうる方法を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、アンモニアの存在下で、ラネー触媒を用いて水素
添加することで、極めて高収率で容易にＤＭ Ｍ Ｄ
を製造しうることを見出した。
本発明は、ＤＭＨＭＤの収率が高収率で、且つ工業的に
有利なり Ｍ ＦＩ Ｍ Ｄの製造する方法を提供する
ことを目的とするものである。
有利なり Ｍ ＦＩ Ｍ Ｄの製造する方法を提供する
ことを目的とするものである。
上記目的を達成した本発明のＤＭＨＭＤを製造する方法
は、ジメチルアジポニトリルをアンモニアの存在下で、
ラネー触媒を用いて水素添加することを特徴とするもの
である。
は、ジメチルアジポニトリルをアンモニアの存在下で、
ラネー触媒を用いて水素添加することを特徴とするもの
である。
以下、詳しく本発明を説明する。
本発明において、触媒はラネー触媒を用いることが必要
である。ラネー触媒としては、例えば、ラネーニッケル
触媒、ラネーコノマルト触媒等が用いられる。
である。ラネー触媒としては、例えば、ラネーニッケル
触媒、ラネーコノマルト触媒等が用いられる。
触媒量としては、仕込みＤＭＡＤＮに対して重量比で０
．００４以上用いればより、０．００４以下では反応が
進まない。触媒量の上限としては、ラネーコノマルト触
媒を用いた場合は制限はないが、ラネーニッケル触媒を
用いる場合は仕込みＤＭＡＤＮに対して重量比で０．１
以下であり、好ましくは０．０５以下である。
．００４以上用いればより、０．００４以下では反応が
進まない。触媒量の上限としては、ラネーコノマルト触
媒を用いた場合は制限はないが、ラネーニッケル触媒を
用いる場合は仕込みＤＭＡＤＮに対して重量比で０．１
以下であり、好ましくは０．０５以下である。
本発明においては、アンモニアの存在下で水素添加を行
う必要がある。
う必要がある。
アンモニアとしては、アンモニア水又は液体アンモニア
の形で用いることができるが、液体アンモニアを用いた
場合、液体アンモニアの回収設備、高圧反応による設備
費増が挙げられるため、アンモニア水を用いることが好
ましい。
の形で用いることができるが、液体アンモニアを用いた
場合、液体アンモニアの回収設備、高圧反応による設備
費増が挙げられるため、アンモニア水を用いることが好
ましい。
アンモニアの添加量としては、２８係−アンモニア水で
、仕込みＤＭＡＤＨに対して重量比で０．０２〜０．２
が好ましい。
、仕込みＤＭＡＤＨに対して重量比で０．０２〜０．２
が好ましい。
反応温度としては、８０℃〜１６０℃の範囲で行うこと
が好ましい。８０℃以下では反応は進まず、１６０℃以
上では反応収率が低下する。
が好ましい。８０℃以下では反応は進まず、１６０℃以
上では反応収率が低下する。
反応圧力は、アンモニア水を添加した場合、はぼ、アン
モニア、水、水素分圧とからなるが、水素分圧としては
、２０ Ｋ１７ｃｍ”Ｇ 以上が好ましい。
モニア、水、水素分圧とからなるが、水素分圧としては
、２０ Ｋ１７ｃｍ”Ｇ 以上が好ましい。
反応時間としては、触媒量、反応温度、反応圧力によっ
て決まるが、通常１時間以上あればよい。
て決まるが、通常１時間以上あればよい。
反応液の攪拌としては、触媒が反応液中に均一に分散す
る攪拌であればよい。
る攪拌であればよい。
反応方法としては、原料を一度に仕込みＤＭＡＤＮを消
費するまで反応を行う回分式か、原料を連続で仕込み、
生成物を連続で抜き出す連続方式等がある。
費するまで反応を行う回分式か、原料を連続で仕込み、
生成物を連続で抜き出す連続方式等がある。
反応液からＤＭＥ（ＭＤを得る方法としては、常法によ
って行うことができる。例えば、反応液から触媒を分離
したのち、まず蒸留でアンモニアを除去し、アンモニア
は水に吸収させ回収する。次に蒸留で精留し、高純度の
ＤＭＨＭＤを得る方法がある。
って行うことができる。例えば、反応液から触媒を分離
したのち、まず蒸留でアンモニアを除去し、アンモニア
は水に吸収させ回収する。次に蒸留で精留し、高純度の
ＤＭＨＭＤを得る方法がある。
以上詳述した如く、本発明の適用により、′１）高収率
でＤＭｆ（ＭＤを得るととができる。２） ＤＭＩ（Ｍ
Ｄの精製が極めて容易に行うことができる。などの効果
がもたらされた。
でＤＭｆ（ＭＤを得るととができる。２） ＤＭＩ（Ｍ
Ｄの精製が極めて容易に行うことができる。などの効果
がもたらされた。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
圧力計、安全弁、ガス抜き弁、ガス供給弁、及び攪拌機
付ステンレス製の内容積１００ｃｃのオートクレーブ（
以下単にオートクレーブと略す）に、市販のラネーニッ
ケル合金（Ｎｉ ：Ａ１ ：Ｆ’ｅ重量比＝５０ ：
４９．５ ： ０．５ Ｎａ０ｆ（で展開した後、水洗
して得られたラネーニッケル触媒の水スラリー０．８ｙ
（ラネーニッケル０．２５ Ｐ ％水０．５ ｓ ｙ
）とＤＭＨＭＤ４０Ｆ、２８％−アンモニア水６ｙを仕
込んだ後オートクレーブ内の空気を最初窒素、次いで水
素で置換し水素を４５ Ｋｇ／ｃｗｒ２Ｇ まで導入し
た。（尚、水素ガスは１ ｓ ｏ Ｋｑ／儒２Ｇに充填
されたヂンペより定圧弁を経由して反応圧力が一定にな
る様に供給される。）次にヒーターで加熱して昇温し、
同時 ５− に攪拌機によって反応器内を回転数Ｉ Ｑ ００ＲＰＭ
で攪拌した。昇温開始後、１５分で設定温度１００℃に
到達したので反応開始とした。反応中は温度、圧力を保
持する様に調整しなから水添を行った。
付ステンレス製の内容積１００ｃｃのオートクレーブ（
以下単にオートクレーブと略す）に、市販のラネーニッ
ケル合金（Ｎｉ ：Ａ１ ：Ｆ’ｅ重量比＝５０ ：
４９．５ ： ０．５ Ｎａ０ｆ（で展開した後、水洗
して得られたラネーニッケル触媒の水スラリー０．８ｙ
（ラネーニッケル０．２５ Ｐ ％水０．５ ｓ ｙ
）とＤＭＨＭＤ４０Ｆ、２８％−アンモニア水６ｙを仕
込んだ後オートクレーブ内の空気を最初窒素、次いで水
素で置換し水素を４５ Ｋｇ／ｃｗｒ２Ｇ まで導入し
た。（尚、水素ガスは１ ｓ ｏ Ｋｑ／儒２Ｇに充填
されたヂンペより定圧弁を経由して反応圧力が一定にな
る様に供給される。）次にヒーターで加熱して昇温し、
同時 ５− に攪拌機によって反応器内を回転数Ｉ Ｑ ００ＲＰＭ
で攪拌した。昇温開始後、１５分で設定温度１００℃に
到達したので反応開始とした。反応中は温度、圧力を保
持する様に調整しなから水添を行った。
反応開始後、１時間経過した時点で水素の供給を停止し
オートクレーブを冷却し反応を停止した。
オートクレーブを冷却し反応を停止した。
反応終了後、反応液の重量測定、ガスクロマトグラフで
の分析結果から、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率でｉｏ
ｏ係、ＤＭＨＭＤの選択率で８３．４％、ＤＭＨＭＩの
選択率で１６．１係であった。
の分析結果から、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率でｉｏ
ｏ係、ＤＭＨＭＤの選択率で８３．４％、ＤＭＨＭＩの
選択率で１６．１係であった。
実施例２
実施例１と同一オートクレープに実施例１と同一のラネ
ーニッケル触媒の水スラリー１．１１ （ラネーニッケ
ルｏ、ｓｙ、水０．６ ｙ ）とＤＭＡＤＮｌ ０ｙを
仕込み、このオートクレーブをメタノール−Ｐライアイ
ス溶液で一４０℃以下に冷却し、液体アンモニア５ｇを
仕込み密閉する。次に冷却している間にオートクレーブ
内の空気を最初窒素、次いで水素で置換し水素を１００
Ｋ１７ｃｍ”Ｇまで導入した後、水素の供給を停止し
た。次にヒーターで ６− 加熱して昇温し攪拌を開始した。昇温開始後３０分で設
定温度である１２０℃に到達したので反応開始とした。
ーニッケル触媒の水スラリー１．１１ （ラネーニッケ
ルｏ、ｓｙ、水０．６ ｙ ）とＤＭＡＤＮｌ ０ｙを
仕込み、このオートクレーブをメタノール−Ｐライアイ
ス溶液で一４０℃以下に冷却し、液体アンモニア５ｇを
仕込み密閉する。次に冷却している間にオートクレーブ
内の空気を最初窒素、次いで水素で置換し水素を１００
Ｋ１７ｃｍ”Ｇまで導入した後、水素の供給を停止し
た。次にヒーターで ６− 加熱して昇温し攪拌を開始した。昇温開始後３０分で設
定温度である１２０℃に到達したので反応開始とした。
反応開始後、２時間経過後反応を停止し、次に、アンモ
ニアを追い出し反応液を取り出して分析した。反応成績
としては、ＤＭＡＤＮの転化率で１００係、ＤＭＨＭＤ
の選択率で８７．０係、ＤＭＨＭＩの選択率で１２．１
係であった。
ニアを追い出し反応液を取り出して分析した。反応成績
としては、ＤＭＡＤＮの転化率で１００係、ＤＭＨＭＤ
の選択率で８７．０係、ＤＭＨＭＩの選択率で１２．１
係であった。
実施例３
実施例１のラネーニッケル触媒の水スラリー〇、８ｙか
らラネーコノζシト触媒の水スラリー０．８ｙ（ラネー
コノ々ルト０．２５Ｐｓ水ｏ、ｓｓ ｙ ）へ、反応温
度１００℃から１４０℃へ変更する以外は全て実施例１
と同一条件で水素添加反応を行ったところ、反応成績は
ＤＭＡＤＮの転化率でｌｏｏ％、ＤＭｆ（ＭＤの選択率
で９３．７係、ＤＭＨＭＩの選択率で５．９ ｑｂであ
った。
らラネーコノζシト触媒の水スラリー０．８ｙ（ラネー
コノ々ルト０．２５Ｐｓ水ｏ、ｓｓ ｙ ）へ、反応温
度１００℃から１４０℃へ変更する以外は全て実施例１
と同一条件で水素添加反応を行ったところ、反応成績は
ＤＭＡＤＮの転化率でｌｏｏ％、ＤＭｆ（ＭＤの選択率
で９３．７係、ＤＭＨＭＩの選択率で５．９ ｑｂであ
った。
実施例４
実施例２のラネーニッケル触媒の水スラリー１．１ｙか
らラネーコ・ζルト触媒の水スラリー１６２ｙ（ラネー
コ・々ルト０，５ｙ、水０．７１ ）へ変（する以外は
全て実施例２と同一条件で水素添加反応を行なったとこ
ろ、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率で１００係、ＤＭＨ
ＭＤの選択率で９７．３係、ＤＭＨＭＩの選択率で１．
６％であった。
らラネーコ・ζルト触媒の水スラリー１６２ｙ（ラネー
コ・々ルト０，５ｙ、水０．７１ ）へ変（する以外は
全て実施例２と同一条件で水素添加反応を行なったとこ
ろ、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率で１００係、ＤＭＨ
ＭＤの選択率で９７．３係、ＤＭＨＭＩの選択率で１．
６％であった。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- ジメチルアジポニトリルをアンモニアの存在下で、ラネ
ー触媒を用いて水素添加することを特徴とするジメチル
へキサメチレンジアミンの製法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58156277A JPS6048953A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58156277A JPS6048953A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048953A true JPS6048953A (ja) | 1985-03-16 |
Family
ID=15624295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58156277A Pending JPS6048953A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048953A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032145A (ja) * | 1989-02-07 | 1991-01-08 | W R Grace & Co | ポリアミンの製造 |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP58156277A patent/JPS6048953A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032145A (ja) * | 1989-02-07 | 1991-01-08 | W R Grace & Co | ポリアミンの製造 |
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