JPS606148U - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPS606148U JPS606148U JP1983096832U JP9683283U JPS606148U JP S606148 U JPS606148 U JP S606148U JP 1983096832 U JP1983096832 U JP 1983096832U JP 9683283 U JP9683283 U JP 9683283U JP S606148 U JPS606148 U JP S606148U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- projection exposure
- exposure equipment
- reticle
- projection
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図Ａは本考案を実施した投影露光装置の構成図、同
図Ｂはこれに使われるマスクの正面図、第２図は別の実
施例の構成図である。 図において、１，６は光源、２． ７． １４は集光レ
ンズ、３はレティクル、４は投影レンズ、５はウェハ、
８．１６はマスク、１１． １５． １８は反射鏡。
図Ｂはこれに使われるマスクの正面図、第２図は別の実
施例の構成図である。 図において、１，６は光源、２． ７． １４は集光レ
ンズ、３はレティクル、４は投影レンズ、５はウェハ、
８．１６はマスク、１１． １５． １８は反射鏡。
Claims (1)
- ホトレジストを被覆したウェハを規定ピッチ毎の移動が
可能な試料台上にセットすると共に光源よりの光を集光
レンズを通じてレティクルに照射し、該レティクルから
の透過光を投影レンズを用いて縮少し、前記ウェハへの
投影露光を繰返し行うステップアンドレピート方式をと
る露光装置において、該装置に付属して投影レンズを共
用する一識別番号付与用光学系を設けたことを特徴とす
る投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983096832U JPS606148U (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983096832U JPS606148U (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS606148U true JPS606148U (ja) | 1985-01-17 |
Family
ID=30230594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983096832U Pending JPS606148U (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606148U (ja) |
-
1983
- 1983-06-23 JP JP1983096832U patent/JPS606148U/ja active Pending
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