JPS6059985B2 - 片面溶融メツキ用噴流ノズル装置 - Google Patents
片面溶融メツキ用噴流ノズル装置Info
- Publication number
- JPS6059985B2 JPS6059985B2 JP56072929A JP7292981A JPS6059985B2 JP S6059985 B2 JPS6059985 B2 JP S6059985B2 JP 56072929 A JP56072929 A JP 56072929A JP 7292981 A JP7292981 A JP 7292981A JP S6059985 B2 JPS6059985 B2 JP S6059985B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- jet nozzle
- outlet
- nozzle
- discharge port
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/006—Pattern or selective deposits
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はストリップの片面を連続的に溶融メッキする
ための装置に関するもので、ストリップの全幅に渡つて
均一にメッキを施すことができ、かつ非メッキ面の汚れ
を確実に防止できる装置を提供しようとするものである
。
ための装置に関するもので、ストリップの全幅に渡つて
均一にメッキを施すことができ、かつ非メッキ面の汚れ
を確実に防止できる装置を提供しようとするものである
。
近年需要が高まつている片面亜鉛メッキ鋼板の製造方
法としては、従来から多くの方式が知られている。
法としては、従来から多くの方式が知られている。
その内の１つとしてポンプによつて溶融亜鉛（以一「ｎ
と略す）の浴面を盛上げ、ないしは浴面より上に噴出さ
せ、これに走行するストリップの下面のみを接触させて
片面メッキを行なう方法があり、これを実現するための
装置も各種提案されている。 その一例として第１図及
び第２図に示すものは本発明者によつて先に提案（特願
昭５５−１８５４５３号）されたものであり、ストリッ
プの様々な幅に対しても非メッキ面の汚れを確実に防止
することを狙つて創案されたものである。
と略す）の浴面を盛上げ、ないしは浴面より上に噴出さ
せ、これに走行するストリップの下面のみを接触させて
片面メッキを行なう方法があり、これを実現するための
装置も各種提案されている。 その一例として第１図及
び第２図に示すものは本発明者によつて先に提案（特願
昭５５−１８５４５３号）されたものであり、ストリッ
プの様々な幅に対しても非メッキ面の汚れを確実に防止
することを狙つて創案されたものである。
即ち、図中１はＺｎの自由浴面２上を水平に走行する
ストリップであり、ポンプ（図示せず）から供給されて
Ｚｎは、ノズルヘッダー３に集められ、メッキ吐出口４
からストリップ１の下面目掛けて噴出されるようになつ
ている。
ストリップであり、ポンプ（図示せず）から供給されて
Ｚｎは、ノズルヘッダー３に集められ、メッキ吐出口４
からストリップ１の下面目掛けて噴出されるようになつ
ている。
このようなノズル吐出口４はその形状が平面的にみてＶ
字形となつており、かつストリップ１の最大幅より広く
することで非メッキ面へのＺｎ（７）廻り込みを防ぐと
共に噴出したＺｎ２ａの落下点でのスプラッシュの発生
を防ぐために、ノズルプレート５を落下方向に傾斜させ
、かつＺｎの自由浴面２の着水点には、ここで発生する
スプラッシュを捕促するために上面にスプラッシュ防止
カバー６を設けてスプラッシュによる非メッキ面の汚れ
を防いでいるものである。しかしながら、このような装
置にはその後の検討１１７よるといまだ次のような問題
点を有していることがわかつた。
字形となつており、かつストリップ１の最大幅より広く
することで非メッキ面へのＺｎ（７）廻り込みを防ぐと
共に噴出したＺｎ２ａの落下点でのスプラッシュの発生
を防ぐために、ノズルプレート５を落下方向に傾斜させ
、かつＺｎの自由浴面２の着水点には、ここで発生する
スプラッシュを捕促するために上面にスプラッシュ防止
カバー６を設けてスプラッシュによる非メッキ面の汚れ
を防いでいるものである。しかしながら、このような装
置にはその後の検討１１７よるといまだ次のような問題
点を有していることがわかつた。
まず第１にストリップ中央部に第３図に示すような不メ
ッキが現われることである。
ッキが現われることである。
これは、第１図に示したＶ字型ノズルは中央部角度θ１
＝１２０示としているため、Ｚｎの吐出面がこの部分だ
低くなることによる。この様子を示したのが第４図であ
る。即ちノズル中央部のＺｎの低い盛上り面は不安定で
あり、場合によつては図中の点線の如く別れてしまいこ
のような状態では当然第３図のごとき不メッキが現われ
てしまう。第２の問題はストリップ幅方向の品質ムラで
ある。
＝１２０示としているため、Ｚｎの吐出面がこの部分だ
低くなることによる。この様子を示したのが第４図であ
る。即ちノズル中央部のＺｎの低い盛上り面は不安定で
あり、場合によつては図中の点線の如く別れてしまいこ
のような状態では当然第３図のごとき不メッキが現われ
てしまう。第２の問題はストリップ幅方向の品質ムラで
ある。
第５図はストリップの幅方向の密着性能を調べた結果を
示したもので、ストリップの中央部程密着性が劣つてい
ることがわかる。これはノズルが■字型であるため、ス
トリップ進行方行に関してＺｎとの接触時間にムラを生
じていることに起因するものである。この場合、ストリ
ップエッジの方がストリップセンターに比べて接触時間
が長く、ストリップの最大幅１８４０ｍではこの両者の
差が顕著となることはいうまでもない。本発明は以上の
ような従来の問題点を解決する．ためにさらに研究を重
ねた結果提案されたものであり、特に均一なＺｎの盛上
り面が得られるようにし、かつストリップとＺｎの接触
時間をストリップの幅方向において均一となるようにし
たノズル形状を提供しようとするものである。
示したもので、ストリップの中央部程密着性が劣つてい
ることがわかる。これはノズルが■字型であるため、ス
トリップ進行方行に関してＺｎとの接触時間にムラを生
じていることに起因するものである。この場合、ストリ
ップエッジの方がストリップセンターに比べて接触時間
が長く、ストリップの最大幅１８４０ｍではこの両者の
差が顕著となることはいうまでもない。本発明は以上の
ような従来の問題点を解決する．ためにさらに研究を重
ねた結果提案されたものであり、特に均一なＺｎの盛上
り面が得られるようにし、かつストリップとＺｎの接触
時間をストリップの幅方向において均一となるようにし
たノズル形状を提供しようとするものである。
ところで、Ｚｎの均一な盛上り面を得るには、第１図に
示す中央部におけるノズル角度θ１、第２図に示す垂直
方向に対するノズルの吐出角度θ２が重要な要素となる
。
示す中央部におけるノズル角度θ１、第２図に示す垂直
方向に対するノズルの吐出角度θ２が重要な要素となる
。
これらの角度は、ストリップエッジ部からＺｎが非メッ
キ面（上面）に廻・り込むのも防ぐことを目的として決
めたもので、ストリップエッジ部におけるＺｎの吐出方
向が重要な点となる。したがつて、片面メッキのＺｎ噴
流ノズルを設計するにあたつては、前述した要素を充分
考慮する必要がある。第６図及び第７図は、本発明に係
るノズル形状の一例を最大幅のストリップ１ａと、最小
幅のストリップ１ｂと共に示したものである。
キ面（上面）に廻・り込むのも防ぐことを目的として決
めたもので、ストリップエッジ部におけるＺｎの吐出方
向が重要な点となる。したがつて、片面メッキのＺｎ噴
流ノズルを設計するにあたつては、前述した要素を充分
考慮する必要がある。第６図及び第７図は、本発明に係
るノズル形状の一例を最大幅のストリップ１ａと、最小
幅のストリップ１ｂと共に示したものである。
このノズルの吐出口４は平面的にみて中央部４ａを最小
ストリップ幅に合せてストリップの進行方行に対して直
角となるように設けている。また吐出口両端部４ｂ（第
６図では一側しか図示せず）は平面的にみてストリップ
進行方行と逆方向にやや折り曲Ｌげている。なお、第７
図に示すごとく本発明においてもノズル吐出口はストリ
ップ進行方行に所定角度θ２傾いていることはいうまで
もない。このようにすることにより、ストリップの廻り
込み防止に重要な要素である角度０３は、従来法（特願
昭５５−８７１７４号以下同じ）と同じ角度６０保つこ
とができ、また均一なＺｎの盛上り面の高さを得る上で
重要な要素となる角度θ１は従来法の１２０上から本発
明では１５００と広くなり、より均一な盛上り面が得う
れるようになる。例えば従来法では、このノズルの折り
曲げ部だけＺｎが吐出しない場合があつたが、本発明で
は全体のＺｎの盛上り高さが２『程度に対してこの折り
曲げ部４ｃは１〜２ｗ１程度低くなるだけで、従来法の
ようにこの部分から吐出しないような事態は起らない。
この場合折り曲げ部４ｃをＲを付けた形状とするとＺｎ
の盛上り高さはほぼ均一となる。一方、本発明において
は、ノズル吐出口４に第７図に示すごときノズルプレー
ト５を連設するとより効果的である。即ちこのノズルプ
レート５は前記吐出口４に続く平行部５ａと、浴面２方
向に傾いた傾斜部５ｂとから構成されている。この場合
、平行部５ａの長さ１ｐはストリップ１とＺｎとの接触
時間の幅方向の均一性に重要であるばかりでなく、スト
リップ１と平行部５ａ間でＺｎを充満させ、ストリップ
１の下面にＺｎを確実に接触させるという点でも重要で
ある。この平行部５ａの長さ１ｐは次のようにして決定
される。
ストリップ幅に合せてストリップの進行方行に対して直
角となるように設けている。また吐出口両端部４ｂ（第
６図では一側しか図示せず）は平面的にみてストリップ
進行方行と逆方向にやや折り曲Ｌげている。なお、第７
図に示すごとく本発明においてもノズル吐出口はストリ
ップ進行方行に所定角度θ２傾いていることはいうまで
もない。このようにすることにより、ストリップの廻り
込み防止に重要な要素である角度０３は、従来法（特願
昭５５−８７１７４号以下同じ）と同じ角度６０保つこ
とができ、また均一なＺｎの盛上り面の高さを得る上で
重要な要素となる角度θ１は従来法の１２０上から本発
明では１５００と広くなり、より均一な盛上り面が得う
れるようになる。例えば従来法では、このノズルの折り
曲げ部だけＺｎが吐出しない場合があつたが、本発明で
は全体のＺｎの盛上り高さが２『程度に対してこの折り
曲げ部４ｃは１〜２ｗ１程度低くなるだけで、従来法の
ようにこの部分から吐出しないような事態は起らない。
この場合折り曲げ部４ｃをＲを付けた形状とするとＺｎ
の盛上り高さはほぼ均一となる。一方、本発明において
は、ノズル吐出口４に第７図に示すごときノズルプレー
ト５を連設するとより効果的である。即ちこのノズルプ
レート５は前記吐出口４に続く平行部５ａと、浴面２方
向に傾いた傾斜部５ｂとから構成されている。この場合
、平行部５ａの長さ１ｐはストリップ１とＺｎとの接触
時間の幅方向の均一性に重要であるばかりでなく、スト
リップ１と平行部５ａ間でＺｎを充満させ、ストリップ
１の下面にＺｎを確実に接触させるという点でも重要で
ある。この平行部５ａの長さ１ｐは次のようにして決定
される。
即ち１ｐが短か過ぎると、前述の平行部を設けた効果が
得られず、長すぎると従来法で述べた通り吐出されたＺ
ｎがこの平行部５ａに落下するとスプラッシュが発生し
非メッキ面（上面）を汚す事態となる。したがつてこの
平行部長さ１ｐは吐出されたＺｎが平行部５ａを越えて
落ちるようにする範囲で最大の長さとすることが好まし
い。即ち、ノズルから吐出される亜鉛の上面の軌跡は、
ほぼ放物線で近似できるからとあられすことができる。
得られず、長すぎると従来法で述べた通り吐出されたＺ
ｎがこの平行部５ａに落下するとスプラッシュが発生し
非メッキ面（上面）を汚す事態となる。したがつてこの
平行部長さ１ｐは吐出されたＺｎが平行部５ａを越えて
落ちるようにする範囲で最大の長さとすることが好まし
い。即ち、ノズルから吐出される亜鉛の上面の軌跡は、
ほぼ放物線で近似できるからとあられすことができる。
ここでｈ′″ＡＸ（Ｔｎ！ｎ）は吐出されたＺｎのノズ
ルからの垂直方向盛上り高さを示し、θ２は第７図に示
す吐出角を意味している。第８図はθ＝３００のときの
上記６式を示したもので、斜線の部分が許容される範囲
である。なお第７図における傾斜部５ｂの角度０４は従
来法で示したようにθ４≦θ２とすることが必要である
。その他第６図及び第７図において６はスプラッシュ防
止カバー、７は水平ロールである。次の本発明の具体的
実施例を詳述する。〈実施例〉 第６図及び第７図においてノズルプレート５の平行部長
さ１ｐは１００Ｔｆｒｆｎノズル吐出口θ１＝１５０■
θ２＝３００、ノズルプレートの傾斜角θ，＝２０１と
した。
ルからの垂直方向盛上り高さを示し、θ２は第７図に示
す吐出角を意味している。第８図はθ＝３００のときの
上記６式を示したもので、斜線の部分が許容される範囲
である。なお第７図における傾斜部５ｂの角度０４は従
来法で示したようにθ４≦θ２とすることが必要である
。その他第６図及び第７図において６はスプラッシュ防
止カバー、７は水平ロールである。次の本発明の具体的
実施例を詳述する。〈実施例〉 第６図及び第７図においてノズルプレート５の平行部長
さ１ｐは１００Ｔｆｒｆｎノズル吐出口θ１＝１５０■
θ２＝３００、ノズルプレートの傾斜角θ，＝２０１と
した。
またノズル開口部の短辺は５ｍ！ｎとして幅方向一定と
し、長辺の長さは、第６図に示すように中央部４ａでは
、ストリップの蛇行も考慮し、Ｗａ＝最小板幅（９００
７ｍ）−１００ｍ＝８００ｍストリップ端部４ｂでは両
サイド分合せて、Ｗｂ＝最大板幅（１８４『）＋１００
−Ｗａ（８００）＝１１４０ｗｍとした。両ノズルの折
曲り部４ｃのＲは２００ｍＲとしている。さらにノズル
とストリップの間隔は１０ｍとし、Ｚｎの盛上り高さは
、２０ｒｍとしている。すなわち、ストリップによつて
Ｚｎの盛上り面を、１０ｍ程度押し下げた所でＺｎメッ
キを行なつた。この結果、従来法で問題となつていたメ
ッキ面の不均一性の問題は、完全に解決され、ストリッ
プの全幅に渡つて均一で良好な品質が得られた。
し、長辺の長さは、第６図に示すように中央部４ａでは
、ストリップの蛇行も考慮し、Ｗａ＝最小板幅（９００
７ｍ）−１００ｍ＝８００ｍストリップ端部４ｂでは両
サイド分合せて、Ｗｂ＝最大板幅（１８４『）＋１００
−Ｗａ（８００）＝１１４０ｗｍとした。両ノズルの折
曲り部４ｃのＲは２００ｍＲとしている。さらにノズル
とストリップの間隔は１０ｍとし、Ｚｎの盛上り高さは
、２０ｒｍとしている。すなわち、ストリップによつて
Ｚｎの盛上り面を、１０ｍ程度押し下げた所でＺｎメッ
キを行なつた。この結果、従来法で問題となつていたメ
ッキ面の不均一性の問題は、完全に解決され、ストリッ
プの全幅に渡つて均一で良好な品質が得られた。
なお、本発明は、鋼板Ｚｎメッキのみならず、板の片面
のみを連続的に溶融金属メッキを施そうとする場合に極
めて有効な方法であり、広く他の製造プロセスにも適用
できる。
のみを連続的に溶融金属メッキを施そうとする場合に極
めて有効な方法であり、広く他の製造プロセスにも適用
できる。
第１図は従来の片面溶融金属メッキ装置の平面図、第２
図は第】図のＡ−Ａ断面図、第３図は従来装置によるメ
ッキ不良状況を示した説明図、第４図は同じく従来装置
のメッキ噴流状況を示す斜視図、第５図は従来装置によ
るストリップ幅方向距離と密着性の関係を示すグラフ、
第６図は本発明に係る装置の平面図、第７図は第６図の
Ｂ−Ｂｌ断面図、第８図は本発明におけるノズルプレー
トの平行部長さの有効範囲を示したグラフである。
図は第】図のＡ−Ａ断面図、第３図は従来装置によるメ
ッキ不良状況を示した説明図、第４図は同じく従来装置
のメッキ噴流状況を示す斜視図、第５図は従来装置によ
るストリップ幅方向距離と密着性の関係を示すグラフ、
第６図は本発明に係る装置の平面図、第７図は第６図の
Ｂ−Ｂｌ断面図、第８図は本発明におけるノズルプレー
トの平行部長さの有効範囲を示したグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 移行するストリップの下方に設置され、ストリップ
下面に溶融金属を衝突せしめて該ストリップ下面に連続
的にメッキするための噴流ノズル装置であつて、該噴流
ノズルの吐出口をストリップ進行方向に傾倒せしめると
共に、該吐出口形状を平面的にみて吐出口中央部はスト
リップの進行方向に対してほぼ直角となるように形成し
、かつ吐出口両端部はストリップ進行方行を逆方向に折
り曲げることを特徴とする片面溶融メッキ用噴流ノズル
装置。 ２ 移行するストリップの下方に設置され、ストリップ
下面に溶融金属を衝突せしめて該ストリップ下面に連続
的にメッキするための噴流ノズル装置であつて、該噴流
ノズルの吐出口をストリップ進行方行に傾倒せしめると
共に、該吐出口形状を平面的にみて吐出口中央部はスト
リップの進行方行に対してほぼ直角となるように形成し
、かつ吐出口両端部はストリップ進行方行と逆方向に折
り曲げ、しかもかかる吐出口にストリップ進行方行に延
びるノズルプレートを設けたことを特徴とする片面溶融
メッキ用噴流ノズル装置。 ３ ノズルプレートが、吐出口に続く平行部とこの平行
部に連設されメッキ浴面方向に傾いた傾斜部とから構成
されていることを特徴とする前記第２項の片面溶融メッ
キ用噴流ノズル装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56072929A JPS6059985B2 (ja) | 1981-05-15 | 1981-05-15 | 片面溶融メツキ用噴流ノズル装置 |
| AU72003/81A AU543645B2 (en) | 1980-06-26 | 1981-06-18 | Hot dip plating on one side of strip |
| GB8119233A GB2081746B (en) | 1980-06-26 | 1981-06-22 | Apparatus for hot dip plating on one side or strip |
| FR8112510A FR2485569A1 (fr) | 1980-06-26 | 1981-06-25 | Appareil de metallisation par immersion a chaud d'une face d'une bande |
| BR8104027A BR8104027A (pt) | 1980-06-26 | 1981-06-25 | Aparelho para a galvanizacao quente unilateral de uma tira |
| DE3125258A DE3125258C2 (de) | 1980-06-26 | 1981-06-26 | Vorrichtung zum einseitigen Heißtauchbeschichten eines Bandes |
| CA000380642A CA1178140A (en) | 1980-06-26 | 1981-06-26 | Apparatus of hot dip plating on one side of strip |
| US07/001,627 US4757781A (en) | 1980-06-26 | 1987-01-08 | Apparatus of hot dip plating on one side of strip |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56072929A JPS6059985B2 (ja) | 1981-05-15 | 1981-05-15 | 片面溶融メツキ用噴流ノズル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57188661A JPS57188661A (en) | 1982-11-19 |
| JPS6059985B2 true JPS6059985B2 (ja) | 1985-12-27 |
Family
ID=13503534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56072929A Expired JPS6059985B2 (ja) | 1980-06-26 | 1981-05-15 | 片面溶融メツキ用噴流ノズル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059985B2 (ja) |
-
1981
- 1981-05-15 JP JP56072929A patent/JPS6059985B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57188661A (en) | 1982-11-19 |
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