JPS6065765A - 立方晶炭化けい素粉末の焼結法 - Google Patents
立方晶炭化けい素粉末の焼結法Info
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- JPS6065765A JPS6065765A JP58174680A JP17468083A JPS6065765A JP S6065765 A JPS6065765 A JP S6065765A JP 58174680 A JP58174680 A JP 58174680A JP 17468083 A JP17468083 A JP 17468083A JP S6065765 A JPS6065765 A JP S6065765A
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- 238000005245 sintering Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は立方晶炭化けい素(以下β−3i(Eと記載す
る)粉末の焼結法に関する。
る)粉末の焼結法に関する。
炭化けい素糸焼結体は硬度と高温強度が大きいことから
耐摩耗、耐熱材料として広く利用されている。炭化けい
素は大別してα、βの2つの結晶形のものがあるが、本
発明はβ−8iO粉末の焼結法に関する。β−3iO粉
末の焼結法としては、従来、この粉末に硼素及び炭素を
一定量混合し、真空中、COガス雰囲気中もしくは不活
性ガス雰囲気中で焼成する方法が知られている。
耐摩耗、耐熱材料として広く利用されている。炭化けい
素は大別してα、βの2つの結晶形のものがあるが、本
発明はβ−8iO粉末の焼結法に関する。β−3iO粉
末の焼結法としては、従来、この粉末に硼素及び炭素を
一定量混合し、真空中、COガス雰囲気中もしくは不活
性ガス雰囲気中で焼成する方法が知られている。
β−3iO粉末の焼結において、そのち密化の困難な点
は、焼結の終期に粒成長が生じ、例えば粒径100μm
以上の粒子が多量に生成し、高ち密化し難いことである
。硼素は焼結体のち密化に有効に作用するが、同時に焼
結終期の粒成長を促進する作用を持っている。また炭素
はβ−8iG粉末中に含まれている不純物の5in2(
焼結を阻害する)を除去する作用をするが、脱酸に必要
な量を超えると有害であるとされていた。
は、焼結の終期に粒成長が生じ、例えば粒径100μm
以上の粒子が多量に生成し、高ち密化し難いことである
。硼素は焼結体のち密化に有効に作用するが、同時に焼
結終期の粒成長を促進する作用を持っている。また炭素
はβ−8iG粉末中に含まれている不純物の5in2(
焼結を阻害する)を除去する作用をするが、脱酸に必要
な量を超えると有害であるとされていた。
従って、β−8iO粉末に混合する硼素及び炭素の量は
或範囲内において使用されていた。例えば、硼素0.5
〜5.0重量%、炭素1.5〜5.0重量%(特公昭5
8−17146号)、硼素0.3〜3重量%、炭素0.
1〜1.0重量%(特公昭57−32035号)、用い
られている。
或範囲内において使用されていた。例えば、硼素0.5
〜5.0重量%、炭素1.5〜5.0重量%(特公昭5
8−17146号)、硼素0.3〜3重量%、炭素0.
1〜1.0重量%(特公昭57−32035号)、用い
られている。
このように、硼素は0.3重量%以上を使用し、炭素は
必要以上には加えないとされた。
必要以上には加えないとされた。
しかし、これらの方法では未だ満足すべき高密度の焼結
体は得られない欠点があった。
体は得られない欠点があった。
従来、特定方法で製造したβ−3ift粉末に、炭素及
び硼素をそれぞれO11〜5重量%混合して焼成する方
法が提案されている(特公昭55−46996号)。こ
の方法では硼素の使用量を0.1重量%まで可、能とし
ているが、その実施例ではすべて1.0本発明の目的は
これらの従来法の欠点をなくし、少量の硼素の使用で特
別な製法によらないβ−8iO粉末でも高密度のβ−8
i(3粉末の焼結体を製造し得る焼結法を提供するにあ
る。
び硼素をそれぞれO11〜5重量%混合して焼成する方
法が提案されている(特公昭55−46996号)。こ
の方法では硼素の使用量を0.1重量%まで可、能とし
ているが、その実施例ではすべて1.0本発明の目的は
これらの従来法の欠点をなくし、少量の硼素の使用で特
別な製法によらないβ−8iO粉末でも高密度のβ−8
i(3粉末の焼結体を製造し得る焼結法を提供するにあ
る。
本発明者らは、β−8iO粉末の焼結における反応機構
及び条件について詳細に検討した結果、(1) β−8
iO粒子の粒界エネルギーは、炭素物質(他の無機物質
でもよい)を粒子間に介在させると低下し、この介在に
よって焼結を促進し粒成長を抑制し得られること。
及び条件について詳細に検討した結果、(1) β−8
iO粒子の粒界エネルギーは、炭素物質(他の無機物質
でもよい)を粒子間に介在させると低下し、この介在に
よって焼結を促進し粒成長を抑制し得られること。
【ト) β−8iOに随伴する5102は1000℃以
上で混合した炭素と 5in2+ O= SiO+ 00 (1)壕だけ SiO+ 30 = SiO+ 200 (2)の反応
によってCOガスを発生ずる。このCOは混合したBと
反応し くjQ+13=BO+G (3) この反応によりBOガスを生成し、Bを消耗する。従っ
て、焼結前にBを消耗することなく5in2を除去すれ
ばBの使用量を少なくなし得る。それには焼結前に10
−1〜10−8気圧の低真空下で1100〜1500℃
に加熱することが必要である。すなわち、10〜10
気圧1100〜1500℃で(1) 、 (2)の反応
がおこり、発生したCOガスは硼素と反応せず県外に放
出され、反応(3)は生じないので硼素の消耗がない。
上で混合した炭素と 5in2+ O= SiO+ 00 (1)壕だけ SiO+ 30 = SiO+ 200 (2)の反応
によってCOガスを発生ずる。このCOは混合したBと
反応し くjQ+13=BO+G (3) この反応によりBOガスを生成し、Bを消耗する。従っ
て、焼結前にBを消耗することなく5in2を除去すれ
ばBの使用量を少なくなし得る。それには焼結前に10
−1〜10−8気圧の低真空下で1100〜1500℃
に加熱することが必要である。すなわち、10〜10
気圧1100〜1500℃で(1) 、 (2)の反応
がおこり、発生したCOガスは硼素と反応せず県外に放
出され、反応(3)は生じないので硼素の消耗がない。
(5)硼素の混合量は図−2に示すように、前記510
2の除去を行わないと、密度を高めるには0.4重量%
と多量の硼素を必要とし、それでも焼結体の密度は3.
Off/am2以下のものしか得られない。
2の除去を行わないと、密度を高めるには0.4重量%
と多量の硼素を必要とし、それでも焼結体の密度は3.
Off/am2以下のものしか得られない。
これに対し、5102の除去の前処理を行うと、0.1
〜0.3重量%でよく、得られる焼結体の密度は3.1
82/crIL3までKも達し得られること。
〜0.3重量%でよく、得られる焼結体の密度は3.1
82/crIL3までKも達し得られること。
なお、硼素量をそれより多くすると焼結終期に粒成長を
促し密度を低下させる。
促し密度を低下させる。
(4)炭素の添加量は図−1に示すように、炭素源の種
類によって多少相違するが、1重量%を超え、3重量%
以下(炭素は5in2の除去で1部消費される)である
ことが好ましく、1重量%以下では粒子間に介在させる
相の厚みが不十分でち密化が困難となシ、3重量%を超
えると過剰となシち密化を阻害すること。
類によって多少相違するが、1重量%を超え、3重量%
以下(炭素は5in2の除去で1部消費される)である
ことが好ましく、1重量%以下では粒子間に介在させる
相の厚みが不十分でち密化が困難となシ、3重量%を超
えると過剰となシち密化を阻害すること。
以上の知見に基いて本発明を完成したものである。
本発明の要旨は、立方晶炭化けい素粉末に1重R%を超
え3重量%以下の炭素及び0.10〜0.3重量%のほ
う素を含ませた混合物を成形し、この成形物を10””
〜10−51:)圧力下テ1100〜15o。
え3重量%以下の炭素及び0.10〜0.3重量%のほ
う素を含ませた混合物を成形し、この成形物を10””
〜10−51:)圧力下テ1100〜15o。
℃に加熱し、生成したCOガスを排気除去する前処理を
施した後、真空中または化学的に不活性な雰囲気中で1
900〜2200℃で焼成することを特徴とする立方晶
炭化けい素粉末の焼結法にある。
施した後、真空中または化学的に不活性な雰囲気中で1
900〜2200℃で焼成することを特徴とする立方晶
炭化けい素粉末の焼結法にある。
従来、β−8iO粉末の焼結前に、この粉末に随伴され
ている5i02を除去することがよいことは知られてい
る。(特開昭57−166369号、特開昭57−16
6372号) これらの方法はいずれも製水表面を活性化1丸冬ために
、還元性ガス(H2,00)の減圧雰囲勧で処理をして 5in2+ H2= SiO+ H2O5in2+ 0
0 = SiO+Co2の反応によp 5in2を除去
している。還元ガスを用いない場合は10−4〜10−
7気圧という高真空べし の反応をうながしている。
ている5i02を除去することがよいことは知られてい
る。(特開昭57−166369号、特開昭57−16
6372号) これらの方法はいずれも製水表面を活性化1丸冬ために
、還元性ガス(H2,00)の減圧雰囲勧で処理をして 5in2+ H2= SiO+ H2O5in2+ 0
0 = SiO+Co2の反応によp 5in2を除去
している。還元ガスを用いない場合は10−4〜10−
7気圧という高真空べし の反応をうながしている。
以上の方法は、還元性ガスを使用する方法は危険であり
、操作も面倒であるばかりでなく、還元性ガスを必要と
する。また高真空雰囲気の場合は通常の焼結炉で真空を
10−4〜10−7気圧に保つのは一般に高級な排気系
を必要とする。
、操作も面倒であるばかりでなく、還元性ガスを必要と
する。また高真空雰囲気の場合は通常の焼結炉で真空を
10−4〜10−7気圧に保つのは一般に高級な排気系
を必要とする。
これに対し、本発明の方法は10〜10 のガスを必要
とせず、且つt簡単な排気装置で審勇し得られる。発生
したGOは1500℃以下の温fτ裏空で直ちに排気す
るので、硼素と反応しなく、消耗することがない。
とせず、且つt簡単な排気装置で審勇し得られる。発生
したGOは1500℃以下の温fτ裏空で直ちに排気す
るので、硼素と反応しなく、消耗することがない。
加熱温度は1100℃よシ低いとSiO□の分解が起シ
難く、1500℃を起えるとSiOの分解が生じ焼結を
阻害するので加熱温度は1100〜1500℃の範囲で
あることが必要である。また真空度は^0−1よシ大き
いとCOガスへの分解排気がおそく□なシ、また10−
5よシ低くなると、加熱によシ5i(3の分解を起こす
ので、10〜10−3の真空度であることが必要である
。
難く、1500℃を起えるとSiOの分解が生じ焼結を
阻害するので加熱温度は1100〜1500℃の範囲で
あることが必要である。また真空度は^0−1よシ大き
いとCOガスへの分解排気がおそく□なシ、また10−
5よシ低くなると、加熱によシ5i(3の分解を起こす
ので、10〜10−3の真空度であることが必要である
。
本発明の方法におけるβ−8iG粉末への炭素の添加法
としては、重分予重合物、例えば、ピッチタール、フラ
ン樹脂、フェノール樹脂、あるいはポリイミド系または
ポリアクリロニトリル系樹脂原料をアセトン、ベンゼン
、アルコール等の溶剤粉末表面に炭素を形成させること
によって含有させる。
としては、重分予重合物、例えば、ピッチタール、フラ
ン樹脂、フェノール樹脂、あるいはポリイミド系または
ポリアクリロニトリル系樹脂原料をアセトン、ベンゼン
、アルコール等の溶剤粉末表面に炭素を形成させること
によって含有させる。
炭素添加量と得られる焼結体の密度の関係は図−1に示
すように、1重量%を超え3重量%(5in2の除去の
ため消費される)以下であることが好ましいことは前記
した通りである。
すように、1重量%を超え3重量%(5in2の除去の
ため消費される)以下であることが好ましいことは前記
した通りである。
硼素の添加量は、図−2に示すように、本発明における
真空前処理を行わない場合(1曲線)は硼素が消耗する
ため、密度を高めるためには0.4態量%と多量に必要
とするが、高密度のものは得られないが、真空前処理を
行うと(曲線2)硼素添加量は0.10−0.3重量%
であることが好ましい。
真空前処理を行わない場合(1曲線)は硼素が消耗する
ため、密度を高めるためには0.4態量%と多量に必要
とするが、高密度のものは得られないが、真空前処理を
行うと(曲線2)硼素添加量は0.10−0.3重量%
であることが好ましい。
さらにほう素添加量と粒成長の関係であるが、図−3に
ほう素添加量と密度9粒成長の関係(焼成温度2050
C)を示した。図中の黒丸は粒成長。
ほう素添加量と密度9粒成長の関係(焼成温度2050
C)を示した。図中の黒丸は粒成長。
白丸は粒成長のないもので、数字は密度である。
図・よりiう素の最適添加量は0.1 i員%以上0.
3重量%未満であることがわかる。すなわち、はう素が
0.3%以上では粒成長が生じ、0.10%未満ではち
密化が不十分である。
3重量%未満であることがわかる。すなわち、はう素が
0.3%以上では粒成長が生じ、0.10%未満ではち
密化が不十分である。
β−8iC粉末に前記量の炭素と硼素とを含ませたもの
を成形し、成形物を10−1〜1o−3の圧力下で11
00〜1500 ℃に加熱処理する。
を成形し、成形物を10−1〜1o−3の圧力下で11
00〜1500 ℃に加熱処理する。
得られた成形物を例えばアルゴンガス等の化学的に不活
性な雰囲気中で1900〜22oo℃で焼成する。19
00 ℃よシ低い温度では焼結が不十分で密度の高いも
のが得られず、2200 ’Cを超える温度は焼結に必
要でなく、経済的に不利である。
性な雰囲気中で1900〜22oo℃で焼成する。19
00 ℃よシ低い温度では焼結が不十分で密度の高いも
のが得られず、2200 ’Cを超える温度は焼結に必
要でなく、経済的に不利である。
以下実施例を挙げて本発明の特長を明らかにする。
実施例1
下表1に示すβ−8iO粉末を使用した。使用したβ−
8iO粉末は5i02と炭素を反応して作られたもので
ある。
8iO粉末は5i02と炭素を反応して作られたもので
ある。
表1 用いたβ−8iO粉末
真 比 重 3.19〜3.22 タ/α3結 晶 形
立方晶(3G) 平均粒径 0.25〜0.28 μm 1μm以下の粒 95〜98 % 比表面積 15.1〜18.7 m2/r不純物量 A
t O,03〜0.06%Fe O,03〜0.07
# 5in2 0.22〜0.33// C0834〜0.47// 炭素源としてフェノール樹脂を用いた。フェノール樹脂
をアセトンに溶解し、この溶液で残留炭素として2重量
1%になる量をβ−3iO粉末に付着させ、真空乾燥器
中で約100℃で24時間保ち十分乾燥し、アルゴンガ
ス雰囲気の炉中で400〜550℃になるまで毎分3℃
で昇温し、β−8iO粉末の表面に炭素を均一に形成さ
せた。これにほう素を0.2重量%添加し、十分に混合
し、ラバープレスで理論密度の約60%に成形した。
立方晶(3G) 平均粒径 0.25〜0.28 μm 1μm以下の粒 95〜98 % 比表面積 15.1〜18.7 m2/r不純物量 A
t O,03〜0.06%Fe O,03〜0.07
# 5in2 0.22〜0.33// C0834〜0.47// 炭素源としてフェノール樹脂を用いた。フェノール樹脂
をアセトンに溶解し、この溶液で残留炭素として2重量
1%になる量をβ−3iO粉末に付着させ、真空乾燥器
中で約100℃で24時間保ち十分乾燥し、アルゴンガ
ス雰囲気の炉中で400〜550℃になるまで毎分3℃
で昇温し、β−8iO粉末の表面に炭素を均一に形成さ
せた。これにほう素を0.2重量%添加し、十分に混合
し、ラバープレスで理論密度の約60%に成形した。
この成形物を1400℃に加熱して10 に丸ヤ笛f/
32100℃で15分間焼成した。
32100℃で15分間焼成した。
得られた焼結体は約3〜10μm程度の粒子から成り異
常な粒成長は認められず、密度も3.08f/儂’ (
理論密度の96%)に達し、高密な焼結体が得られた。
常な粒成長は認められず、密度も3.08f/儂’ (
理論密度の96%)に達し、高密な焼結体が得られた。
焼結体の特性を表2に、組織の83M写真を図4に示す
。図(a)は破面図(b)はエツチング面を示す。
。図(a)は破面図(b)はエツチング面を示す。
表2 β−8iO焼結体の特性
C添加量 2重量%
f3〃0.2//
密度 3.15 f/儒3
粒径 3〜10μm
強度 室温 600 MPa
1500℃ 650 MPa
牝較例1
実施例1の方法で成形物の真空加熱の前処理を哲わずほ
か同様な方法で焼結した。得られた焼結一体は下記のも
のであった。
か同様な方法で焼結した。得られた焼結一体は下記のも
のであった。
密度 240 f/♂
強度 室温 370 MPa
1500℃410 MPa
以上のように、本発明の方法によると、従来の方法にお
ける少ないほう素の使用量で、炭化けい素の製法に余シ
左右されることなく、高密度の焼結体が容易に得られる
優れた効果を奏し得られる。
ける少ないほう素の使用量で、炭化けい素の製法に余シ
左右されることなく、高密度の焼結体が容易に得られる
優れた効果を奏し得られる。
図−1は炭素添加量と得られる焼結体の密度との関係図
1図−2はほう素添加量と得られる焼結体の密度との関
係図で 1曲線;真空加熱の予備処理を行なった場合、2曲線:
真空加熱の予備処理を行なわなかった場合 を示す。図−3はほう素添加量と粒成長の関係。 図−4は本発明焼結体の83M写真で(a)は破断面。
1図−2はほう素添加量と得られる焼結体の密度との関
係図で 1曲線;真空加熱の予備処理を行なった場合、2曲線:
真空加熱の予備処理を行なわなかった場合 を示す。図−3はほう素添加量と粒成長の関係。 図−4は本発明焼結体の83M写真で(a)は破断面。
Claims (1)
- 立方晶炭化けい素粉末に1重量%を超え3重量%以下の
炭素及び0.10〜0.3重量%のほう素を含ませた混
合物を成形し、この成形物を10−1〜化けい素粉末の
焼結法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58174680A JPS6065765A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 立方晶炭化けい素粉末の焼結法 |
| US06/583,236 US4579704A (en) | 1983-04-14 | 1984-02-24 | Process for sintering cubic system silicon carbide powder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58174680A JPS6065765A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 立方晶炭化けい素粉末の焼結法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6065765A true JPS6065765A (ja) | 1985-04-15 |
| JPS613303B2 JPS613303B2 (ja) | 1986-01-31 |
Family
ID=15982812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58174680A Granted JPS6065765A (ja) | 1983-04-14 | 1983-09-21 | 立方晶炭化けい素粉末の焼結法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6065765A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6256371A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-03-12 | 株式会社東芝 | 炭化ケイ素焼結体の製造方法 |
| JPS62288168A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-15 | 株式会社ブリヂストン | 立方晶炭化珪素焼結体の製造方法 |
| JPS6360158A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | 炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6360157A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | β形炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6414175A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Toshiba Corp | Production of silicon carbide ceramic |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5546996A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-02 | Pentel Kk | Pencil |
| JPS55116664A (en) * | 1979-02-27 | 1980-09-08 | Tokyo Shibaura Electric Co | Manufacture of silicon carbide ceramics |
| US4295890A (en) * | 1975-12-03 | 1981-10-20 | Ppg Industries, Inc. | Submicron beta silicon carbide powder and sintered articles of high density prepared therefrom |
| JPS56169181A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-25 | Ibigawa Electric Ind Co Ltd | Manufacture of high strength silicon carbide sintered body |
-
1983
- 1983-09-21 JP JP58174680A patent/JPS6065765A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4295890A (en) * | 1975-12-03 | 1981-10-20 | Ppg Industries, Inc. | Submicron beta silicon carbide powder and sintered articles of high density prepared therefrom |
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| JPS56169181A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-25 | Ibigawa Electric Ind Co Ltd | Manufacture of high strength silicon carbide sintered body |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS6360158A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | 炭化けい素焼結体の製造方法 |
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| JPS6414175A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Toshiba Corp | Production of silicon carbide ceramic |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS613303B2 (ja) | 1986-01-31 |
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