JPS60102702A - 厚膜抵抗層形成用ペ−スト - Google Patents
厚膜抵抗層形成用ペ−ストInfo
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- JPS60102702A JPS60102702A JP58209845A JP20984583A JPS60102702A JP S60102702 A JPS60102702 A JP S60102702A JP 58209845 A JP58209845 A JP 58209845A JP 20984583 A JP20984583 A JP 20984583A JP S60102702 A JPS60102702 A JP S60102702A
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Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えばチューナ、ホームコンバーター、集積
回路ブロック用などの厚膜抵抗層を形成するためのペー
ストに関する。
回路ブロック用などの厚膜抵抗層を形成するためのペー
ストに関する。
従来の厚膜抵抗層材料としては、カーボンと合成樹脂の
混合物からなる低温用のもの、あるいは酸化ルテニウム
や他のルテニウム化合物とガラス７リツＦとの混合物、
または銀−パラジウム合金とガラス７リツトとの混合物
などからなる高混用のものがある。
混合物からなる低温用のもの、あるいは酸化ルテニウム
や他のルテニウム化合物とガラス７リツＦとの混合物、
または銀−パラジウム合金とガラス７リツトとの混合物
などからなる高混用のものがある。
ところがこれら従来の厚膜抵抗層材料では形成された抵
抗層の寸法精度が低く、特に微細なパターンには不向き
である。寸法精度を高めるためには薄膜形成法を用いる
必要があり、そうすれば製造上のコスト高を招くなどの
欠点を有している。
抗層の寸法精度が低く、特に微細なパターンには不向き
である。寸法精度を高めるためには薄膜形成法を用いる
必要があり、そうすれば製造上のコスト高を招くなどの
欠点を有している。
本発明の目的は上記従来技術の欠点を解消し、寸法精度
の高い厚膜抵抗層が量産性よく生産できる厚膜抵抗層形
成用ペーストを提供するにある。
の高い厚膜抵抗層が量産性よく生産できる厚膜抵抗層形
成用ペーストを提供するにある。
この目的を達成するために、本発明は金、白金、パラジ
ウムおよびロジウムを含む貴金属有機化合物と、ウラン
およびビスマスを含む卑金属有機化合物と、これら有機
化合物を溶解する有機液体とを有することを特徴とする
ものである。
ウムおよびロジウムを含む貴金属有機化合物と、ウラン
およびビスマスを含む卑金属有機化合物と、これら有機
化合物を溶解する有機液体とを有することを特徴とする
ものである。
本発明で用いられる貴金属有機化合物としては、例えば
全樹脂酸塩、白金樹脂酸塩、パラジウム樹脂酸塩および
ロジウム樹脂酸塩が好適である。これら貴金属樹脂酸塩
は、バルサム、ロジン、テレピン油の混合樹脂にイオウ
を作用して得た硫化樹脂と、塩化金、塩化白金、硝酸パ
ラジウム、硝酸ロジウムをそれぞれ１５０〜１７０℃で
加熱反応させ、これらの樹脂状化合物をターピネオール
、ローズ油などの香油に溶解させることによって得られ
る。前記バルサムとは種々の植物から分泌される粘稠性
の液体で、固形樹脂が揮発油に溶解したものであり、代
表的なものが松脂で、それにはカナダバルサム、ペルー
バルサム、１・−ルバルサムなどがある。
全樹脂酸塩、白金樹脂酸塩、パラジウム樹脂酸塩および
ロジウム樹脂酸塩が好適である。これら貴金属樹脂酸塩
は、バルサム、ロジン、テレピン油の混合樹脂にイオウ
を作用して得た硫化樹脂と、塩化金、塩化白金、硝酸パ
ラジウム、硝酸ロジウムをそれぞれ１５０〜１７０℃で
加熱反応させ、これらの樹脂状化合物をターピネオール
、ローズ油などの香油に溶解させることによって得られ
る。前記バルサムとは種々の植物から分泌される粘稠性
の液体で、固形樹脂が揮発油に溶解したものであり、代
表的なものが松脂で、それにはカナダバルサム、ペルー
バルサム、１・−ルバルサムなどがある。
一方、卑金属化合物としては、硝酸ビスマスとロジンな
加熱反応して得た樹脂酸ビスマスと、硝酸ウラニルとロ
ジンを加熱反応して得た樹脂酸ウランが好適である。
加熱反応して得た樹脂酸ビスマスと、硝酸ウラニルとロ
ジンを加熱反応して得た樹脂酸ウランが好適である。
本発明で用いられる有機液体（溶媒）としては、植物精
油（ラベンダー油、樟脳油、ローズマリー油、ローズ油
、テレピン油）、ブチルカルピトール、ブチルアルビト
ールなどがある。
油（ラベンダー油、樟脳油、ローズマリー油、ローズ油
、テレピン油）、ブチルカルピトール、ブチルアルビト
ールなどがある。
本発明に係るペーストの厚膜スクリーン印刷性を向上す
るため二）ロセル四−ズ、ビークルなどを添加するとよ
い。
るため二）ロセル四−ズ、ビークルなどを添加するとよ
い。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例１
アルミナ基板１上にホウケイ酸ガラスからなるアンダー
グレーズ層２を所定の厚さ形成し、そのアンダーグレー
ズ層２の所定の位置に金電極３を設ける。次に後記組成
ペーストな厚膜スクリーン法で印刷し、１２０℃で１５
分間乾燥したのち、７００〜８００℃で１０〜２０分間
焼成して、その後薄膜抵抗体形成法と同様に７オ） Ｉ
Ｊングラフイー技術な用いてパターンニングすることに
より、所定の形状の厚膜抵抗層４な得る。
グレーズ層２を所定の厚さ形成し、そのアンダーグレー
ズ層２の所定の位置に金電極３を設ける。次に後記組成
ペーストな厚膜スクリーン法で印刷し、１２０℃で１５
分間乾燥したのち、７００〜８００℃で１０〜２０分間
焼成して、その後薄膜抵抗体形成法と同様に７オ） Ｉ
Ｊングラフイー技術な用いてパターンニングすることに
より、所定の形状の厚膜抵抗層４な得る。
表１ ペースト組成表
前記抵抗層４の平均膜厚は２０００Ａ、面積抵抗値１３
Ω、温度係数ＴＯＲは＋４６６ＰＰＭ／℃であった。第
３図（イ）、（ロ）はこの抵抗層４の任意の個所の表面
状態を示すもので、いずれの個所も表面粗さは約１００
Ａ以下と極めて平滑で寸法精度が高い。
Ω、温度係数ＴＯＲは＋４６６ＰＰＭ／℃であった。第
３図（イ）、（ロ）はこの抵抗層４の任意の個所の表面
状態を示すもので、いずれの個所も表面粗さは約１００
Ａ以下と極めて平滑で寸法精度が高い。
実施例２
後記組成のペーストを用い、実施例１と同様の厚膜抵抗
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
表２ ペースト組成表
この抵抗層の平均膜厚は１．８０ＯＡ、表面抵抗値は６
７Ω、温度係数ＴＯＲは＋３７３ＰＰＭ／℃であった。
７Ω、温度係数ＴＯＲは＋３７３ＰＰＭ／℃であった。
実施例３
後記組成のペーストを用い、実施例１と同様の厚膜抵抗
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
表３ ペースト組成表
この抵抗層の平均膜厚はｉ、９ｏｏＸ、表面抵抗値は２
５０Ω、温度係数ＴＯＲは＋ａｏＯＰＰＭ／℃であった
。
５０Ω、温度係数ＴＯＲは＋ａｏＯＰＰＭ／℃であった
。
実施例４
後記組成のペーストを用い、実施例１と同様の厚膜抵抗
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
層を得た。この抵抗層も高い寸法精度を有している。
この抵抗層の平均膜厚は１，８００Ａ、表面抵抗値は７
００Ω、温度係数ＴＣＲは＋２２０ＰＰＭ／℃であった
。
００Ω、温度係数ＴＣＲは＋２２０ＰＰＭ／℃であった
。
前記の各実施例から明らかなように、ペースト組成を若
干変更することにより、各特性の厚膜抵抗層が得られる
。なお、本発明に係るペーストにおいては、ペースト中
の金属含有率は金が約２゜３〜２．９重量％、パラジウ
ムが約０．２〜０４重量％白金が約０２〜０．４重Ｈｓ
、ロジウムが約００４〜００８重量ヂ、ビスマスが約０
３〜０．８重量％、ウランが約０．２〜０．６重量％が
好適である。またペースト中のニトロセルｐ−ス含有率
は約２〜５重量％が好適である。
干変更することにより、各特性の厚膜抵抗層が得られる
。なお、本発明に係るペーストにおいては、ペースト中
の金属含有率は金が約２゜３〜２．９重量％、パラジウ
ムが約０．２〜０４重量％白金が約０２〜０．４重Ｈｓ
、ロジウムが約００４〜００８重量ヂ、ビスマスが約０
３〜０．８重量％、ウランが約０．２〜０．６重量％が
好適である。またペースト中のニトロセルｐ−ス含有率
は約２〜５重量％が好適である。
本発明は前述のような構成になっており、寸法精度の高
い厚ｊ換抵抗層が鑓産性よく生産できる厚膜抵抗層形成
用ペーストを提供することができる。
い厚ｊ換抵抗層が鑓産性よく生産できる厚膜抵抗層形成
用ペーストを提供することができる。
第１図および第２図は本発明の実施例に係るサーマルヘ
ッド用厚膜抵抗層の平面図および断面図、第３図は抵抗
層の任意の個所の表面状態を示す説明図である。 ■・・・・・・アルミナ基板、３・・・・・・金電極、
４・・・・・・厚膜抵抗層。 〜） 、鰍
ッド用厚膜抵抗層の平面図および断面図、第３図は抵抗
層の任意の個所の表面状態を示す説明図である。 ■・・・・・・アルミナ基板、３・・・・・・金電極、
４・・・・・・厚膜抵抗層。 〜） 、鰍
Claims (1)
- 金、白金、パラジウムおよびロジウムを含む貴金属有機
化合物と、ウランおよびビスマスを含む卑金属有機化合
物と、これら有機化合物を溶解する有機液体とを有する
厚膜抵抗層形成用ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58209845A JPS60102702A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58209845A JPS60102702A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60102702A true JPS60102702A (ja) | 1985-06-06 |
| JPH023523B2 JPH023523B2 (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=16579568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58209845A Granted JPS60102702A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 厚膜抵抗層形成用ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60102702A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286401A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Fuji Xerox Co Ltd | サーマルヘッド |
| US5510823A (en) * | 1991-03-07 | 1996-04-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Paste for resistive element film |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104246479B (zh) | 2012-04-18 | 2016-10-19 | 奥林巴斯株式会社 | 利用光分析的单个粒子检测装置、单个粒子检测方法以及单个粒子检测用计算机程序 |
-
1983
- 1983-11-10 JP JP58209845A patent/JPS60102702A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286401A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Fuji Xerox Co Ltd | サーマルヘッド |
| US5510823A (en) * | 1991-03-07 | 1996-04-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Paste for resistive element film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH023523B2 (ja) | 1990-01-24 |
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