JPS6059386A - 模様線の描画方式とその装置 - Google Patents
模様線の描画方式とその装置Info
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- JPS6059386A JPS6059386A JP58167799A JP16779983A JPS6059386A JP S6059386 A JPS6059386 A JP S6059386A JP 58167799 A JP58167799 A JP 58167799A JP 16779983 A JP16779983 A JP 16779983A JP S6059386 A JPS6059386 A JP S6059386A
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- line
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- line width
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- Image Generation (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は輝度もしくは色のコードで定められた2次元格
子状の基本パターンを巡回的に用いた模様を有するディ
ジタル的な模様線の描画方式とその装置に関するもので
ある。
子状の基本パターンを巡回的に用いた模様を有するディ
ジタル的な模様線の描画方式とその装置に関するもので
ある。
ディジタル的なベクトルをディスプレイ装置に表示した
りあるいはハードコピー装置に出力したシする場合には
、ベクトルの始点とベクトル成分からそれぞれの装置に
出力すべき点列を発生するベクトル発生手段を用いる。
りあるいはハードコピー装置に出力したシする場合には
、ベクトルの始点とベクトル成分からそれぞれの装置に
出力すべき点列を発生するベクトル発生手段を用いる。
これらの点列は基本単位の大きさと輝度もしくは色を持
つ画素の連続として各装置上で実現され、この輝度もし
くは色を規則的に変化させることにより様々の線パター
ンを有するベクトルが得られる。
つ画素の連続として各装置上で実現され、この輝度もし
くは色を規則的に変化させることにより様々の線パター
ンを有するベクトルが得られる。
一方、ワードプロセッサ等で文書や図面等を作成する際
には、これらのベクトルだけではなく、地図における鉄
道の線路模様あるいはまた文書中の飾り罫などの模様線
が必要とされている。第1図は本発明の対象とする模様
線の一例を示した図であり、(a)は模様線、(b)は
それぞれの基本パターンを示している。(a)の模様線
は(blの基本パターンを連続的につないで用いること
で実現されている。
には、これらのベクトルだけではなく、地図における鉄
道の線路模様あるいはまた文書中の飾り罫などの模様線
が必要とされている。第1図は本発明の対象とする模様
線の一例を示した図であり、(a)は模様線、(b)は
それぞれの基本パターンを示している。(a)の模様線
は(blの基本パターンを連続的につないで用いること
で実現されている。
第2図は従来の模様線の実現方法を説明するための図で
あり、(a)は線の傾きが水平の場合、(b)は斜めに
傾いている場合を示している。基本パターンから模様線
を実現する方法で最も簡便なものは、(a)に示すよう
に矩形状の基本パターンを水平あるいは垂直に連続的に
配置する方法である。1つの基本パターンを水平、垂直
の模様線の両方に利用するには、基本パターンに対して
90° 回転したパターンを作成して用いれば尺い。こ
の方法は簡便ではあるが、模様線の伸きは水平あるいは
垂直に制限され、任意の傾きのものは実現できない欠点
がある。一方、任意の傾きの模様線は(())に示すよ
うに基本パターンから所望の傾きに対応して平行四辺形
状に変換したパターンを作成して連続的につながるよう
に配置することで実現できる。この方法によればある程
度自由な(lj′Iきの模様線が得られるが、図で明ら
かなように模様が斜めに変形しており、模様線の線幅は
見かけ上本来の線幅より狭くなるという欠点がある。さ
らに模様線を従来のベクトルと同じように全く任意の傾
きで任意の長さを持つように扱うためには非電に複雑な
処理を要するという欠点があった。
あり、(a)は線の傾きが水平の場合、(b)は斜めに
傾いている場合を示している。基本パターンから模様線
を実現する方法で最も簡便なものは、(a)に示すよう
に矩形状の基本パターンを水平あるいは垂直に連続的に
配置する方法である。1つの基本パターンを水平、垂直
の模様線の両方に利用するには、基本パターンに対して
90° 回転したパターンを作成して用いれば尺い。こ
の方法は簡便ではあるが、模様線の伸きは水平あるいは
垂直に制限され、任意の傾きのものは実現できない欠点
がある。一方、任意の傾きの模様線は(())に示すよ
うに基本パターンから所望の傾きに対応して平行四辺形
状に変換したパターンを作成して連続的につながるよう
に配置することで実現できる。この方法によればある程
度自由な(lj′Iきの模様線が得られるが、図で明ら
かなように模様が斜めに変形しており、模様線の線幅は
見かけ上本来の線幅より狭くなるという欠点がある。さ
らに模様線を従来のベクトルと同じように全く任意の傾
きで任意の長さを持つように扱うためには非電に複雑な
処理を要するという欠点があった。
本発明の目的は、上記欠点を解消し、任意の傾きで、模
様が斜めに変形したり線幅が狭くなるということのない
模様線を、ベクトルと同様に容易に描画できる、模様線
の描画方式とその装置を提供することにある。
様が斜めに変形したり線幅が狭くなるということのない
模様線を、ベクトルと同様に容易に描画できる、模様線
の描画方式とその装置を提供することにある。
本発明によれば、輝度もしくは色のコードで定められた
2次元格子状の基本パターンを巡回的に用いた模様を有
するディジタル的な模様線の描画方式において、X 1
1 y座標系における模様線の始点と、成分と、基本パ
ターンとが与えられたときに、模様線とX軸とのなす角
度および基本パターンの線幅からめた補正線幅と、基本
パターンでの線幅方向の位置に対応した模様の位相ずれ
量とを用いて修正パターンを作成し、この修正パターン
の行部分パターンを巡回的に用いた線パターンを有する
単位線幅のベクトルの始点を角度に応じてX軸またはX
軸に平行に単位画素分ずらしながら補正線幅本数分だけ
顔に重ねて描画する方法による模様線の描画方式が得ら
れる。
2次元格子状の基本パターンを巡回的に用いた模様を有
するディジタル的な模様線の描画方式において、X 1
1 y座標系における模様線の始点と、成分と、基本パ
ターンとが与えられたときに、模様線とX軸とのなす角
度および基本パターンの線幅からめた補正線幅と、基本
パターンでの線幅方向の位置に対応した模様の位相ずれ
量とを用いて修正パターンを作成し、この修正パターン
の行部分パターンを巡回的に用いた線パターンを有する
単位線幅のベクトルの始点を角度に応じてX軸またはX
軸に平行に単位画素分ずらしながら補正線幅本数分だけ
顔に重ねて描画する方法による模様線の描画方式が得ら
れる。
さらに本発明によれば、輝度もしくは色のコードで定め
られた2次元格子状の基本パターンを巡回的に用いた模
様を有するディジタル的な模様線の描画装置において、
基本パターンPを記憶する基本パターンメモリと、x
11 )I座標系における模様線の始点x、yと成分d
x、dyと前記基本パターンP−(C1j)(i=1.
2、・・・、m、j:1.21010、n)とが与えら
れたときに、基本パターンの線幅mと模様線の成分dx
、dyを入力して補正線幅m゛を出力する補正線幅演算
部と、前記基本パターンメモリよりパターンコードC1
jを入力し、前記補正線幅m°と模様線の成分dx、
dyとを用いて修正バタ7 P’==(C’、jl (
i−1,2、・−・、ml、j=1.2、・・・、n)
に変換し出力するパターン変換部と、前記パターン変換
部の出力する修正パターンP1を一時記憶する修正パタ
ーンメモリと、前記補正線幅m1と模様線の始点x、
y、成分dx、dyを入力してm°組の始点Xi、 Y
H(i = 1.2、・・・、m゛)を出力する始点演
算部と、前記始点Xi、Yiと模様線の成分dx、dy
と前記修正パターンの行部分パターン” i””1j(
J=1.2、−・・、n)を入力して該行部分パターン
Tliを巡回的に用いた線パターンを有するベクトルを
表わす点列の座標Xiv、Yivと各点での輝度もしく
は色のコードC1v(v=1.2、・・−1MAX(d
、x、 d、y ) )を出力するベクトル発生部と、
前記点列の座標Xiv、Yivに対応するアドレスにコ
ードC1v を書込み記憶するイメージメモリと、装置
の動作を制御する制御部とから構成される模様線の描画
装置が得られる。
られた2次元格子状の基本パターンを巡回的に用いた模
様を有するディジタル的な模様線の描画装置において、
基本パターンPを記憶する基本パターンメモリと、x
11 )I座標系における模様線の始点x、yと成分d
x、dyと前記基本パターンP−(C1j)(i=1.
2、・・・、m、j:1.21010、n)とが与えら
れたときに、基本パターンの線幅mと模様線の成分dx
、dyを入力して補正線幅m゛を出力する補正線幅演算
部と、前記基本パターンメモリよりパターンコードC1
jを入力し、前記補正線幅m°と模様線の成分dx、
dyとを用いて修正バタ7 P’==(C’、jl (
i−1,2、・−・、ml、j=1.2、・・・、n)
に変換し出力するパターン変換部と、前記パターン変換
部の出力する修正パターンP1を一時記憶する修正パタ
ーンメモリと、前記補正線幅m1と模様線の始点x、
y、成分dx、dyを入力してm°組の始点Xi、 Y
H(i = 1.2、・・・、m゛)を出力する始点演
算部と、前記始点Xi、Yiと模様線の成分dx、dy
と前記修正パターンの行部分パターン” i””1j(
J=1.2、−・・、n)を入力して該行部分パターン
Tliを巡回的に用いた線パターンを有するベクトルを
表わす点列の座標Xiv、Yivと各点での輝度もしく
は色のコードC1v(v=1.2、・・−1MAX(d
、x、 d、y ) )を出力するベクトル発生部と、
前記点列の座標Xiv、Yivに対応するアドレスにコ
ードC1v を書込み記憶するイメージメモリと、装置
の動作を制御する制御部とから構成される模様線の描画
装置が得られる。
以下本発明について実施例を示す図面を参照して説明す
るが、44体溌朔つ彷橘■つ栖(セ用ヰ44−まず本発
明の方式について説明する。
るが、44体溌朔つ彷橘■つ栖(セ用ヰ44−まず本発
明の方式について説明する。
第3図は本発明の詳細な説明するための概念図であシ、
第3図(a)は模様線の基本パターン、(b)は修正パ
ターン、(C)は部分パターン、第4図(a)はX・y
平面上でX軸と角度θをなす模様線、第4図(b)は模
様線の一部の拡大図をそれぞれ示している。
第3図(a)は模様線の基本パターン、(b)は修正パ
ターン、(C)は部分パターン、第4図(a)はX・y
平面上でX軸と角度θをなす模様線、第4図(b)は模
様線の一部の拡大図をそれぞれ示している。
同図(a)に示す基本パターンは線方向にn、線幅方向
にmに区分された格子状をなし、ある小区割の輝度もし
くは色のコードをC1j とするときP−(CIJ)(
i=1.2s 3+ ”’* mi J=1+ 2.3
、・・・、n)で表わされる。同図(b)に示す修正パ
ターンは同様にして、 P ’−(C’+ J ) (
+ =1−2.3、・・1ml、j=1.2,3、ハn
)で表わされ、同図(C)に示す修正パターンの1行分
の部分パターンをTl1−(釦・ )(j=1.2.3
.・・・、n)で表わす。第1」 4図(a)において、 ABとEFとで囲まれる平行四
辺形ABFBが線幅mの模様線を表わしており、実際に
は単位線幅を有するベクトルAB、・・・、CD。
にmに区分された格子状をなし、ある小区割の輝度もし
くは色のコードをC1j とするときP−(CIJ)(
i=1.2s 3+ ”’* mi J=1+ 2.3
、・・・、n)で表わされる。同図(b)に示す修正パ
ターンは同様にして、 P ’−(C’+ J ) (
+ =1−2.3、・・1ml、j=1.2,3、ハn
)で表わされ、同図(C)に示す修正パターンの1行分
の部分パターンをTl1−(釦・ )(j=1.2.3
.・・・、n)で表わす。第1」 4図(a)において、 ABとEFとで囲まれる平行四
辺形ABFBが線幅mの模様線を表わしており、実際に
は単位線幅を有するベクトルAB、・・・、CD。
、EFがm’本平行に重ねられている0 本発明ではそ
れぞれのベクトルの始点A1・・・ICI・・・、Eは
角度θによシO0≦θ〈45°または315°≦θ〈3
60゜の場合にはAEがy軸止方向と平行に定め、45
°≦θ〈135°の場合にはAEがX軸負方向と平行に
定め、135°≦θ〈225°の場合にはlがy軸負方
向と平行に定め、225°≦θく315゜の場合にはA
EがX軸止方向と平行に定める。ここでは0°≦0〈4
5°の場合を示している。
れぞれのベクトルの始点A1・・・ICI・・・、Eは
角度θによシO0≦θ〈45°または315°≦θ〈3
60゜の場合にはAEがy軸止方向と平行に定め、45
°≦θ〈135°の場合にはAEがX軸負方向と平行に
定め、135°≦θ〈225°の場合にはlがy軸負方
向と平行に定め、225°≦θく315゜の場合にはA
EがX軸止方向と平行に定める。ここでは0°≦0〈4
5°の場合を示している。
模様線の線幅すなわち基本パターンの線幅mと単位線幅
のベクトルを重ねる本数すなわち修正パターンの線幅m
’(以後補正線幅と呼ぶ)との関係は(1)式で表わさ
れる。
のベクトルを重ねる本数すなわち修正パターンの線幅m
’(以後補正線幅と呼ぶ)との関係は(1)式で表わさ
れる。
m’ = (m −secθ)−−(1)(1)式中の
記号〔〕は値を例えば四捨五入等によシ整数化すること
を意味する。角度θに応じてmからm’に基本パターン
の線幅を増やすためには適当な補間操作を行なう。すな
わち、基本パターンP−(C,j)に対して線幅を補正
したパターンをP’ = (”kj)(k=1.2.3
. ・・・、ml、j=1.2゜3、・・・、n)とす
れば−例として(2)式のととくiとkとの対応を定め
れば良い。
記号〔〕は値を例えば四捨五入等によシ整数化すること
を意味する。角度θに応じてmからm’に基本パターン
の線幅を増やすためには適当な補間操作を行なう。すな
わち、基本パターンP−(C,j)に対して線幅を補正
したパターンをP’ = (”kj)(k=1.2.3
. ・・・、ml、j=1.2゜3、・・・、n)とす
れば−例として(2)式のととくiとkとの対応を定め
れば良い。
C”kj−Cij−
・・・・・・(2)
(2)式によれば、線幅mの基本パターンから線幅ml
に補正したパターンP”−(C″kj )が得られる。
に補正したパターンP”−(C″kj )が得られる。
一方、この補正パターンP″の行部分パターンをT’r
=(C’111 (j=1.2.3、・・・、n)とl
−だとき、このパターンT1量をこのまま巡回的に用い
た線パターンを翁するベクトルを第4図<a)のごとく
重ねた場合には、模様線の位相はOHの方向に揃うため
に模様が全体に斜めに変形する。この変形を補正するた
めにはノ祐に垂直な方向すなわちほの方向に各ベクトル
の綜パターンの位相をJjiilえれは良い。このとき
の位相ずれ量は1番目のベクトルに対して■−11に相
当するが、第4図(1))に拡大して示すように点■(
から点工までの単位画素故はf−1,Iの絶対値ではな
く、0°≦θく45°の場合にはIIJのX軸方向成分
となる。したがって1位+1+を進める場合を正とすれ
ば、この場合の位相ずれ僅Siは(3)式で表わされる
。
=(C’111 (j=1.2.3、・・・、n)とl
−だとき、このパターンT1量をこのまま巡回的に用い
た線パターンを翁するベクトルを第4図<a)のごとく
重ねた場合には、模様線の位相はOHの方向に揃うため
に模様が全体に斜めに変形する。この変形を補正するた
めにはノ祐に垂直な方向すなわちほの方向に各ベクトル
の綜パターンの位相をJjiilえれは良い。このとき
の位相ずれ量は1番目のベクトルに対して■−11に相
当するが、第4図(1))に拡大して示すように点■(
から点工までの単位画素故はf−1,Iの絶対値ではな
く、0°≦θく45°の場合にはIIJのX軸方向成分
となる。したがって1位+1+を進める場合を正とすれ
ば、この場合の位相ずれ僅Siは(3)式で表わされる
。
S、二C−IHIl*cosθ〕
=[−i φSinθ@C05O〕
: C−Si n 2θ〕 ・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(3)し
たがって、各行の部分パターンTI、の位相を8゜ずら
した部分パターンTlは(4)式で与えられる。
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(3)し
たがって、各行の部分パターンTI、の位相を8゜ずら
した部分パターンTlは(4)式で与えられる。
T’i = l (シ1lJl、C1,、−C1【t=
=MOD(j−1−81、n)+1(j−1,2,3、
・・・、n)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・(4)1だ、この部分パターンTI、
を持つ修正パターンP゛は(5)式で表わされる。
=MOD(j−1−81、n)+1(j−1,2,3、
・・・、n)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・(4)1だ、この部分パターンTI、
を持つ修正パターンP゛は(5)式で表わされる。
P’、= l C’i j l、C1ij= C″it
t=MOD(j −1−8H1n)+1(1=1.2.
3、・・・、m’、j=l、2.3、・・・、n) ・
・・−・・・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・
・・−・・・・・・・・・・・・・・−・・・・・・・
(5)したがって、この修正パターンP’の部分パター
ン7を線パターンとする単位線幅のベクトルをm。
t=MOD(j −1−8H1n)+1(1=1.2.
3、・・・、m’、j=l、2.3、・・・、n) ・
・・−・・・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・
・・−・・・・・・・・・・・・・・−・・・・・・・
(5)したがって、この修正パターンP’の部分パター
ン7を線パターンとする単位線幅のベクトルをm。
本平行に重ねることによシ線幅がmで模様が線の方向に
垂直に揃った模様線が得られる。一方、他の角度におい
ても同様にして、補正線幅m°と位相ずれ量S1とが定
められ、0°≦θ〈360°について(6)式に示す。
垂直に揃った模様線が得られる。一方、他の角度におい
ても同様にして、補正線幅m°と位相ずれ量S1とが定
められ、0°≦θ〈360°について(6)式に示す。
0°≦θく45°、315°≦θく360°の場合、m
’==[m*secθ〕、Si=[−Hs+n2θ〕、
45°≦θく135° の場合 、・工〔□・C08eCθ〕、s1=〔具in2θ〕、
135°≦θく225°の場合 ■ 。
’==[m*secθ〕、Si=[−Hs+n2θ〕、
45°≦θく135° の場合 、・工〔□・C08eCθ〕、s1=〔具in2θ〕、
135°≦θく225°の場合 ■ 。
m’ == C−m ” seeθ〕、5i=(−Hs
+n2θ)、225°≦θく315°の場合 1 。
+n2θ)、225°≦θく315°の場合 1 。
m’==:[−m11cosccθ〕、5i=(−ps
+n2θ) −16+第5図(a)、(bl、(cl、
(dl、(eiは本発明の方式による模様線の例を示す
図であシ、(a)は模様線、(b)は基本パターン、(
C>は線幅を補正したパターン、(d)はさらに位相ず
れも補正した修正パターン、(e)は修正パターンを用
いた模様線の描画例をそれぞれ示している。ここではm
−11、n = 8、θ=45゜の場合について例を示
す。基本パターンPから修正パターンP′を得て模様線
を描画する方式を順に説明する。補正線幅は(6)式よ
シm’二〔11・cosec45°〕=15であり、線
幅を補正したパターンP”は(7)式のごとくなる。
+n2θ) −16+第5図(a)、(bl、(cl、
(dl、(eiは本発明の方式による模様線の例を示す
図であシ、(a)は模様線、(b)は基本パターン、(
C>は線幅を補正したパターン、(d)はさらに位相ず
れも補正した修正パターン、(e)は修正パターンを用
いた模様線の描画例をそれぞれ示している。ここではm
−11、n = 8、θ=45゜の場合について例を示
す。基本パターンPから修正パターンP′を得て模様線
を描画する方式を順に説明する。補正線幅は(6)式よ
シm’二〔11・cosec45°〕=15であり、線
幅を補正したパターンP”は(7)式のごとくなる。
P”= l C”3i )、 C″kj −C1j (
j−1、2、3、・・・、n) k二1.2.3.4.5.6.7.8.9.101]、
12.1314.15i = 1.2.3.3.4.5
.6.6.7.8.9.9.10.11.11 ・・・
(7)これは、i二3.6.9.11行の部分パターン
が重複して用いられることを意味しておシ、補正の結果
第5図(C)が得られる。さらに、i = 1.2.3
、・・・、15に対する位相ずれ量は(6)式よりSi
二〇、1.1.2.2.3.3.4.4.5.5.6.
6.7.7となり、例えば部分パターンT”4−10.
0.1、Olo、■、0、O) (0は白、1は黒を意
味する)は5i−2だけずらしてTl4−(0,0,0
,0,1,0,0、■)と変換される。全体について位
相ずれを補正して第5図(d)に示す修正パターンP′
が得られる。さらに、修正パターンP°の部分パターン
T’ +−(1,1゜1、Olo、1.1.1)、Tl
2−(1,1,1,1,0,0、]、T1)、・・−1
T’ts= t 1.1.1.1.1.0.0.11
を各々巡回的に用いた線パターンを有するベクトルをX
軸貴方向に平行にずらして重ねることにより第5図(e
)に示すごとく線幅11、角度45°の模様線が得られ
る。
j−1、2、3、・・・、n) k二1.2.3.4.5.6.7.8.9.101]、
12.1314.15i = 1.2.3.3.4.5
.6.6.7.8.9.9.10.11.11 ・・・
(7)これは、i二3.6.9.11行の部分パターン
が重複して用いられることを意味しておシ、補正の結果
第5図(C)が得られる。さらに、i = 1.2.3
、・・・、15に対する位相ずれ量は(6)式よりSi
二〇、1.1.2.2.3.3.4.4.5.5.6.
6.7.7となり、例えば部分パターンT”4−10.
0.1、Olo、■、0、O) (0は白、1は黒を意
味する)は5i−2だけずらしてTl4−(0,0,0
,0,1,0,0、■)と変換される。全体について位
相ずれを補正して第5図(d)に示す修正パターンP′
が得られる。さらに、修正パターンP°の部分パターン
T’ +−(1,1゜1、Olo、1.1.1)、Tl
2−(1,1,1,1,0,0、]、T1)、・・−1
T’ts= t 1.1.1.1.1.0.0.11
を各々巡回的に用いた線パターンを有するベクトルをX
軸貴方向に平行にずらして重ねることにより第5図(e
)に示すごとく線幅11、角度45°の模様線が得られ
る。
以上述べたように、本発明の模様線の描画方式によれば
、任意の傾きで、模様が斜めに変形した9幅が狭くなる
ということのない模様線をゝクトルと同様に容易に描画
することができる。
、任意の傾きで、模様が斜めに変形した9幅が狭くなる
ということのない模様線をゝクトルと同様に容易に描画
することができる。
第6図は本発明の模様線の描画方式を実現した装置の一
実施例を示したブロック図である。図中2は補正線幅演
算部であシ、基本パターンの線幅mと模様線の成分dx
、dyを入力して補正線幅m′を出力する。3は基本パ
ターンメモリであり、特定の基本パターンP=i Cr
jl (i=1.2.3.−・・、m、j=1.2,3
、・・・、n)を記憶している。4はパターン変換部で
6D、基本パターンメモリ3.72より輝度もしくは色
のコードCiJを順に入力し、補正線幅m1と模様線の
成分dx、dyとを用いて修正パターンP’=(C’i
、 l (t=i、2.3、・・・、mo、j−1,2
,3、・・・、n)に変換する。5は修正パターンメモ
リであり、パターン変換部4の出力−J−る修正パター
ンを一時記憶する。6は始点演算部であり、補正線幅I
n’と模様線の成分dx、dyと模様線の始点x、yを
入力してm’組の始点Xi、Yi(l=1.2.3、・
・・、m’)を出力する。7はベクトル発生部であり、
始点Xi、、Yiど、模様線の成分dx、dyと修正パ
ターンの部分パターンT’i(i = l、2.3.・
・・、m’)を入力してベクトルを表わす点列の座標X
iv、Y1vと各点に対応するコードC1v(V:l、
2.3、・・・、 MAX(dx−dy))を出力する
。8はイメージメモリであり、ベクトル発生部から順次
送られて来る点列の座標Xiv、Yiv に対応するア
ドレスにコードC1vを書込み記憶する。1は装置の動
作を制御する制御部である。
実施例を示したブロック図である。図中2は補正線幅演
算部であシ、基本パターンの線幅mと模様線の成分dx
、dyを入力して補正線幅m′を出力する。3は基本パ
ターンメモリであり、特定の基本パターンP=i Cr
jl (i=1.2.3.−・・、m、j=1.2,3
、・・・、n)を記憶している。4はパターン変換部で
6D、基本パターンメモリ3.72より輝度もしくは色
のコードCiJを順に入力し、補正線幅m1と模様線の
成分dx、dyとを用いて修正パターンP’=(C’i
、 l (t=i、2.3、・・・、mo、j−1,2
,3、・・・、n)に変換する。5は修正パターンメモ
リであり、パターン変換部4の出力−J−る修正パター
ンを一時記憶する。6は始点演算部であり、補正線幅I
n’と模様線の成分dx、dyと模様線の始点x、yを
入力してm’組の始点Xi、Yi(l=1.2.3、・
・・、m’)を出力する。7はベクトル発生部であり、
始点Xi、、Yiど、模様線の成分dx、dyと修正パ
ターンの部分パターンT’i(i = l、2.3.・
・・、m’)を入力してベクトルを表わす点列の座標X
iv、Y1vと各点に対応するコードC1v(V:l、
2.3、・・・、 MAX(dx−dy))を出力する
。8はイメージメモリであり、ベクトル発生部から順次
送られて来る点列の座標Xiv、Yiv に対応するア
ドレスにコードC1vを書込み記憶する。1は装置の動
作を制御する制御部である。
第6図を用いて始点x、y、成分dx、dy、基本パタ
ーンPを有する模様数を描画する際の動作を説明する。
ーンPを有する模様数を描画する際の動作を説明する。
基本パターンPはあらがじめ基本パターンメモリ3に記
憶されているものとする。補正線幅演算部2は基本パタ
ーンの線幅m、dx= dyを入力し、(6)式で示し
た演算を行ない補正線幅m’を出力する。ただし、以後
の説明においてθ=a r c t 3n (”’ )
、(01θく360°)とする。パタx −ン変換部4は補正線幅m°、dx、dyを入力し、基
本パターンメモリ3からパターンのコードC1jを順に
入力し、(2)、(5)、(6)式に従った演算操作に
より修正パターンP゛のコードc l 1J に変換し
て出力し、修正パターンメモリ5に一時記憶させる。
憶されているものとする。補正線幅演算部2は基本パタ
ーンの線幅m、dx= dyを入力し、(6)式で示し
た演算を行ない補正線幅m’を出力する。ただし、以後
の説明においてθ=a r c t 3n (”’ )
、(01θく360°)とする。パタx −ン変換部4は補正線幅m°、dx、dyを入力し、基
本パターンメモリ3からパターンのコードC1jを順に
入力し、(2)、(5)、(6)式に従った演算操作に
より修正パターンP゛のコードc l 1J に変換し
て出力し、修正パターンメモリ5に一時記憶させる。
この変換の演算操作は、例えば次のように行なうことが
できる。まず(2)式に従い、基本パターンメモリ3か
ら順にコードC1jを入力しnl’を用いて線幅を補正
したパターン変換部I C”kJl (k= 1.2、
・・・、mo、J−1,2、・・・、n)をパターン変
換部4の内部メモリー(図示せず)に一時記憶する。
できる。まず(2)式に従い、基本パターンメモリ3か
ら順にコードC1jを入力しnl’を用いて線幅を補正
したパターン変換部I C”kJl (k= 1.2、
・・・、mo、J−1,2、・・・、n)をパターン変
換部4の内部メモリー(図示せず)に一時記憶する。
次に(6)式に示す演算により模様の位相ずれ量5I(
i=1.2、・・・、ml)をめ、さらに(5)式で示
す操作により所望の修正パターンコードC′Ij が得
られる。また、(6)式の操作は巡回的なn段のシフト
レジスタを用いて行うこともできる。始点演算部6はm
’、x、y、 dx、 dyを入力し、本発明の詳細な
説明で示したようにm′組の始点Xi、Yi(i =
1.2、・・・、m’)を出力する。その−例を(8)
式%式%(8 ただし、i二1.2、・・・、m“、o0≦θ<45°
または正パターンメモリ5に一時記憶されている修正パ
ターンP1の部分パターンT’1=IC’1jl(j=
x、2、・・・、n)と前記始点座標Xi、Yiおよび
dx、ctyは、制御部1の制御のもとにi = l、
2、・・・、moの順にrn’回にわたりベクトル発生
部7に送られる。ベクトル発生部7は各回毎に、部分パ
ターンT I 、を巡回的に用いた線パターンを有する
単位線幅のベクトルを表わす点列の座標XIV、Yiv
とコードC1v(v二1.2、・・・、MAX ((l
X、 d y )を発生し、イメージメモリ80対応
するアドレス位置にC1vを書込むように動作する。し
たがって、m’本のベクトルがイメージメモリ8に記憶
されることになる。ディスプレイ装置あるいはノ・−ト
コピー装置(いずれも図示せず)d、イメージメモリ8
に記憶されたデータを読み出し視覚化するものであり、
本発明の実施例においては本質的ではないので説明を省
略する。
i=1.2、・・・、ml)をめ、さらに(5)式で示
す操作により所望の修正パターンコードC′Ij が得
られる。また、(6)式の操作は巡回的なn段のシフト
レジスタを用いて行うこともできる。始点演算部6はm
’、x、y、 dx、 dyを入力し、本発明の詳細な
説明で示したようにm′組の始点Xi、Yi(i =
1.2、・・・、m’)を出力する。その−例を(8)
式%式%(8 ただし、i二1.2、・・・、m“、o0≦θ<45°
または正パターンメモリ5に一時記憶されている修正パ
ターンP1の部分パターンT’1=IC’1jl(j=
x、2、・・・、n)と前記始点座標Xi、Yiおよび
dx、ctyは、制御部1の制御のもとにi = l、
2、・・・、moの順にrn’回にわたりベクトル発生
部7に送られる。ベクトル発生部7は各回毎に、部分パ
ターンT I 、を巡回的に用いた線パターンを有する
単位線幅のベクトルを表わす点列の座標XIV、Yiv
とコードC1v(v二1.2、・・・、MAX ((l
X、 d y )を発生し、イメージメモリ80対応
するアドレス位置にC1vを書込むように動作する。し
たがって、m’本のベクトルがイメージメモリ8に記憶
されることになる。ディスプレイ装置あるいはノ・−ト
コピー装置(いずれも図示せず)d、イメージメモリ8
に記憶されたデータを読み出し視覚化するものであり、
本発明の実施例においては本質的ではないので説明を省
略する。
以上述べたように、本発明の模様線の描画装置によれば
模様線の始点と成分と基本パターンが与えられて、成分
で定められる任意の傾きで、模様が斜めに変形したシ幅
が狭くなるということのな゛い模様線をベクトルと同様
に容易に描画することができる。
模様線の始点と成分と基本パターンが与えられて、成分
で定められる任意の傾きで、模様が斜めに変形したシ幅
が狭くなるということのな゛い模様線をベクトルと同様
に容易に描画することができる。
上述の本発明の幅のあるベクトルの発生方式および幅の
あるベクトルの発生装置の説明において、(6)式に示
すようにsecθ、cosecθ、5in2θ(θ=演
算によりm“ S、をめており、この演算は関数演算器
あるいはマイクロプロセッサ等により容易VC実行f
% ;b。ココf (1,s =MIN (I dx
l、1ay+)、d ]=MAX(l dx 1−dy
I )−01−テする。一方、0°≦θく360°に
おいて、θとθ1との関係は(9)式で表わされる。
あるベクトルの発生装置の説明において、(6)式に示
すようにsecθ、cosecθ、5in2θ(θ=演
算によりm“ S、をめており、この演算は関数演算器
あるいはマイクロプロセッサ等により容易VC実行f
% ;b。ココf (1,s =MIN (I dx
l、1ay+)、d ]=MAX(l dx 1−dy
I )−01−テする。一方、0°≦θく360°に
おいて、θとθ1との関係は(9)式で表わされる。
θ=θ1 (0°≦θ<45°)
−900−01(45°≦θく 90°)二 90°+
01(90°≦θく135°)=180°−01(13
5°≦θ<180°)=180°+01(180°≦θ
<225°)=270°−01(225°≦θり270
°)=2700+01(270°≦θ<315°)=3
60°−01(315°≦θ<360°) ・・・(9
)ここで5i1==[−>5tn2θ1〕として(9)
式を用いて(61式を書きかえると(14式を得る。
01(90°≦θく135°)=180°−01(13
5°≦θ<180°)=180°+01(180°≦θ
<225°)=270°−01(225°≦θり270
°)=2700+01(270°≦θ<315°)=3
60°−01(315°≦θ<360°) ・・・(9
)ここで5i1==[−>5tn2θ1〕として(9)
式を用いて(61式を書きかえると(14式を得る。
m’−(mesecθ1〕 (0°≦θ< 360 ’
)Si” 5it(0°≦θく45°、90°≦θく1
80c。
)Si” 5it(0°≦θく45°、90°≦θく1
80c。
225°≦θく270°)
=S口(45°≦θり90°、180°≦θり225°
、270°≦θく360°) ・・・・・・・・・・−
・(1嶋(10)式に示すθの条件はdx、dyの正、
負および大小により容易に表現できる。したがって、−
のJ 値に対してOから1の間で適当な区間(例えばゾ32単
位)Kよシあらかじめ(m−5ec(arctanの値
で2次元のテーブルを作っておくととにより、moとS
iの値を高速にめることができ、装置の動作速度を速め
、また構成を簡単にできる。
、270°≦θく360°) ・・・・・・・・・・−
・(1嶋(10)式に示すθの条件はdx、dyの正、
負および大小により容易に表現できる。したがって、−
のJ 値に対してOから1の間で適当な区間(例えばゾ32単
位)Kよシあらかじめ(m−5ec(arctanの値
で2次元のテーブルを作っておくととにより、moとS
iの値を高速にめることができ、装置の動作速度を速め
、また構成を簡単にできる。
また、上述の実施例の説明において補正始点座標Xi、
Yiを(8)式で与えたが、この方法に限定するもので
(dなく、他の一例としてd=[m’/2)とすれば、 X1=x+q @ (d −i + 1 )、頌=y−
I−re(d−i+1) により模様線の始点において紅!唱方向の中心を(x、
y)に位置させることができる。
Yiを(8)式で与えたが、この方法に限定するもので
(dなく、他の一例としてd=[m’/2)とすれば、 X1=x+q @ (d −i + 1 )、頌=y−
I−re(d−i+1) により模様線の始点において紅!唱方向の中心を(x、
y)に位置させることができる。
第1図は模様線の一例を示した図であり、(a)は模様
線、(b)は基本パターンを示す。第2図(a)、(b
)は従来の模様線の実現方法を説明するだめの図である
。第3図(a)、(1))、(C)および第4図(a)
、(b)1は本発明の模様線の描画方式を説明するだめ
の図である。第5図(a)、(bl、(C)、(dl、
(e)は本発明の方式による模様線の例を示した図であ
る。第6図は本発明の模様線の描画方式を実現した装置
の一実施例を示したブロック図である。 図において、1は制御部、2は補正線幅演算部、3は基
本パターンメモリ、4はパターン変換部、5は修正パタ
ーンメモリ、6は始点演算部、7はベクトル発生部、8
はイメージメモリをそれぞれ示している。 オ 1 図 一+→+H升 (a) (b) 第2図 ′ 第3図 (b) 第4図 第5図 (b) (c) (d)
線、(b)は基本パターンを示す。第2図(a)、(b
)は従来の模様線の実現方法を説明するだめの図である
。第3図(a)、(1))、(C)および第4図(a)
、(b)1は本発明の模様線の描画方式を説明するだめ
の図である。第5図(a)、(bl、(C)、(dl、
(e)は本発明の方式による模様線の例を示した図であ
る。第6図は本発明の模様線の描画方式を実現した装置
の一実施例を示したブロック図である。 図において、1は制御部、2は補正線幅演算部、3は基
本パターンメモリ、4はパターン変換部、5は修正パタ
ーンメモリ、6は始点演算部、7はベクトル発生部、8
はイメージメモリをそれぞれ示している。 オ 1 図 一+→+H升 (a) (b) 第2図 ′ 第3図 (b) 第4図 第5図 (b) (c) (d)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、輝度もしくは色のコードで定められた2次元格子状
の基本パターンを巡回的に用いた模様を有するディジタ
ル的な模様線の描画方式において、x−y座標系におけ
る模様線の始点と、その成分と1.基本パターンP =
l C1Jl (i二1.2、・・・、m、j二1.2
、・・・、n、)とが与えられたときに、前記模様線と
X軸とのなす角度をθ(θ°≦θく360°)とすれば
、前記基本パターンの線幅mと前記角度θとからめた補
正線幅m゛、および基本パターンでの線幅方向の位置1
(i=1.2、・・・、m’)と前記角度θとからめた
模様の位相ずれ量8iとを用いて修正パターン””IC
i j l(i=1.2、・・・、mo、j=1.2、
・・・、n)を作成し、該修正パターンの行部分パター
ン’I”1=fcij 1(j=1.2、・・・、n)
を巡回的に用いた線パターンを有する単位線幅のベクト
ルの始点を前記角度θに応じてy@tたはX軸に平行に
単位画素分ずらしながら前記補正線幅m1本数分重ねて
描画することを特徴とする模様線の描画方式。 2 輝度もしくは色のコードで定められた2次元格子状
の基本パターンを巡回的に用いた模様を有するディジタ
ル的な模様線の描画装置において、基本パターンPを記
憶する基本パターンメモリと、X−y座標系における模
様線の始点Xyとその成分dx、dy と前記基本パタ
ーンP(Cijt(i=1.2、・・・、m、j二1.
2、・・・、n)とが与えられたときに、基本パターン
の線幅mと模様線の成分dx、dyを入力して補正線幅
□“を出力する補正線幅演算部と、前記基本パターンメ
モリよシバターンコードCi’j を入力し、前記補正
線幅m’と模様線の成分dx、dy とを用いて修正パ
ターンP’:lC’ii )(i=1.2、・・・、n
]’、1−1.2、・・・、n)に変換し出力するパタ
ーン変換部と、前記パターン変換部の出力する修正パタ
ーンP°を一時記憶する修正パターンメモリと、前記補
正線幅m′と模様線の始点X、y、成分dx、dyを入
力してm′組の始点X1、yiに:i、2、・・・、m
’) を出力する始点演算部と、前記始点X2、Yiと
模様線の成分dx、dyと前記修正パターンの行部分パ
ターンIll l 。 =C1ij(j−1,2、・・・、n)を入力して該行
部分パターンTI、を巡回的に用いた線パターンを有す
るベクトルを表わす点列の座標XiV、Yivと各点で
の輝度もしくは色のコードC1y(v=1.2、・・・
、MAX (dx、 dy ) )を出力するベクトル
発生部と、前記点列の座標Xiv、Y1vに対応するア
ドレスにコードCrvを書込み記憶するイメージメモリ
と、装置の動作を制御する制御部とから構成されること
を特徴とする模様線の描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58167799A JPS6059386A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 模様線の描画方式とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58167799A JPS6059386A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 模様線の描画方式とその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059386A true JPS6059386A (ja) | 1985-04-05 |
Family
ID=15856318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58167799A Pending JPS6059386A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 模様線の描画方式とその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059386A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0198074A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 画像の描画消去方法 |
| JPH02165389A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Ricoh Co Ltd | 情報処理装置 |
| JP2003263654A (ja) * | 2003-02-07 | 2003-09-19 | Namco Ltd | 画像生成装置及び情報記憶媒体 |
| JP2007310909A (ja) * | 2007-08-20 | 2007-11-29 | Namco Bandai Games Inc | 画像生成装置及び情報記憶媒体 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP58167799A patent/JPS6059386A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0198074A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 画像の描画消去方法 |
| JPH02165389A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Ricoh Co Ltd | 情報処理装置 |
| JP2003263654A (ja) * | 2003-02-07 | 2003-09-19 | Namco Ltd | 画像生成装置及び情報記憶媒体 |
| JP2007310909A (ja) * | 2007-08-20 | 2007-11-29 | Namco Bandai Games Inc | 画像生成装置及び情報記憶媒体 |
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