JPS6049601A - 厚膜抵抗層形成用ペ−スト - Google Patents
厚膜抵抗層形成用ペ−ストInfo
- Publication number
- JPS6049601A JPS6049601A JP58155724A JP15572483A JPS6049601A JP S6049601 A JPS6049601 A JP S6049601A JP 58155724 A JP58155724 A JP 58155724A JP 15572483 A JP15572483 A JP 15572483A JP S6049601 A JPS6049601 A JP S6049601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paste
- resistance layer
- thick film
- film resistance
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 6
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N gold platinum Chemical compound [Pt].[Au] JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- SKWCWFYBFZIXHE-UHFFFAOYSA-K indium acetylacetonate Chemical compound CC(=O)C=C(C)O[In](OC(C)=CC(C)=O)OC(C)=CC(C)=O SKWCWFYBFZIXHE-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 244000283070 Abies balsamea Species 0.000 description 4
- 235000007173 Abies balsamea Nutrition 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004857 Balsam Substances 0.000 description 2
- 239000001293 FEMA 3089 Substances 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000171 lavandula angustifolia l. flower oil Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010668 rosemary oil Substances 0.000 description 2
- 229940058206 rosemary oil Drugs 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000000341 volatile oil Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004858 Canada balsam Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 235000014150 Myroxylon pereirae Nutrition 0.000 description 1
- 244000302151 Myroxylon pereirae Species 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- 241000779819 Syncarpia glomulifera Species 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N abietic acid Chemical compound C([C@@H]12)CC(C(C)C)=CC1=CC[C@@H]1[C@]2(C)CCC[C@@]1(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000003872 anastomosis Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010624 camphor oil Substances 0.000 description 1
- 229960000411 camphor oil Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 gold-platinum organometallic compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001739 pinus spp. Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229940036248 turpentine Drugs 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えはチューナ、ホームコンバーター、I(
、I、C回路ブロック用などの厚膜抵抗層を形成するた
めのペーストに関する。
、I、C回路ブロック用などの厚膜抵抗層を形成するた
めのペーストに関する。
従来の厚膜抵抗層材料としては、カーがンと合成樹脂の
混合物からなる低温用のもの、あるいは酸化ルテニウム
や他のルテニウム化合物とガラス7リツトとの混合物、
または銀−パラジウム合金とガラスフリットとの混合物
にどからなる高温用のものがある。
混合物からなる低温用のもの、あるいは酸化ルテニウム
や他のルテニウム化合物とガラス7リツトとの混合物、
または銀−パラジウム合金とガラスフリットとの混合物
にどからなる高温用のものがある。
ところがこれら従来の厚膜抵抗層材料では形成された抵
抗層の寸法精度が低く、特に微細なパターンには不向き
である。寸法精度を高めるためには薄膜形成法を用いる
必要があり、そうすれば製造上のコスト高を招くなどの
欠点全有している。
抗層の寸法精度が低く、特に微細なパターンには不向き
である。寸法精度を高めるためには薄膜形成法を用いる
必要があり、そうすれば製造上のコスト高を招くなどの
欠点全有している。
本発明の目的は上記従来技術の欠点を解消し、寸法精度
の高い厚膜抵抗層が量産性よく生産できる厚膜抵抗層形
成用ペーストを提供するにある。
の高い厚膜抵抗層が量産性よく生産できる厚膜抵抗層形
成用ペーストを提供するにある。
この目的を達成するために、本発明は、貴金属有機化合
物と、卑金属有機化合物と、これら有機化合物を溶解す
る有機液体との混合組成物からなることを特徴とするも
のである。
物と、卑金属有機化合物と、これら有機化合物を溶解す
る有機液体との混合組成物からなることを特徴とするも
のである。
本発明で用いられる貴金属有機化合物としてit金−白
金有機金属化合物が好適である。この有機化合物はバル
サム、ロジン、テレピン油の混合樹脂にイオウを作用し
て伺だ硫化樹脂と、塩化金ならひに塩化合金の混合物を
化学反応させることによって得られる。前記パルサムと
は種々の植物から分泌される粘稠性の液体で、固形樹脂
が揮発油に溶解したものであシ、代表的力ものは松脂で
、ソレハカナダバルサム、ペルーバルサム、)−/L/
バルサムなどがある。
金有機金属化合物が好適である。この有機化合物はバル
サム、ロジン、テレピン油の混合樹脂にイオウを作用し
て伺だ硫化樹脂と、塩化金ならひに塩化合金の混合物を
化学反応させることによって得られる。前記パルサムと
は種々の植物から分泌される粘稠性の液体で、固形樹脂
が揮発油に溶解したものであシ、代表的力ものは松脂で
、ソレハカナダバルサム、ペルーバルサム、)−/L/
バルサムなどがある。
本発明で用いられる卑金属有機化合物としては、樹脂酸
クロム、樹脂酸ビスマス、アルミニウムアセチルアセト
ナート、インジウムアセチルアセトナート、エトキシシ
ランなどが用いられる。前記樹脂酸クロムは、ロジンと
硝酸クロムを反応させた金属石ケンの1種で、主成分は
アビエチン酸クロムとα−ビマール酸クりムである。
クロム、樹脂酸ビスマス、アルミニウムアセチルアセト
ナート、インジウムアセチルアセトナート、エトキシシ
ランなどが用いられる。前記樹脂酸クロムは、ロジンと
硝酸クロムを反応させた金属石ケンの1種で、主成分は
アビエチン酸クロムとα−ビマール酸クりムである。
本発明で用いられる有機液体(溶媒)としては、ブチル
カルピトール、ブチルアルビトール、植物精油(ラベン
ダー油、樟脳油、ローズマリー油、ロー2パ油、テレピ
ン油)などが用いられる。
カルピトール、ブチルアルビトール、植物精油(ラベン
ダー油、樟脳油、ローズマリー油、ロー2パ油、テレピ
ン油)などが用いられる。
本発明に係るペーストの厚膜スクリーン印刷性を向上す
るため、ニトロセルロースなどを添加するとよい。
るため、ニトロセルロースなどを添加するとよい。
次に本発明の実施例について説明する。
カナダバルサム、ロジン、テレピン油の混合樹脂にイオ
ウを加え、加熱反応させて硫化樹脂を作る。
ウを加え、加熱反応させて硫化樹脂を作る。
この樹脂と塩化金および塩化白金を、それぞれ金含有率
が8重!1%、白金含有率が4重量%になるように配合
し、150〜170℃で加熱反応させて金−白金有機金
属化合吻合つくる。この樹脂状化合物全ラベンダー油、
ローズマリー油などの溶剤に溶解し、金−白金含有率が
6重量%になるように調整する。こうして得られたもの
をペースト(1)とする。
が8重!1%、白金含有率が4重量%になるように配合
し、150〜170℃で加熱反応させて金−白金有機金
属化合吻合つくる。この樹脂状化合物全ラベンダー油、
ローズマリー油などの溶剤に溶解し、金−白金含有率が
6重量%になるように調整する。こうして得られたもの
をペースト(1)とする。
一方、卑金属有機化合物として樹脂酸クロム、アルミニ
ウムアセチルアセトナート、エトキシシランを用い、ニ
トロセルロースを添加し、ブチルカルピトールやブチル
カルピトールアセテートなどに溶解して、ペース) (
IQ kつくる。
ウムアセチルアセトナート、エトキシシランを用い、ニ
トロセルロースを添加し、ブチルカルピトールやブチル
カルピトールアセテートなどに溶解して、ペース) (
IQ kつくる。
被−スト(1)ならびにペースト(II)の主要成分の
含有率を次の表11表2に示す。
含有率を次の表11表2に示す。
表 1
表 2
このペースト(■)とペースト(II) ′(ll−所
定の割合に配合し、よく混練して抵抗材ペーストをつく
る。各配合比の抵抗材ペーストを基板に厚膜スクリーン
法で印刷し、700〜850℃で焼成して得られた厚膜
抵抗層のシート抵抗値を測定した結果を第1図に示す。
定の割合に配合し、よく混練して抵抗材ペーストをつく
る。各配合比の抵抗材ペーストを基板に厚膜スクリーン
法で印刷し、700〜850℃で焼成して得られた厚膜
抵抗層のシート抵抗値を測定した結果を第1図に示す。
図中のA点はペースト<1)とペースト(II)の配合
重量比が(I) : (II)= t : 4 、B、
点は同様に2:4.0点は3:4、D点は4:4、E点
は4:3、F点は4:2.02点は4:1、E点は4:
0のものの各抵抗層のシート抵抗値である。この図から
明らかなように、ペースト(I)とペース) (n)の
配合比を調整することによシ、約30Ω〜200MΩま
での極めて広範囲の抵抗値を有する抵抗層を得ることが
できる。
重量比が(I) : (II)= t : 4 、B、
点は同様に2:4.0点は3:4、D点は4:4、E点
は4:3、F点は4:2.02点は4:1、E点は4:
0のものの各抵抗層のシート抵抗値である。この図から
明らかなように、ペースト(I)とペース) (n)の
配合比を調整することによシ、約30Ω〜200MΩま
での極めて広範囲の抵抗値を有する抵抗層を得ることが
できる。
第2図は、前記ベース) (1)とベース) (TI)
の配合重量比が(1) : (損=4:4(D点)、4
:3(E点)、4:2(F点)の各抵抗層の温度係数(
TCR)を示す図で、各特性の抵抗層が得ら扛る。
の配合重量比が(1) : (損=4:4(D点)、4
:3(E点)、4:2(F点)の各抵抗層の温度係数(
TCR)を示す図で、各特性の抵抗層が得ら扛る。
第3図は、各抵抗層におけるシート抵抗値の信頼性を示
す図である。すなわち、同図C)は前記ペースト(1)
とペースト(II>の配合M量比が(I) : (If
) = 3:4、同図(ロ)は4:4、同図(うは4:
3、同図に)は4:2、同図に)は4:1の各抵抗層の
シート抵抗値の経時変化(ΔR)を測定したものである
。
す図である。すなわち、同図C)は前記ペースト(1)
とペースト(II>の配合M量比が(I) : (If
) = 3:4、同図(ロ)は4:4、同図(うは4:
3、同図に)は4:2、同図に)は4:1の各抵抗層の
シート抵抗値の経時変化(ΔR)を測定したものである
。
各図とも曲線Xは耐湿試験(試験条件40℃、60fO
R)I、負荷330 mw / mi)、1約Yは耐熱
試験(試験条件80℃、300 mw /7+1π)の
特性値である。
R)I、負荷330 mw / mi)、1約Yは耐熱
試験(試験条件80℃、300 mw /7+1π)の
特性値である。
この図から明らかなように、各組5にの抵抗層とも抵抗
値の変化が極めて小さく、安定した高信頼性の抵抗層が
得られる。
値の変化が極めて小さく、安定した高信頼性の抵抗層が
得られる。
第4図は本発明に係るイーストヲ基板上に厚膜スクリー
ン法で印刷し、焼成したのちホトリングラフィでノ9タ
ーンニングしたときの抵抗層の表面状態を示す図である
。同図H’) 、(ロ)は抵抗層の任意の個所の表面状
態を表わしており、(イ)のものは膜厚(T)が3.4
00人、(ロ)のものは2,700^で、いずれの個所
も表面粗さは200大以下と極めて平滑で寸法精度が高
い。
ン法で印刷し、焼成したのちホトリングラフィでノ9タ
ーンニングしたときの抵抗層の表面状態を示す図である
。同図H’) 、(ロ)は抵抗層の任意の個所の表面状
態を表わしており、(イ)のものは膜厚(T)が3.4
00人、(ロ)のものは2,700^で、いずれの個所
も表面粗さは200大以下と極めて平滑で寸法精度が高
い。
本発明に係る厚膜抵抗層形成用ペーストは、前述のよう
に優れた特性ケ有するとともに、量産性に優れた厚膜ス
クリーン印刷法が適用可能で、しかもホトリングラフィ
によるパターンニングができるから寸法精度の高い厚膜
抵抗層が得られる々どの特長を有している。
に優れた特性ケ有するとともに、量産性に優れた厚膜ス
クリーン印刷法が適用可能で、しかもホトリングラフィ
によるパターンニングができるから寸法精度の高い厚膜
抵抗層が得られる々どの特長を有している。
第1図は本発明に係るペーストラ用いた各抵抗層のシー
ト抵抗値特性図、第2図はその抵抗層の温度係数特性図
、第3図(イ)〜(ホ)はその抵抗層の信頼特性図、第
4図0)、(ロ)はその抵抗層の表面粗さを示す図であ
る。 第4 (イ) (ロ)
ト抵抗値特性図、第2図はその抵抗層の温度係数特性図
、第3図(イ)〜(ホ)はその抵抗層の信頼特性図、第
4図0)、(ロ)はその抵抗層の表面粗さを示す図であ
る。 第4 (イ) (ロ)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 貴金属有機化合物と、卑金属有機化合物と、こ
れら有機化合物を溶解する有機液体との混合組成物から
なることを特徴とする厚膜抵抗層形成用ペースト。 (2、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記貴
金属有機化合物が金−白金有機金属化合物であることを
特徴とする厚膜抵抗層形成用ペースト。 (3)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記卑
金属有機化合物が樹脂酸クロム、樹脂酸ビスマス、アル
ミニウム、アセチルアセトナート、インジウムアセチル
アセトナート、エトキシシランのグループから選択され
た化合物であることを特徴とする厚膜抵抗層形成用ペー
スト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155724A JPS6049601A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155724A JPS6049601A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6049601A true JPS6049601A (ja) | 1985-03-18 |
Family
ID=15612078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58155724A Pending JPS6049601A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049601A (ja) |
-
1983
- 1983-08-27 JP JP58155724A patent/JPS6049601A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4072771A (en) | Copper thick film conductor | |
| KR890000725B1 (ko) | 두꺼운 막의 오버글레이즈(overglaze) 잉크 | |
| KR890001785B1 (ko) | 저항값을 갖는 개량된 저항체 잉크 | |
| JPS63184301A (ja) | 厚膜低抗塗料およびこれから製造した低抗体 | |
| US4107387A (en) | Resistance material | |
| US4160227A (en) | Thermistor composition and thick film thermistor | |
| JPH01502361A (ja) | 高い応答速度を有する抵抗式ガスセンサ用半導体 | |
| US4587040A (en) | Thick film thermistor composition | |
| JPS6049601A (ja) | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト | |
| JPS6063174A (ja) | サ−マルヘッドの製法 | |
| DE2553763C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Schaltung | |
| JPS5815576A (ja) | 空気中で▲か▼焼し得る電気回路形成用インク | |
| JPH01502362A (ja) | ガスセンサ用の不活性、触媒作用性またはガス感受性セラミツク層の製造法 | |
| JPH0252403A (ja) | 電子部品 | |
| JPS60102702A (ja) | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト | |
| JP3246245B2 (ja) | 抵抗体 | |
| JPH08166295A (ja) | 温度センサ | |
| JP2526431B2 (ja) | 抵抗体およびその製造方法 | |
| JPS60102701A (ja) | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト | |
| SU834773A1 (ru) | Материал дл толстопленочныхРЕзиСТОРОВ | |
| JPS63187601A (ja) | 厚膜回路板およびその製法 | |
| JPH05101905A (ja) | 厚膜サーミスタペースト組成物およびそれを用いた厚膜サーミスタ | |
| JPS63202001A (ja) | 厚膜抵抗組成物、厚膜抵抗体、並びに厚膜ハイブリッドic | |
| JPH0279403A (ja) | 可変抵抗器用抵抗体及びその形成方法 | |
| JPS581521B2 (ja) | サ−ミスタ組成物 |