JPS6050770B2 - エタノ−ルを製造する方法 - Google Patents
エタノ−ルを製造する方法Info
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はメタノール、一酸化炭素および水素からエタ
ノールを選択的に製造する方法に関する。
ノールを選択的に製造する方法に関する。
メタノール、一酸化炭素および水素を炭化水素溶媒中
コバルト−ハロゲン化物一第3ホスフィン触媒の存在下
反応させてエタノールを製造する方法は特開昭50−1
49213として知られている。 しかしながらこの方
法においては目的とするエタノール以外にジメチルエー
テル、メチルエーテル、ジエチルエーテル、アセトアル
デヒド、ジメトキシエタン、酢酸、酢酸メチル、酢酸エ
チル、ギ酸メチル、その他Co以上の化合物など多数の
副生物が同時に生成し、遊離のエタノールヘの選択性が
低く、かつ、反応生成物からのエタノールの分離に複雑
な工程を要するなどの欠点がある。 更に近年、ヨウ化
物の存在下、コバルト触媒に助触媒として安価な鉄又は
ニッケルを使用する方法が特開昭56−115730と
して開示されている。この方法は鉄−コバルトカルボニ
ル錯体を触媒として、ヨウ化物のモル数対鉄とコバルト
の原子比が0.5: 1〜100: 1の範囲のヨウ化
物の存在下で反 応させる方法である。しかし、この方
法ではガスクロマトグラフによる分析では検出下可能な
高沸点生成物が多くエタノールヘの選択率は必ずしも高
くない。 又、英国特許2、036、739にはコバル
トとルテニウム又はオスミウムを組合せた触媒を使用し
、促進剤として第3ホスフィンの存在下、ヨウ化物対コ
バルトのモル3:1〜1:10の範囲のヨウ化物の存在
下で反応させる方法が開示され、ルテニウム又はオスミ
ウムの代りに鉄又はニッケル等の第8族金属も使用しう
る旨記載されている。
コバルト−ハロゲン化物一第3ホスフィン触媒の存在下
反応させてエタノールを製造する方法は特開昭50−1
49213として知られている。 しかしながらこの方
法においては目的とするエタノール以外にジメチルエー
テル、メチルエーテル、ジエチルエーテル、アセトアル
デヒド、ジメトキシエタン、酢酸、酢酸メチル、酢酸エ
チル、ギ酸メチル、その他Co以上の化合物など多数の
副生物が同時に生成し、遊離のエタノールヘの選択性が
低く、かつ、反応生成物からのエタノールの分離に複雑
な工程を要するなどの欠点がある。 更に近年、ヨウ化
物の存在下、コバルト触媒に助触媒として安価な鉄又は
ニッケルを使用する方法が特開昭56−115730と
して開示されている。この方法は鉄−コバルトカルボニ
ル錯体を触媒として、ヨウ化物のモル数対鉄とコバルト
の原子比が0.5: 1〜100: 1の範囲のヨウ化
物の存在下で反 応させる方法である。しかし、この方
法ではガスクロマトグラフによる分析では検出下可能な
高沸点生成物が多くエタノールヘの選択率は必ずしも高
くない。 又、英国特許2、036、739にはコバル
トとルテニウム又はオスミウムを組合せた触媒を使用し
、促進剤として第3ホスフィンの存在下、ヨウ化物対コ
バルトのモル3:1〜1:10の範囲のヨウ化物の存在
下で反応させる方法が開示され、ルテニウム又はオスミ
ウムの代りに鉄又はニッケル等の第8族金属も使用しう
る旨記載されている。
しかしながら、本発明者の検討によれば、特許請求の範
囲に記載されたような多量のヨウ化物の存在下で、ルテ
ニウム又はオスミウムの代りに鉄又はニッケルを助触媒
とした場合はアセトアルデヒド、ジメトキシエタンの生
成が多くなり、遊離のエタノール含量が極端に低い。
本発明者はこのような欠点を解消すべく研究の結果、メ
タノール、一酸化炭素及び水素を、1コ・バルト、2鉄
及び/又はニッケル、及び3第3ホスフィンを有効成分
とする触媒の存在下反応させることにより副生成物が少
なく高い選択率でエタノールを製造し得ることを見出し
、既に特願昭57−17412として特許出願したが、
上記触媒系に第、3アミンを添加することにより更に遊
離エタノールの選択性を向上させ得ることを見出し本発
明を完成した。
囲に記載されたような多量のヨウ化物の存在下で、ルテ
ニウム又はオスミウムの代りに鉄又はニッケルを助触媒
とした場合はアセトアルデヒド、ジメトキシエタンの生
成が多くなり、遊離のエタノール含量が極端に低い。
本発明者はこのような欠点を解消すべく研究の結果、メ
タノール、一酸化炭素及び水素を、1コ・バルト、2鉄
及び/又はニッケル、及び3第3ホスフィンを有効成分
とする触媒の存在下反応させることにより副生成物が少
なく高い選択率でエタノールを製造し得ることを見出し
、既に特願昭57−17412として特許出願したが、
上記触媒系に第、3アミンを添加することにより更に遊
離エタノールの選択性を向上させ得ることを見出し本発
明を完成した。
即ち本発明はメタノール、一酸化炭素および水素を、1
コバルト、2鉄及び/又はニッケル、3第3ホスフィン
及び4第3アミンを有効成分とする触媒の存在下反応さ
せる方法である。本発明においてヨウ素の存在は必要で
はないが、ヨウ素/コバルトの原子比が0.1以下であ
ればエタノールへの選択率にはさ程影響はない。本発明
において使用するコバルト触媒としてはジコバルトオク
タカルボニル、コバルトヒドリドテトラカルボニルなど
のコバルトカルボニルの外、水酸化コバルト、炭酸コバ
ルト、塩基性炭酸コバルト、ハロゲン化コバルトの如き
無機コバルト化合物、コバルト有機酸塩、コバルトセン
、コバルトアセチルアセトネートの如き有機コバルト化
合物など、反応系内でコバルトカルボニルを生成する種
々のコバルト化合物を使用しうる。但し、ヨウ化コバル
トを使用する場合は、他のコバルト化合物を併用してヨ
ウ素対コバルトの原子比を0.1以下に対応させる必要
がある。コバルト化合物の使用量はメタノール1モルに
対し、コバルト原子換算1〜300m9原子、好ましく
は5〜100mg原子てある。
コバルト、2鉄及び/又はニッケル、3第3ホスフィン
及び4第3アミンを有効成分とする触媒の存在下反応さ
せる方法である。本発明においてヨウ素の存在は必要で
はないが、ヨウ素/コバルトの原子比が0.1以下であ
ればエタノールへの選択率にはさ程影響はない。本発明
において使用するコバルト触媒としてはジコバルトオク
タカルボニル、コバルトヒドリドテトラカルボニルなど
のコバルトカルボニルの外、水酸化コバルト、炭酸コバ
ルト、塩基性炭酸コバルト、ハロゲン化コバルトの如き
無機コバルト化合物、コバルト有機酸塩、コバルトセン
、コバルトアセチルアセトネートの如き有機コバルト化
合物など、反応系内でコバルトカルボニルを生成する種
々のコバルト化合物を使用しうる。但し、ヨウ化コバル
トを使用する場合は、他のコバルト化合物を併用してヨ
ウ素対コバルトの原子比を0.1以下に対応させる必要
がある。コバルト化合物の使用量はメタノール1モルに
対し、コバルト原子換算1〜300m9原子、好ましく
は5〜100mg原子てある。
これにより少なくても反応は進行するが、反応速度が遅
くなる。又この範囲より多くても悪影響はないが経済的
でない。本発明におけるニッケル又は鉄としてはニッケ
ル、鉄を含むものであればいずれも使用でき、例えば、
水酸化物、炭酸塩、ハロゲン化物の如き無機ニッケル又
は鉄化合物、酢酸ニッケル又は酢酸鉄の如き有機酸塩、
ニツケロンセン、フエロセン、ニッケル又は鉄アセチル
アセトネートの如き.有機ニッケル又は鉄化合物、ニッ
ケル又は鉄カルボニルなどである。
くなる。又この範囲より多くても悪影響はないが経済的
でない。本発明におけるニッケル又は鉄としてはニッケ
ル、鉄を含むものであればいずれも使用でき、例えば、
水酸化物、炭酸塩、ハロゲン化物の如き無機ニッケル又
は鉄化合物、酢酸ニッケル又は酢酸鉄の如き有機酸塩、
ニツケロンセン、フエロセン、ニッケル又は鉄アセチル
アセトネートの如き.有機ニッケル又は鉄化合物、ニッ
ケル又は鉄カルボニルなどである。
ニッケル、鉄又はそれらの化合物の使用量はメタノール
1モルに対し、ニッケル又は鉄原子換算0.1〜100
mg原子、好ましくは1〜30mg原子であ.る。
1モルに対し、ニッケル又は鉄原子換算0.1〜100
mg原子、好ましくは1〜30mg原子であ.る。
但し、ヨウ化ニッケル又はヨウ化鉄を使用する場合はヨ
ウ素対コバルトの原子比を0.1以下に対応させる必要
がある。本発明における第3ホスフィンとしては例えば
、トリーn−ブチルホスフィン、トリフェニル・ホスフ
ィン、トリ−バラートリルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、1,4−ビスジフエニルホスフイノブ
タン、1,6−ビスジフエニルホスフイノヘキサンなど
が使用しうる。
ウ素対コバルトの原子比を0.1以下に対応させる必要
がある。本発明における第3ホスフィンとしては例えば
、トリーn−ブチルホスフィン、トリフェニル・ホスフ
ィン、トリ−バラートリルホスフィン、トリシクロヘキ
シルホスフィン、1,4−ビスジフエニルホスフイノブ
タン、1,6−ビスジフエニルホスフイノヘキサンなど
が使用しうる。
第3ホスフィンの使用量はメタノール1モル当り、リン
原子として2〜600ミリグラム原子、好ましくは10
〜200ミリグラム原子である。
原子として2〜600ミリグラム原子、好ましくは10
〜200ミリグラム原子である。
これより少ない場合はエーテル類、エステル類の副生を
抑制する効果が少なく、この範囲より多い場合はメタノ
ール反応率およびエタノール選択率が低下し好ましくな
い。本発明における第3アミンとしてはトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ1ン、トルブ
チルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン
、ピリジン、ピコリン、ジピリジン、キノリンなどであ
る。
抑制する効果が少なく、この範囲より多い場合はメタノ
ール反応率およびエタノール選択率が低下し好ましくな
い。本発明における第3アミンとしてはトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ1ン、トルブ
チルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン
、ピリジン、ピコリン、ジピリジン、キノリンなどであ
る。
第3アミンの使用量はメタノール1モル当り、窒素原子
として0.1〜300m9原子、好ましくは1〜100
m9原子である。こより少ない場合は効果がなく、この
範囲より多い場合はメタノール反応率およびエタノール
選択率は共に低下する傾向がある。本発明を好適に実施
しうるコバルトニニツケル又は鉄:リンニアミンの原子
比は1:0.01〜0.5:0.1〜2:0.01〜2
、好ましくは1:0.05〜0.4:0.5〜1.5:
0。
として0.1〜300m9原子、好ましくは1〜100
m9原子である。こより少ない場合は効果がなく、この
範囲より多い場合はメタノール反応率およびエタノール
選択率は共に低下する傾向がある。本発明を好適に実施
しうるコバルトニニツケル又は鉄:リンニアミンの原子
比は1:0.01〜0.5:0.1〜2:0.01〜2
、好ましくは1:0.05〜0.4:0.5〜1.5:
0。
05〜1.0である。
この範囲外では、エーテル類、エステル類、高沸点生成
物の副生が多くなり好ましくない。本発明の方法は特に
溶媒を使用しなくても実施し得るが、反応に悪影響を及
ぼさない不活性溶媒の存在下で実施しても良い。
物の副生が多くなり好ましくない。本発明の方法は特に
溶媒を使用しなくても実施し得るが、反応に悪影響を及
ぼさない不活性溶媒の存在下で実施しても良い。
不活性溶媒としては特に炭化水素類、エーテル類、エス
テル類が使用出来る。
テル類が使用出来る。
炭化水素溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレンの
如き芳香族炭化水素、ヘキサン、オクタンの如き脂肪族
炭化水素及びシクロヘキサンの如き脂環式炭化水素など
が使用でき、エーテル溶媒としてはジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどが使用しうる。又エステル溶媒としては酢酸メ
チル、酢酸エチルなどが使用しうる。溶媒の使用量はメ
タノール1モル当り、0〜5モル、好ましくは0〜2モ
ルである。
如き芳香族炭化水素、ヘキサン、オクタンの如き脂肪族
炭化水素及びシクロヘキサンの如き脂環式炭化水素など
が使用でき、エーテル溶媒としてはジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどが使用しうる。又エステル溶媒としては酢酸メ
チル、酢酸エチルなどが使用しうる。溶媒の使用量はメ
タノール1モル当り、0〜5モル、好ましくは0〜2モ
ルである。
これより多い場合は反応に何ら差し支えないが、空時収
率が小さくなり、実用的でない。反応温度は使用する触
媒系及び他の反応条件により異なるが、一般に150′
C〜300℃、好ましくは200℃〜260゜Cである
。
率が小さくなり、実用的でない。反応温度は使用する触
媒系及び他の反応条件により異なるが、一般に150′
C〜300℃、好ましくは200℃〜260゜Cである
。
これ以下でも反応は進行するが、反応速度が遅くなる。
この範囲以上では副生物が多くなるので好ましくない。
反応圧力は50kg/d以上あればよく、上限は特にな
いが、実用的には150〜450k9/CTlの範囲が
好適てある。
この範囲以上では副生物が多くなるので好ましくない。
反応圧力は50kg/d以上あればよく、上限は特にな
いが、実用的には150〜450k9/CTlの範囲が
好適てある。
一酸化炭素:水素のモル比は4:1〜1:4、好ましく
は2:1〜1:3の範囲である。反応に使用する一酸化
炭素及び水素には、例えばアルゴン、窒素、炭酸ガス、
メタン及びエタンなど、反応に不活性なガスが混入して
いてもよいが、この場合には一酸化炭素及び水素の分圧
を*3上記の圧力範囲に対応させる必要がある。本発明
の方法は回分式および連続式のいずれにおいても実施で
きる。本発明によればメタノール、一酸化炭素及び水素
から選択的にエタノールを製造する事が出来る。
は2:1〜1:3の範囲である。反応に使用する一酸化
炭素及び水素には、例えばアルゴン、窒素、炭酸ガス、
メタン及びエタンなど、反応に不活性なガスが混入して
いてもよいが、この場合には一酸化炭素及び水素の分圧
を*3上記の圧力範囲に対応させる必要がある。本発明
の方法は回分式および連続式のいずれにおいても実施で
きる。本発明によればメタノール、一酸化炭素及び水素
から選択的にエタノールを製造する事が出来る。
以下に示す実施例および比較例におけるメタノール反応
率、エタノール選択率、実質メタノール反応率、実現可
能エタノール選択率は次の如く定義される。
率、エタノール選択率、実質メタノール反応率、実現可
能エタノール選択率は次の如く定義される。
実施例1
内容積100mtのステンレス製振とう式のオートクレ
レープにメタノール10y(0.3121モル)、トル
エン10ダ(イ).1086モル)、ジコバルトオクタ
カルボニル2y(イ).0058モル)、塩化ニッケル
0.46y(0.0019モル)、トリーn−ブチルホ
スフィン3y(イ).0148モル)、トリフェニルア
ミン、0.96y(0.0039モル)を仕込み、次に
水素と一酸化炭素との混合ガス(Fl2/COlモル比
=1)200k9/Cltを圧入し、230′Cで3時
間反応させた。
レープにメタノール10y(0.3121モル)、トル
エン10ダ(イ).1086モル)、ジコバルトオクタ
カルボニル2y(イ).0058モル)、塩化ニッケル
0.46y(0.0019モル)、トリーn−ブチルホ
スフィン3y(イ).0148モル)、トリフェニルア
ミン、0.96y(0.0039モル)を仕込み、次に
水素と一酸化炭素との混合ガス(Fl2/COlモル比
=1)200k9/Cltを圧入し、230′Cで3時
間反応させた。
反応後、オートクレーブを冷却して残留ガスをパージし
、反応生成液についてガスクロマトグラフによる内部標
準法にて分析を行なつた。その結果、メタノール反応率
25.9%、遊離エタノール82.7%となり、その他
の各成分への選択率はギ酸メチル1.0%、メチルエチ
ルエーテル3.0%、酢酸メチル0.9%、ジメトキシ
エタン1.7%、n−プロパノール2.2%であつた。
、反応生成液についてガスクロマトグラフによる内部標
準法にて分析を行なつた。その結果、メタノール反応率
25.9%、遊離エタノール82.7%となり、その他
の各成分への選択率はギ酸メチル1.0%、メチルエチ
ルエーテル3.0%、酢酸メチル0.9%、ジメトキシ
エタン1.7%、n−プロパノール2.2%であつた。
これは実質メタノール反応率24.5%、実現可能なエ
タノール選択率89.6%である。実施例2 実施例1のトリフェニルアミンの代りに、トリエチルア
ミン0.79y(0.0078モル)を加え、他は同じ
条件で反応を行なつた。
タノール選択率89.6%である。実施例2 実施例1のトリフェニルアミンの代りに、トリエチルア
ミン0.79y(0.0078モル)を加え、他は同じ
条件で反応を行なつた。
その結果、メタノール反応率20.2%、遊離エタノー
ル84.1%となり、その他の各成分への選択率はギ酸
メチル3.4%、メチルエチルエーテル0.9%、酢酸
メチル0.24%、n−プロパノール3.6%であつた
。
ル84.1%となり、その他の各成分への選択率はギ酸
メチル3.4%、メチルエチルエーテル0.9%、酢酸
メチル0.24%、n−プロパノール3.6%であつた
。
これは実質メタノール反応率19.4%、実現可能なエ
タノール選択率89.0%である。実施例3メタノール
10y(0.3121モル)、トルエン10y(イ).
1086モル)、ジコバルトオクタカルボニル2y(イ
).0058モル)、塩化鉄0.53q(0.0020
モル)、トリーn−ブチルホスフィン3y(0.014
8モル)、トリフェニルアミン0.48q(イ).00
20モル)を仕込み、次に水素と一酸化炭素との混合ガ
ス(H2/COlモル比=1.O)200kg/dを圧
入し、230゜Cで3時間反応させた。
タノール選択率89.0%である。実施例3メタノール
10y(0.3121モル)、トルエン10y(イ).
1086モル)、ジコバルトオクタカルボニル2y(イ
).0058モル)、塩化鉄0.53q(0.0020
モル)、トリーn−ブチルホスフィン3y(0.014
8モル)、トリフェニルアミン0.48q(イ).00
20モル)を仕込み、次に水素と一酸化炭素との混合ガ
ス(H2/COlモル比=1.O)200kg/dを圧
入し、230゜Cで3時間反応させた。
その結果、メタノール反応率27.7%、遊離エタノー
ル81.7%となり、その他の各成分への選択率はギ酸
メチル0.6%、メチルエチルエーテル1.7%、酢酸
メチル0.7%、ジメトキシエタン、0.8%、n−プ
ロパノール2.2%であつた。
ル81.7%となり、その他の各成分への選択率はギ酸
メチル0.6%、メチルエチルエーテル1.7%、酢酸
メチル0.7%、ジメトキシエタン、0.8%、n−プ
ロパノール2.2%であつた。
これは実質メタノール反応率26.6%、実現可能なエ
タノール選択率86.1%である。比較例1 内容積100m1のステンレス製オートクレーブにメタ
ノール10y(イ).3121モル)、トルエン10y
(イ).1086モル)、ジコバルトオクタカルボニル
2f(イ).0058モル)、トリーn−ブチルホスフ
ィン3y(4).0148モル)を仕込み、鉄又はニッ
ケル及び第3アミンを加えなかつた。
タノール選択率86.1%である。比較例1 内容積100m1のステンレス製オートクレーブにメタ
ノール10y(イ).3121モル)、トルエン10y
(イ).1086モル)、ジコバルトオクタカルボニル
2f(イ).0058モル)、トリーn−ブチルホスフ
ィン3y(4).0148モル)を仕込み、鉄又はニッ
ケル及び第3アミンを加えなかつた。
次に、水素と一酸化炭素との混合ガス(H2/COlモ
ル比=1.0)200kg/CTlを圧入し、230℃
で3時間反応させた。反応後、オートクレーブを冷却し
て残留ガスをパージし、反応生成液についてガスクロマ
トグラフによる内部標準法にて、分析を行なつた。その
結果、メタノール反応率28.7%、遊離エタノール5
6.3%となり、その他の各成分への選択率はギ酸メチ
ル7.0%、メチルエチルエーテル2.7%、酢酸メチ
ル0.6%、n−プロパノール1.2%であつた。これ
は実質メタノール反応率26.3%、実現可能なエタノ
ール選択率63.3%である。これから判断されるよう
に、鉄又はニッケル及び第3アミンが存在しないと、明
らかに遊離エタノール及び実現可能なエタノールの選択
率は低下している。比較例2 メタノール10y(0.3121モル)、トルエン10
f(イ).1086モル)、ジコバルトオクタカルボニ
ル2f(イ).0058モル)、塩化ニッケル0.46
y(4).0019モル)、トリーn−ブチルホスフィ
ン39(0.0148モル)を仕込み、第3アミンは加
えなかつた。
ル比=1.0)200kg/CTlを圧入し、230℃
で3時間反応させた。反応後、オートクレーブを冷却し
て残留ガスをパージし、反応生成液についてガスクロマ
トグラフによる内部標準法にて、分析を行なつた。その
結果、メタノール反応率28.7%、遊離エタノール5
6.3%となり、その他の各成分への選択率はギ酸メチ
ル7.0%、メチルエチルエーテル2.7%、酢酸メチ
ル0.6%、n−プロパノール1.2%であつた。これ
は実質メタノール反応率26.3%、実現可能なエタノ
ール選択率63.3%である。これから判断されるよう
に、鉄又はニッケル及び第3アミンが存在しないと、明
らかに遊離エタノール及び実現可能なエタノールの選択
率は低下している。比較例2 メタノール10y(0.3121モル)、トルエン10
f(イ).1086モル)、ジコバルトオクタカルボニ
ル2f(イ).0058モル)、塩化ニッケル0.46
y(4).0019モル)、トリーn−ブチルホスフィ
ン39(0.0148モル)を仕込み、第3アミンは加
えなかつた。
次に、水素と一酸化炭素との混合ガス(H2/CO、モ
ルニ1.0)200k9/Cltを圧入し、230℃で
3時間反応させた。その結果、メタノール反応率28.
6%、遊離エタノール75.8%となり、その他の各成
分への選択率はギ酸メチル0.8%、メチルエチルエー
テル1.8%、酢酸メチル0.9%、ジメトキシエタン
1.50%、n−プロパノール2.0%であつた。
ルニ1.0)200k9/Cltを圧入し、230℃で
3時間反応させた。その結果、メタノール反応率28.
6%、遊離エタノール75.8%となり、その他の各成
分への選択率はギ酸メチル0.8%、メチルエチルエー
テル1.8%、酢酸メチル0.9%、ジメトキシエタン
1.50%、n−プロパノール2.0%であつた。
Claims (1)
- 1 メタノール、一酸化炭素および水素を、1コバルト
、2鉄及び/又はニッケル、3第3ホスフィン及び4第
3アミンを有効成分とする触媒の存在下反応させること
を特徴とするエタノールを製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57220207A JPS6050770B2 (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | エタノ−ルを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57220207A JPS6050770B2 (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | エタノ−ルを製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59110637A JPS59110637A (ja) | 1984-06-26 |
| JPS6050770B2 true JPS6050770B2 (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=16747559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57220207A Expired JPS6050770B2 (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | エタノ−ルを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050770B2 (ja) |
-
1982
- 1982-12-17 JP JP57220207A patent/JPS6050770B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59110637A (ja) | 1984-06-26 |
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