JPS6053029A - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6053029A JPS6053029A JP58160503A JP16050383A JPS6053029A JP S6053029 A JPS6053029 A JP S6053029A JP 58160503 A JP58160503 A JP 58160503A JP 16050383 A JP16050383 A JP 16050383A JP S6053029 A JPS6053029 A JP S6053029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling water
- ozone
- ultraviolet
- exhaust
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線洗浄装置に関するものである。
紫外線ラングより発生ずるオゾンを利用し−でlり染物
を分解洗浄することが従来より行なわれている。例えば
シリコンウェハーに感光レジスト4渥か付する際の前処
理として、主洗浄後にシリコンウェハーに付着した大気
中の有機汚染物を塗布直前に追加洗浄することによシ分
解したり、電子ビームによるスパッタリング蒸着の際に
基体にイ」済した真空ポンプの油などによる有機汚染物
を同じく追加洗浄すると塗布膜あるいは蒸着膜の密着性
を著しく向上できることが明らかになっている。その他
にもレンズや水晶振動子など多くの被洗浄体に適用され
るが、いずれにしてもウェット法による主洗浄工程の後
にこの紫外線洗浄装置を用いると優れた洗浄効果を得る
ことができる。
を分解洗浄することが従来より行なわれている。例えば
シリコンウェハーに感光レジスト4渥か付する際の前処
理として、主洗浄後にシリコンウェハーに付着した大気
中の有機汚染物を塗布直前に追加洗浄することによシ分
解したり、電子ビームによるスパッタリング蒸着の際に
基体にイ」済した真空ポンプの油などによる有機汚染物
を同じく追加洗浄すると塗布膜あるいは蒸着膜の密着性
を著しく向上できることが明らかになっている。その他
にもレンズや水晶振動子など多くの被洗浄体に適用され
るが、いずれにしてもウェット法による主洗浄工程の後
にこの紫外線洗浄装置を用いると優れた洗浄効果を得る
ことができる。
ところで紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプを点灯す
ると、主として波代が254nmの水銀共III nM
の紫外線が外部に放出され、従として1850mの紫外
線が、更には他の波長のものがわずかに放出される。そ
して、波長185nmの紫外線によってオゾンが生成し
、次に、このオソンが波長254nmの紫外線により分
解されて発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有
機汚染物全分解してガス状態で飛散することが仰られて
いる。
ると、主として波代が254nmの水銀共III nM
の紫外線が外部に放出され、従として1850mの紫外
線が、更には他の波長のものがわずかに放出される。そ
して、波長185nmの紫外線によってオゾンが生成し
、次に、このオソンが波長254nmの紫外線により分
解されて発生基の酸素が生成し、この発生基の酸素が有
機汚染物全分解してガス状態で飛散することが仰られて
いる。
紫外線による洗浄機41¥は以上の7L0りであるが、
これから分るように酸2を含むガスを1(<1射至へ供
給し、また、41機汚染物の分ji)jFガスを1ノ1
出するために照射室の換気が行われるが、オゾンがイ1
害物質であるため、排気は直接大気中に放出せずにタク
トで装置1−1外のオゾン分解室に尋き、そこで活性炭
−や触媒を用いてオゾンを峡HT分解してから放出して
いた。また、紫外線ランプが光熱するのでランプ囲りを
冷却するため、その周辺に冷却水路を設け、これを水道
などの給水口に接続しで給水し、高温だなった冷却水は
ホースなどの水路を接IcLで4ノド水していた。従っ
て、紫外線洗浄装置r7では、5j’S源よりの配線の
他に、排気用ダクI・と給排水管とを接続する必要があ
った。この紫外線洗浄装置を生r・rラインに組込んで
ワークの洗θp工程に使用する」【)合は、設備は1i
st定的に使用されるので前記のす1気夕゛クトや給排
本省を接続することは大きな支障とはならないが、これ
を実験室などで実験試作用装置として使用する場合は、
これが大きな支障となる。なぜならば、狭い実験学内で
は排気ダクトや給排水管が他の作業の邪魔になり、更に
室内で装置全移動させるにも大きな制約となるからであ
る。
これから分るように酸2を含むガスを1(<1射至へ供
給し、また、41機汚染物の分ji)jFガスを1ノ1
出するために照射室の換気が行われるが、オゾンがイ1
害物質であるため、排気は直接大気中に放出せずにタク
トで装置1−1外のオゾン分解室に尋き、そこで活性炭
−や触媒を用いてオゾンを峡HT分解してから放出して
いた。また、紫外線ランプが光熱するのでランプ囲りを
冷却するため、その周辺に冷却水路を設け、これを水道
などの給水口に接続しで給水し、高温だなった冷却水は
ホースなどの水路を接IcLで4ノド水していた。従っ
て、紫外線洗浄装置r7では、5j’S源よりの配線の
他に、排気用ダクI・と給排水管とを接続する必要があ
った。この紫外線洗浄装置を生r・rラインに組込んで
ワークの洗θp工程に使用する」【)合は、設備は1i
st定的に使用されるので前記のす1気夕゛クトや給排
本省を接続することは大きな支障とはならないが、これ
を実験室などで実験試作用装置として使用する場合は、
これが大きな支障となる。なぜならば、狭い実験学内で
は排気ダクトや給排水管が他の作業の邪魔になり、更に
室内で装置全移動させるにも大きな制約となるからであ
る。
そこで本発明は、実験室などで11℃諒に接続するのみ
で手軽に使用できる紫外線洗浄装置全提供することを目
的とし、その41′i成(は、紫外線ランプの光でオゾ
ンを発生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付X′tする有機汚染
物など全分解して洗r()する紫外線洗浄装置であって
、照射室内のオゾンを分t’l’F L。
で手軽に使用できる紫外線洗浄装置全提供することを目
的とし、その41′i成(は、紫外線ランプの光でオゾ
ンを発生させ、このオゾンの分解により生成される発生
基の酸素により被洗浄体の表面に付X′tする有機汚染
物など全分解して洗r()する紫外線洗浄装置であって
、照射室内のオゾンを分t’l’F L。
て装filj 4i?l外へ排出させるυ「気装置と、
測温になった冷却水を冷却して循環させる冷却水循環装
置とを装い°箱内に組込んだこと(C一時像とするもの
である。
測温になった冷却水を冷却して循環させる冷却水循環装
置とを装い°箱内に組込んだこと(C一時像とするもの
である。
以下に図面に示す実施例に基いて本発明を具体的に説明
する。
する。
第1図は装置のtIR面図を示すが、AAiiji;箱
1には灯体2が内蔵されて二重構造をなし、発生したオ
ゾンが外部に漏洩しないようになっている。灯体2の内
部が照射室3であるが、その上方には紫外線ラング6と
してU字状の350 Wλ力出方低圧水鉄灯が2本配設
され、その背後にはミラー5が設けられて紫外線が下方
に照射される。灯体2の天井上面には冷却水路6が固着
されて水冷されている。
1には灯体2が内蔵されて二重構造をなし、発生したオ
ゾンが外部に漏洩しないようになっている。灯体2の内
部が照射室3であるが、その上方には紫外線ラング6と
してU字状の350 Wλ力出方低圧水鉄灯が2本配設
され、その背後にはミラー5が設けられて紫外線が下方
に照射される。灯体2の天井上面には冷却水路6が固着
されて水冷されている。
照射室6の中央部には被洗浄体支持台7が配設されて2
す、み〉洗洋体8が支持されるが、この被洗浄体8は開
閉扉9を開閉して出し入れされる。灯体2の側方には換
気のだめの吸入孔1oと排気孔11が設けられ、排気孔
11には村気装置2oが接続されて、この中でオゾンが
吸7.”°を分1’I’Fされて装置で11外に41し
出されるようになっている。
す、み〉洗洋体8が支持されるが、この被洗浄体8は開
閉扉9を開閉して出し入れされる。灯体2の側方には換
気のだめの吸入孔1oと排気孔11が設けられ、排気孔
11には村気装置2oが接続されて、この中でオゾンが
吸7.”°を分1’I’Fされて装置で11外に41し
出されるようになっている。
排気装置2fl−t、第4図に示すようにフィルター6
0を脱着可能に内蔵するが、蓋21を開けて段部22上
にフィルター60を載置し、上方ケスズリンク゛26で
押圧することにより装、だされており、フィルター30
を取換える際も簡単に取出せるようになっている。そし
て段部22の下方にはファン24が寂けられ、この吸引
力により、オゾンを営む照射室6内の空気が、排気孔1
1、フィルター60を通って排出される。
0を脱着可能に内蔵するが、蓋21を開けて段部22上
にフィルター60を載置し、上方ケスズリンク゛26で
押圧することにより装、だされており、フィルター30
を取換える際も簡単に取出せるようになっている。そし
て段部22の下方にはファン24が寂けられ、この吸引
力により、オゾンを営む照射室6内の空気が、排気孔1
1、フィルター60を通って排出される。
フィルター60は、第5図に示すように、内面(・てフ
ッ素樹脂がコーチングされた罰俸61内にハニカム状の
活性炭62が多層に保持されている。
ッ素樹脂がコーチングされた罰俸61内にハニカム状の
活性炭62が多層に保持されている。
もっとも活性炭32の代りに二fN化マンカンなどの触
媒も使用oj能であり、仮はオゾンを吸7:゛jや分解
させるものであγしはよい。活性炭32 、32間には
長さ数量の燈ig)状のスペーサー66が介装され、イ
rr=って活性炭62は相互に数馴離間している。この
ため、ハニカム状の活性炭62内全j曽ぴtで通過1−
7′ヒオゾン?含む空気がこの間隙で乱流となり次の活
性炭62内に流肚込むので、活性炭62との反応性が向
−ヒレ効率よくオゾンが吸71′tされる。従ってハニ
カム状の活性炭62を5層に並べておくとIDOppm
のオゾンは0.1pprn以下にまで分ンク+4されて
環境基準金イ薗すことができる。なお、入口f;((に
はガラス繊維54が充填されて、l=−リ、異物が除去
さルるようになっている。
媒も使用oj能であり、仮はオゾンを吸7:゛jや分解
させるものであγしはよい。活性炭32 、32間には
長さ数量の燈ig)状のスペーサー66が介装され、イ
rr=って活性炭62は相互に数馴離間している。この
ため、ハニカム状の活性炭62内全j曽ぴtで通過1−
7′ヒオゾン?含む空気がこの間隙で乱流となり次の活
性炭62内に流肚込むので、活性炭62との反応性が向
−ヒレ効率よくオゾンが吸71′tされる。従ってハニ
カム状の活性炭62を5層に並べておくとIDOppm
のオゾンは0.1pprn以下にまで分ンク+4されて
環境基準金イ薗すことができる。なお、入口f;((に
はガラス繊維54が充填されて、l=−リ、異物が除去
さルるようになっている。
次に、冷却水路乙の両端は、第21ン1と第6図に示す
ように、水I’l 61によってポンプ12およびラジ
ェーター13に接続されて循租回路をなし2、これらが
冷却水イr;”; )2装桁を構成している。す1jち
、紫外側1ランプ4の光熱tでょシ高温となった冷力1
水がポンプ12によりラジェーター13に専がtLlこ
こで冷却されて再び冷却水路乙に戻り、紫外線ランプ4
およびその周辺を冷却する。C・tって、外)■より冷
い冷却水を供給し、高温と々った冷却水をJli水する
必要がなく、冷却水が装丁、員10内で循環して使用さ
れる。なお、図例では冷却水路6は灯体2の天井面のみ
に設けられているが、心太に応じて灯体2の側部にも設
けられる。
ように、水I’l 61によってポンプ12およびラジ
ェーター13に接続されて循租回路をなし2、これらが
冷却水イr;”; )2装桁を構成している。す1jち
、紫外側1ランプ4の光熱tでょシ高温となった冷力1
水がポンプ12によりラジェーター13に専がtLlこ
こで冷却されて再び冷却水路乙に戻り、紫外線ランプ4
およびその周辺を冷却する。C・tって、外)■より冷
い冷却水を供給し、高温と々った冷却水をJli水する
必要がなく、冷却水が装丁、員10内で循環して使用さ
れる。なお、図例では冷却水路6は灯体2の天井面のみ
に設けられているが、心太に応じて灯体2の側部にも設
けられる。
しかして、上記構成の紫外線法A’装埴Vこおいて、と
九を電源に接続した後にファン24およびポンプ12を
作動させ、紫外線ランプ4を点灯すると紫外線が照射さ
れて洗浄されるが、排気装置f(t20内にフィルター
60が内蔵されているのでオゾンは環境基準以下の11
カまで分解さオして装置Qヱ箱1より外部に放出さfる
。そして、冷」1水はポンプ120作用により冷却水路
6とラジェーター16との同を1泊壌するので、冷却水
を外部から供給し、かつ外部に排水することなくして冷
却様「止を果すことができる。
九を電源に接続した後にファン24およびポンプ12を
作動させ、紫外線ランプ4を点灯すると紫外線が照射さ
れて洗浄されるが、排気装置f(t20内にフィルター
60が内蔵されているのでオゾンは環境基準以下の11
カまで分解さオして装置Qヱ箱1より外部に放出さfる
。そして、冷」1水はポンプ120作用により冷却水路
6とラジェーター16との同を1泊壌するので、冷却水
を外部から供給し、かつ外部に排水することなくして冷
却様「止を果すことができる。
この様に本発明は、照射室内のオゾン全労1’/(して
装置箱外へ排出させる排気装置it、と、高温になった
冷却水全冷却して循環させる冷却水循環装置とを装置戚
箱内に組込んだので、JI[気タークトとG却ボ給排水
管を装置に接%j、する必要がなく、狭い実験室で使用
しても占有面積が小さくて、排気夕′クトや給排水・a
がit7.lの作英の邪)、えになることがない。
装置箱外へ排出させる排気装置it、と、高温になった
冷却水全冷却して循環させる冷却水循環装置とを装置戚
箱内に組込んだので、JI[気タークトとG却ボ給排水
管を装置に接%j、する必要がなく、狭い実験室で使用
しても占有面積が小さくて、排気夕′クトや給排水・a
がit7.lの作英の邪)、えになることがない。
そしてtlC力j用のコンセントさえあし!’f 自由
VC8i’1iJ)して他の実馳試作の目的に飲用する
ことができる。
VC8i’1iJ)して他の実馳試作の目的に飲用する
ことができる。
従って、本発明によれば、実11室などでi÷1源に接
続するのみで手+1・臼lrC使用でさる紫夕1、;尿
fiE ?4’装置t4−金提供することができる。
続するのみで手+1・臼lrC使用でさる紫夕1、;尿
fiE ?4’装置t4−金提供することができる。
第1図は本発明実施’、+llのにi面図、第2図は同
じ<−11i切欠きi’、W面jil、第6図は同じく
一部切欠き平uji lソ1、第4図は排気装置t/、
1の断面図、第5図はフィルターの断面図である。 1・・・装置4箱 2・灯体 6・・・照射?に4、・
紫外線う/−° 5・−・ミラー 6・・・冷却水路7
−・支持台 8−・・+7シ洗浄体 1o・・・吸入孔
11・・・排気孔 12・・・ポンプ 15・ラジェータ〜 20山排気埃置 24・・ファン 6D・・・フィルター第1図 第5図 第4図 第 2 js’4
じ<−11i切欠きi’、W面jil、第6図は同じく
一部切欠き平uji lソ1、第4図は排気装置t/、
1の断面図、第5図はフィルターの断面図である。 1・・・装置4箱 2・灯体 6・・・照射?に4、・
紫外線う/−° 5・−・ミラー 6・・・冷却水路7
−・支持台 8−・・+7シ洗浄体 1o・・・吸入孔
11・・・排気孔 12・・・ポンプ 15・ラジェータ〜 20山排気埃置 24・・ファン 6D・・・フィルター第1図 第5図 第4図 第 2 js’4
Claims (1)
- 紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の表面
に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
浄装置であって、照射室内のオゾンを分解して装置箱夕
)へ排出させる排気装置と、h′、5温になった冷却水
を冷却して循環させる冷却水循環装置とを装置箱内に組
込んだことをl(2「徴とする紫外イ4洗浄装置i、2
゜
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160503A JPS6053029A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160503A JPS6053029A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6053029A true JPS6053029A (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15716346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58160503A Pending JPS6053029A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6053029A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503958A (ja) * | 1972-08-18 | 1975-01-16 | ||
| JPS58122025A (ja) * | 1982-01-13 | 1983-07-20 | Showa Denko Kk | ドライエツチング排ガスの処理方法 |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP58160503A patent/JPS6053029A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503958A (ja) * | 1972-08-18 | 1975-01-16 | ||
| JPS58122025A (ja) * | 1982-01-13 | 1983-07-20 | Showa Denko Kk | ドライエツチング排ガスの処理方法 |
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