JPS6051245B2 - NiZnフエライトの製造方法 - Google Patents

NiZnフエライトの製造方法

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JPS6051245B2
JPS6051245B2 JP52027012A JP2701277A JPS6051245B2 JP S6051245 B2 JPS6051245 B2 JP S6051245B2 JP 52027012 A JP52027012 A JP 52027012A JP 2701277 A JP2701277 A JP 2701277A JP S6051245 B2 JPS6051245 B2 JP S6051245B2
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hip
magnetic
ferrite
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sintered
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一憲 田原
志郎 村上
信行 山田
賢司 長谷川
勉 飯村
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Hitachi Metals Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は極めて高い焼結密度を有し、結晶粒径が均一
で特に高周波帯域における透磁率の損失項が小さく、著
しく高周波特性に優れたNiZnフェライトの製造方法
に係るものである。
近年、磁気記録応用分野の拡大および進展に伴なつて
、磁気テープを主体とした磁気記録媒体も著しい進歩を
とげ、高密度の記録が可能となつてきた。
記録媒体と共に、磁気記録に必要不可欠な磁気ヘッドに
ついても、高密度記録化に見合うだけの各種磁気特性、
高周波特性、耐摩耗性等の各種要求特性は厳しさの一途
を辿つている。こうした中で、フェライト磁気ヘッドは
、欠け、割れなどの脆さはあるが、周波数特性および耐
摩耗性に優れており、最近では特にMH2帯において優
れた周波数特性を有する磁気記録材料が要求される趨勢
にある。かかる要求特性を満足するためには、厳密な組
成的検討は勿論のこと、結晶粒径が均一で小さく、しか
も焼結密度がほぼ理論密度に等しいような極めて高密度
の焼結体でなければならない。NiZnフェライトは、
工業的には主として通常の乾式法によつて製造されてい
るが、この場合焼結密度は、99.2%程度が限度てあ
る。この方法による高密度焼結体は、焼結温度が高いた
め結晶粒子も大となり、しばしは高周波における透磁率
が著しく低下することになる。さらに高温で焼結した場
合には、還元相の一種である第2相の析出を伴なつて、
機械的強度に著しいバラツキが生じ、加工時に割れ、欠
けおよび結晶粒子の脱落等が生じることはよく知られて
おり、発明者達もかかる欠点を改善した。機械的強度大
なる酸化金属磁心材料をすでに特許として出願している
。 ところで高密度UiZnフェライトを製造する従来
法としては、共沈法もしくは空気酸化法等の湿式法によ
つて作成した粉末、または乾式法で得られた所定の組成
を有する仮焼粉をホットプレスによつて焼結し高密度化
する方法がある。この方法は通常の乾式法に比べて優れ
ており、平均結晶粒径5〜20μ程度、相対焼結密度9
9.0〜99.8%程度の焼結体を得ることができる。
しかしながら、ホットブレス法の難点は、加圧方法が静
水圧的ではないことから、複雑な形状の焼結体を得るこ
とができないこと、また装置的な制約から大型の焼結体
を得ることが困難であり、連続ホットブレスを用いても
工業的に得策ではない。この方法のさらに大きな欠点は
、フェライトをアルミナ等の粉末で被覆して熱間加圧を
おこなう必要があり、焼結時にフェライトと被覆材との
間で生じる固相反応を防止することが不可能な点である
。したがつて、焼結体の中心部と表面に近い部分とでは
、組織的にバラツキが生じ、特に表面近傍においては、
他の化合物が生成するため、焼結体表面からかなりの部
分を除去しなければならず収率も低下する。前記欠点を
除去する方法として、熱間静水圧ブレスを用いた製造法
が特開昭49−128296により公知となつている。
しかしながら、細部においてはまだ検討の必要がある。
熱間静水圧ブレス(以下HIPと略記する)法を用いた
場合、アルミナ等の被覆材も不要てほぼ理論密度に近い
焼結体を得ることができるが、加圧時に蓄積される歪応
力ならびにHIP時に還元雰囲気による還元相の生成ま
たはフェライトマトリックス自体が化学量論組成よりも
若干酸素不足の組成に還元されることなどによつてHI
P後の磁気特性は著しく劣化する。前記歪応力は、適当
な条件下で歪取り焼鈍をおこなうことによつて、磁気特
性の回復を図ることができる。どころで、NiZnフェ
ライトは、八面体位置占有傾向が極めて強いNi2+お
よび四面体位置占有傾向が著しいZn2+を含有してい
るため、還元雰囲気中で焼結した場合、しばしばこれら
のイオンはスピネル相から分離して、それぞれNi2+
過剰の場合にはNacl型、Zn2+過剰の場合には六
方晶Zincite型構造と考えられる第2相を形成す
る。
これら第2相の形成はフェライトマトリックスの組成的
な変動を引き起こし、しばしは独立した結晶粒子として
生成するため、所定の磁気特性が得難く、焼結体の硬度
等の機械的性質にバラツキが生じ、加工性を著しく劣化
せしめる。またHIPは通常装置土の制約からk雰囲気
中でおこなうため、第2相の生成を伴なわない場合にお
いてすら、特にHIP処理後のNiZnフェライトは、
化学量論組成よりも幾分酸素欠損の組成すなわち還元組
成となる。同様のことは、予備焼結を還元雰囲気下でお
こなつた場合には生ずるわけで、因みに空気中1250
℃以上で焼結したNiZnフェライトは還元組成を形成
することによつて電気抵抗率が低下し、同時に高周波帯
域での透磁率の低下ならびにその損失の増大を引き起こ
す。
さらにHIPによつて高密度化を図る場合には前記還元
組成を形成するN2を含む予備焼結時の雰囲気は緻密化
を著しく阻害する。すなわち、一次焼結温度よりも低温
側でHIPをおこなう場合には、緻密化が進行する機構
は明らかではないが、熱力学的に見て(1)式が大まか
な近似として成り立つや考えることができる。
ここでPextは外圧すなわちHIP圧力、PpOre
は焼結体内部の空孔圧、rは空孔径、γは空孔の界面張
力である。
ところでHIPによるさ103atmの静水圧は、10
00℃程度においてもイオンが化学結合力(1CP〜1
σAtmの静水圧に相当)によつて配列している結晶粒
子内にそれ程大なる影響を及ぼさないと考えられる。し
たがつて、HIPの実効温度が一次焼結温度よりも低い
場合には加圧時において、結晶粒子は化学結合力よりも
はるかに弱い束縛力(つまり界面張力)て釣合つている
結晶粒界に沿つて辷ることにより、大部分の緻密化が進
行すると推定される。事実、予備焼結体がオープンボア
の生成を伴なわない限り結晶粒界が多い程、・すなわち
結晶粒径が小さい程、HIP時において緻密化は容易に
進行し、NiZnフェライトもこの方法により高密度焼
結体を得ることができる。NiZnフェライトを空気に
おいて一次焼結をおこなつた場合、焼結体内部の空孔は
数気圧程度の空気を含有すると推定される。一次焼結温
度よりも低温側でHIPをおこない、前記機構で緻密化
が進行する楊合には、(1)式におけるHIP後のPp
Oreは数百気圧程度にまで上昇し、空孔の体積は11
100程度にまで減少することになる。勿論酸化物内で
l拡散速度の大きい02は、その一部がHIP時に結晶
粒界から焼結体表面へと拡散離脱するてあろうが、拡散
速度の遅いN2は、その大部分が高圧状態で閉じ込めら
れ、HIP時のAr雰囲気と共に焼結体内部の粒界にお
いても還元雰囲気となり、これが第2還元相の析出およ
びフェライトマトリックスが還元側へと組成がシフトす
るひとつの原因となることが予想される。なお、一次焼
結温度よりもHIP温度が高い場合にも、ほぼ同様のこ
とが起り得ると考えられる。事実かかる試料を実施例に
おいて後述するように、所定の磁気特性を得る目的で長
時間焼鈍した場合には、圧縮された空孔の体積が再び膨
張することによつて、焼結密度を低下させる場合がしば
しば起る。また、かかる高圧ガスを内胞するNlZnフ
ェライトを用いて磁気ヘッド等の磁心を製造する場合、
研削およびラップ等の加工時において、材料表面の結晶
粒子が高圧ガスによつて脱落せしめられ、あるいは磁気
ヘッドを形成した後も磁気ディスクもしくは磁気テープ
との接触による脱粒を伴なつて摩耗、破損の問題が生じ
、磁気ヘッドの寿命は著しく短縮することになる。本発
明の方法は、前記欠点を除去するためになされたもので
ある。
すなわち、本発明の方法においては、一次焼結を酸素中
でおこなうことによつて、前記第2相の生成ならびに還
元組成の生成を防止し、一次焼結体の内部空孔内のガス
を拡散速度の大なる02とすることによつて、HIP時
に高密度化を促進させ、併せてHIP後の高圧ガスを含
む空孔の生成を極力防止するものてある。かくして得ら
れた焼結体は、所定の磁気特性を有し、機械的強度にバ
ラツキが無く、著しく加工性に優れた高密度焼結体とな
る。
さらに高周波領域における透磁率の損失が小さいことも
大なる特徴である。以下実施例に基づき本発明の態様を
示す。実施例 本発明の方法を用いて製造をおこなつた磁心材料用のN
iZnフェライト、モル比でNjOlO〜25%、Zn
Ol5〜40%、Fe2O345〜60%から成る組成
物である。
なお所定の電気抵抗値を得る目的をもつて、特に重量比
でMnO2O.OOl〜3.0%を配合しているが、M
nO2を配合しなく共同様に高密度焼結体を得ることが
てきる。かかる混合物を所望の形状に加圧成形後、二段
工程により焼結をおこない、さらに熱処理を施した工程
を含むものから構成される。すなわち、各素原料を上記
組成となるように配合したのち、ボールミルもしくは振
動ミルによつて十分に混合をおこない、空気中800〜
1300℃で3吟以上仮焼したのち、再度ボールミルも
しくは振動ミル等により十分に粉砕をおこなつた。
次いで粉砕粉を加圧により金型成形もしくはラバープレ
ス成形したのち、酸素中1300℃以下で30分以上一
次焼結をおこなつたのち、Ar雰囲気下で500〜17
0〔TmllOOO〜1250℃の条件でHIPをおこ
なつた。さらに最終工程として、著しい結晶粒成長を生
ずる温度ならびに/または第2相が析出する温度以下て
焼鈍を施すことによつて所定の磁気特性を有し、平均結
晶粒径20p以下てしかも焼結密度がほぼ100%のN
iZnフェライトを製造することができた。上記素原料
としては、一般に酸化物が用いられるが、本発明におい
ては必ずしもかかる酸化物に限定されるものではなく、
その他酸化物の代りに焼成時に容易に酸化物に変化し得
る例えばオキシ水酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、
硫酸塩および蓚酸塩の如き化合物を用いることもできる
第1表は、組成がモル比でそれぞれA(NlOl7.5
、ZnO32.5、Fe2O35O.O)およびB(N
jOl8.O、ZnO32.5.Fe2O349.5)
である各素原料にMnO2を0.18Wt%添加した混
合粉末を前記製造工程にしたがい、仮焼:空気中(1)
900℃および(■)1200℃、一次焼結:酸素中、
(1)1120℃および(■)1220′C1田P:1
1000C11000atmおよび1200℃、150
01tm1焼鈍:酸素中、(1)1000℃および(■
)1100℃の各条件で製造した焼結体の諸特性である
表から明らかなごとく、本発明の方法で得た焼結体の密
度は相対値d/Dx(Dx:理論密度)で99.7〜9
9.9%を有し、極めて高密度である。
因みに従来の焼結法およびホットブレス法を用いて最適
条件下で製造した組成Aの焼結体は、d/DXがそれぞ
れ98.9%および99.6%であつた。しかしながら
、■焼および一次焼結を空気中でおこなつた場合でも、
HIP法によつてd/DXに関しては99.8%程度の
焼結体を得ることができる。また磁気特性の内、磁束密
度BlOl抗磁力HClキュリー点Tcは、本発明の方
法と従来のHIP法およびホットブレス法との間に大き
い差異は見られないが、初透磁率P″およびその損失項
P″の周波数特性は著しく異なる。第1図は、第1表に
示す試料Aのμ″およびp″の周波数特性である。図か
ら明らかなように、本発明の方法(■)で得られた焼結
体イは、仮焼を空気中でおこなつた従来のHIP法によ
るそれ口およびホットブレス法で得た試料ハに比べて、
2MFIz上の高周波帯域でのp″が大であると共にμ
2は著しく減少している。すなわち本発明の方法で製造
したNiZnフェライトはM土帯で用いる磁気記録材料
として好適であり、焼結体イを用いて3M1Iz近傍で
使用する磁心を製造し、その出力特性を測定したところ
、従来材により作製した同じ形状構造の磁心の出力特性
に比べて、より大きな出力電圧を得ることが出来るとい
う優れた特性を示すことがわかつた。第2図および第3
図は、それぞれ本発明の方法および従来の仮焼ならびに
一次焼結を空気中でおこなつたHIP法によつて製造し
た焼結体を用いて作成した磁気ヘッド(磁心をエポキシ
系樹脂に埋設し、研磨(最終仕上バフ研磨)して得られ
たラップ面を、倍率500倍で撮影した光学顕微鏡組織
写真である。)図から明らかなように、本発明の方法に
より得られた材料から作成した磁心は、結晶粒子の脱落
を伴なわず、鮮明なラップ面が得られるのに対して、従
来法のそれは、加工時において粒子の脱落が生じている
。すなわち本発明の方法で製造したNiZnフェライト
は極めて高密度でしかも機械的性質にバラツキがなく、
著しく加工性に優れており、第2相も生成していないこ
とがわかる。以上述べたごとく、本発明による方法を用
いるならば、高周波帯域において著しく優れた磁気特性
を有し、極めて加工性に優れたNiZnフェライトが通
常のHIP装置を用いることによつて容易に製造するこ
とができる。
また安価な工業用原料を用いて、所定の磁気特性を有す
る材料を容易に量産できるため、工業的価値も大なるも
のがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の方法で得られた組成Aイ、”従来の
HIP方法でられた同組成口およびホットブレス法で得
られた同組成ハの各焼結体について透磁率の周波数特性
図、第2図および第3図は、それぞれ本発明の方法およ
び従来のHIP方法によつて製造した組成Aの材料から
作成したNiZnフェライト磁気ヘッド磁心のラップ面
の顕微鏡写真である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 素原料を仮焼する工程と、仮焼粉を焼結してオープ
    ンボア(試料表面から中心部までに通じる空孔)を形成
    させない程度にまで一次焼結をおこなう工程と、該一次
    焼結後のフェライト材を熱間静圧プレスする工程と該熱
    間静圧プレス後のフェライト材を焼鈍する各工程の内、
    該一次焼結工程を酸素雰囲気中でおこなうことを特徴と
    するNiZnフェライトの製造方法。
JP52027012A 1977-03-14 1977-03-14 NiZnフエライトの製造方法 Expired JPS6051245B2 (ja)

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JPS5610770B2 (ja) * 1972-08-21 1981-03-10
JPS5427558B2 (ja) * 1973-04-12 1979-09-11

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