JPS6061906A - 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 - Google Patents
垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法Info
- Publication number
- JPS6061906A JPS6061906A JP16901783A JP16901783A JPS6061906A JP S6061906 A JPS6061906 A JP S6061906A JP 16901783 A JP16901783 A JP 16901783A JP 16901783 A JP16901783 A JP 16901783A JP S6061906 A JPS6061906 A JP S6061906A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- substrate
- recording head
- pole
- thin film
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁気記録用ヘッド（以下、垂直ヘッド）の
製造方法に関するもので、その主磁極に用いられる高透
磁率薄膜の磁気異方性の向きを作成時に一定方向に制御
することにより垂直ヘッドの信軸性を高め９歩留まりを
向上させることを目的とする。
製造方法に関するもので、その主磁極に用いられる高透
磁率薄膜の磁気異方性の向きを作成時に一定方向に制御
することにより垂直ヘッドの信軸性を高め９歩留まりを
向上させることを目的とする。
近年、磁気配録の高密度化の要求とともに、磁気記録媒
体の厚み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
体の厚み方向に磁気記録する。いわゆる垂直磁気記録方
式が注目されている。
この垂直磁気記録に使用される垂直ヘッドにはさまざま
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率−勝からなる主磁極とフェライト等からなる比較的厚
い補助磁極、及び励磁コイルによって構成されている。
なタイプのものが提案されているが、基本的には高透磁
率−勝からなる主磁極とフェライト等からなる比較的厚
い補助磁極、及び励磁コイルによって構成されている。
これらの垂直ヘッドのうち１代表的な補助磁極励磁型垂
直磁気ヘッドを第１図に示す。
直磁気ヘッドを第１図に示す。
記録時にはコイル２．に記録電流を流して補助磁極の磁
性体３．を励磁し、これによって励磁された主磁極１．
の高透磁率薄膜と垂直磁性媒体５．との相互作用によっ
て記録が行なわれる。７．はヘッド支持台である。また
、再生時には記録時と逆の過程を経てコイル２．に再生
電流が流れるのでこれを検出し利用する。この時、高密
度記録になる程、主磁極を通る磁束の反転速度が速くな
り、主磁極の高透磁率薄膜の応答速度または実効透磁率
の低下が問題となってくる。つまり主磁極の高透磁率の
磁気特性は、磁化反転速度の遅い磁化容易軸のものを用
いるより、磁化反転速度の速い磁化困難軸のものを用い
れば良い。つまり垂直磁性媒体に対して磁イヒ困難軸を
向ければ良いことが知られている。
性体３．を励磁し、これによって励磁された主磁極１．
の高透磁率薄膜と垂直磁性媒体５．との相互作用によっ
て記録が行なわれる。７．はヘッド支持台である。また
、再生時には記録時と逆の過程を経てコイル２．に再生
電流が流れるのでこれを検出し利用する。この時、高密
度記録になる程、主磁極を通る磁束の反転速度が速くな
り、主磁極の高透磁率薄膜の応答速度または実効透磁率
の低下が問題となってくる。つまり主磁極の高透磁率の
磁気特性は、磁化反転速度の遅い磁化容易軸のものを用
いるより、磁化反転速度の速い磁化困難軸のものを用い
れば良い。つまり垂直磁性媒体に対して磁イヒ困難軸を
向ければ良いことが知られている。
一方、この主磁極の高透磁率薄膜はスパッタ法。
蒸着法、メッキ法で作成されるが、薄膜の生成は膜作成
時の環境、特に周囲に存在する微弱な磁場に敏感に反応
して磁気異方性の向きを決定するため９作成された高透
磁率薄膜の磁気異方性の方向がとかく一定しない。従っ
て従来では高透磁率薄膜を形成した後、 Ｂ−Ｈループ
トレーサーによね磁気異方性を測定し、磁化困難軸の方
向にパターンが向くようエツチング処理をしていた。
時の環境、特に周囲に存在する微弱な磁場に敏感に反応
して磁気異方性の向きを決定するため９作成された高透
磁率薄膜の磁気異方性の方向がとかく一定しない。従っ
て従来では高透磁率薄膜を形成した後、 Ｂ−Ｈループ
トレーサーによね磁気異方性を測定し、磁化困難軸の方
向にパターンが向くようエツチング処理をしていた。
しかしこの方法では膜形成時の環境の微妙な変化により
高透磁率薄膜の磁気特性にかなりのバラツキを生じてい
た。
高透磁率薄膜の磁気特性にかなりのバラツキを生じてい
た。
本発明はこの問題を解決するために、高透磁率薄膜の作
成時に磁力線を印加しておくと、基板即ちヘッド支持台
上の磁力線の方向に磁化容易軸が向く性質のあることを
利用して、成膜時に高透磁率材料からなるヨーク板８．
および磁石９．を第２図（ａ）の様に、ヘッド支持台と
なる基板７．の周囲に配置し、それによって基板表面上
に平行磁場をつくり、得られる高透磁率薄膜の磁気異方
性の向きを所望方向に決定することができるようにした
ものである。
成時に磁力線を印加しておくと、基板即ちヘッド支持台
上の磁力線の方向に磁化容易軸が向く性質のあることを
利用して、成膜時に高透磁率材料からなるヨーク板８．
および磁石９．を第２図（ａ）の様に、ヘッド支持台と
なる基板７．の周囲に配置し、それによって基板表面上
に平行磁場をつくり、得られる高透磁率薄膜の磁気異方
性の向きを所望方向に決定することができるようにした
ものである。
なお、高周波スパッタ法により、高透磁率薄膜を作成す
る場合には、基板近傍に磁石９．を置くことによって高
透磁率薄膜の保磁力（ＨＣ）を大幅に低下させうろこと
従って、記録再生時の電磁変換効率を上げ、ひずみを小
さくすることができることがわかっている。
る場合には、基板近傍に磁石９．を置くことによって高
透磁率薄膜の保磁力（ＨＣ）を大幅に低下させうろこと
従って、記録再生時の電磁変換効率を上げ、ひずみを小
さくすることができることがわかっている。
以下９本発明をその実施例によって説明する。
第２図は本発明の一実施例であり、６．は高周波スパッ
タ用基級ホルダーである。
タ用基級ホルダーである。
基板ホルダー６、に対し高透磁率材料のヨーク板（パー
マロイ）８．および磁石９．９′を配置し、その中心部
に基板７．を配置する。
マロイ）８．および磁石９．９′を配置し、その中心部
に基板７．を配置する。
ここで磁石９．９′の極性を互に逆向きにして置くとき
は、基板上部の磁力線１０．は、第２図（Ｃ）に示す様
になり基板７．の表面に平行な強い磁場を発生する。
は、基板上部の磁力線１０．は、第２図（Ｃ）に示す様
になり基板７．の表面に平行な強い磁場を発生する。
この基板ホルダー６、を用いて高周波スパッタ法により
基板７．上にパーマロイ膜を形成させそれをＢ−Ｈルー
プトレーサーにかけて得られたＢ−Ｈループは第３図の
様になり、磁化容易軸は平行磁場の方向１１．を向き、
磁化困難軸はそれに直交する方向１２．となりた。
基板７．上にパーマロイ膜を形成させそれをＢ−Ｈルー
プトレーサーにかけて得られたＢ−Ｈループは第３図の
様になり、磁化容易軸は平行磁場の方向１１．を向き、
磁化困難軸はそれに直交する方向１２．となりた。
一方、磁化困難軸方向１２．の保磁力（Ｈｅ）は０．２
８（♂・）、磁化容易軸方向１１．の保磁力（Ｈ・）は
０．３６ （Ｏｅ）となり１本実施例のような、基板ホ
ルダーを用いない場合と比較するとその半分以下の値と
なった。本実施例においてなぜ保磁力（Ｈｅ）が低下し
たのか、良くわが・誓いないが、基板近傍に強い磁場が
存在したことにより、電子による基板衝撃が促進さ′れ
、基板表面の温度が上昇したためとも思 ５− われる。
８（♂・）、磁化容易軸方向１１．の保磁力（Ｈ・）は
０．３６ （Ｏｅ）となり１本実施例のような、基板ホ
ルダーを用いない場合と比較するとその半分以下の値と
なった。本実施例においてなぜ保磁力（Ｈｅ）が低下し
たのか、良くわが・誓いないが、基板近傍に強い磁場が
存在したことにより、電子による基板衝撃が促進さ′れ
、基板表面の温度が上昇したためとも思 ５− われる。
以上、述べた様に本発明によれば所望の方向に磁気異方
性を持つ高透磁率薄膜を作成することができ、主磁極の
磁気特性の信暫性を高め９歩留まりを大幅に向上させる
ことができる。特に、高周波スパッタ法を用いた場合は
、磁気特性を大幅に向上させることができるという効果
がある。
性を持つ高透磁率薄膜を作成することができ、主磁極の
磁気特性の信暫性を高め９歩留まりを大幅に向上させる
ことができる。特に、高周波スパッタ法を用いた場合は
、磁気特性を大幅に向上させることができるという効果
がある。
本実施例士は高透磁率材料のヨーク板としてパーマロイ
を用いたが、シーク板は高透磁率材料であれば良く、材
料には制限されない。また、ヨーク板の形状および構造
も基板上で平行磁場を生じさせるものであれば良く９本
実施例に制限されない。工業上有益な発明である。
を用いたが、シーク板は高透磁率材料であれば良く、材
料には制限されない。また、ヨーク板の形状および構造
も基板上で平行磁場を生じさせるものであれば良く９本
実施例に制限されない。工業上有益な発明である。
第１図は典型的な垂直ヘッドの一例である。
第２図は本発明の一実施例であり、（ａ）は正面図。
（ｂ）は断面図、（Ｃ）は上部ヨーク板を通る磁力線を
示ループを測定して得られたグラフの一例である。 １：主磁極 ２：補助磁極コア ３：コイル ４：ペースフィルム ５：Ｗｉ性層 ６：基板ホルダー ７二基板即ちヘッド支持台 ８：ヨーク板９：磁石 １
０：磁力線 １１：基板上の磁力線の方向 １２：基板上の磁力線方
向に垂直な方向 特許出願人 日電アネルバ株式会社 ＦＩＧ、３ ７− 手続補正書ｃ方式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特許願 第１６９０１７号２、発明の名称 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ト曽ヨウト ７チユクシヨツヤ 住 所 東京都府中市四谷５−８−１ ４、補正命令の日付 昭和５９年１月１１日５、補正に
より増加する発明の数 ０ ６、補正の対家 文を挿入する。
示ループを測定して得られたグラフの一例である。 １：主磁極 ２：補助磁極コア ３：コイル ４：ペースフィルム ５：Ｗｉ性層 ６：基板ホルダー ７二基板即ちヘッド支持台 ８：ヨーク板９：磁石 １
０：磁力線 １１：基板上の磁力線の方向 １２：基板上の磁力線方
向に垂直な方向 特許出願人 日電アネルバ株式会社 ＦＩＧ、３ ７− 手続補正書ｃ方式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特許願 第１６９０１７号２、発明の名称 垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ト曽ヨウト ７チユクシヨツヤ 住 所 東京都府中市四谷５−８−１ ４、補正命令の日付 昭和５９年１月１１日５、補正に
より増加する発明の数 ０ ６、補正の対家 文を挿入する。
Claims (2)
- （１）スパッタ法、蒸着法、メッキ法等を用いて垂直磁
気記録用ヘッドの主磁極をへ、ド支持台表面に薄膜状に
作成するとき、該ヘッド支持台表面に一定方向に平行な
磁界が形成されるように、核ヘッド支持台表面と高透磁
率材料のヨーク板と磁石の組合せからなる磁気回路を配
置することにより。 該主磁極の磁気異方性の向きを一定方向に制御すること
を特徴と量る垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法。 - （２）スパッタリングを用いて作成することを特徴とす
る第１項記載の垂直磁気記録ヘッド主磁極の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901783A JPS6061906A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16901783A JPS6061906A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6061906A true JPS6061906A (ja) | 1985-04-09 |
| JPH0330967B2 JPH0330967B2 (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=15878784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16901783A Granted JPS6061906A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 垂直磁気記録ヘツド主磁極の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6061906A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62122208A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-03 | Hitachi Ltd | 薄膜製造装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16901783A patent/JPS6061906A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62122208A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-03 | Hitachi Ltd | 薄膜製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0330967B2 (ja) | 1991-05-01 |
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