JPS59195585A - 立方晶炭化ケイ素粉末の焼結法 - Google Patents
立方晶炭化ケイ素粉末の焼結法Info
- Publication number
- JPS59195585A JPS59195585A JP58066176A JP6617683A JPS59195585A JP S59195585 A JPS59195585 A JP S59195585A JP 58066176 A JP58066176 A JP 58066176A JP 6617683 A JP6617683 A JP 6617683A JP S59195585 A JPS59195585 A JP S59195585A
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- Japan
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- boron
- amount
- carbon
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は立方晶炭化けい素(以下β−3iOと記ル(す
る)粉末の焼結法に関する。
る)粉末の焼結法に関する。
炭化けい素糸焼結体は硬度と高温強度が大きいことから
、耐摩耗、耐熱材料に広く利用されている。炭化けい素
は大別してα、βの2つの結晶形のものがあるが、本発
明はβ−8iCの焼結法に関する。
、耐摩耗、耐熱材料に広く利用されている。炭化けい素
は大別してα、βの2つの結晶形のものがあるが、本発
明はβ−8iCの焼結法に関する。
β−8iCの焼結洗上して、従来β−3iC粉末に炭素
を0.1〜1.0重量%とほう素量3〜3 m!、’、
fit%を混合し、その混合物を不活性雰囲気下で、
1900〜2100℃で焼成する方法が知られている。
を0.1〜1.0重量%とほう素量3〜3 m!、’、
fit%を混合し、その混合物を不活性雰囲気下で、
1900〜2100℃で焼成する方法が知られている。
(特公昭57−32035号公報)。β−3iCi粉末
のち密化の困難な点は、ち密化の終期に粒成長が生ずる
ことである。はう素はこの焼結のち密化に必要であるが
、同時に焼結終期の粒成長を促進する。前記方法におい
てはほう素足が0.3〜31量%と多いので、ち密化の
終期に粒径100μm以上の粒子が夕景に生成し、高強
度の焼結体を得にくい欠点がある。
のち密化の困難な点は、ち密化の終期に粒成長が生ずる
ことである。はう素はこの焼結のち密化に必要であるが
、同時に焼結終期の粒成長を促進する。前記方法におい
てはほう素足が0.3〜31量%と多いので、ち密化の
終期に粒径100μm以上の粒子が夕景に生成し、高強
度の焼結体を得にくい欠点がある。
本発明はこの欠点を改善し、粒成長のない高密度の焼結
体を容易に得られるβ−3iO粉末の焼結法を提供する
にある。
体を容易に得られるβ−3iO粉末の焼結法を提供する
にある。
本発明者らは前記目的を達成ずべく、鋭意研究の結果、
β−8iO粒子の粒界エネルギーを他の無定形物質を介
在させることによって低下させると、焼結が駆動され粒
成長が抑制されることを知見した。すなわち、粒界に第
2相を介在させることによって、はう素の添加量を減ら
し得て焼結終期の粒成長が抑制される。粒界に介在させ
る無定形物質としては、無りa酸化物のガラスでもよい
が、高温物性の劣化を招かないためには無定形炭素が優
れていることを知見した。
β−8iO粒子の粒界エネルギーを他の無定形物質を介
在させることによって低下させると、焼結が駆動され粒
成長が抑制されることを知見した。すなわち、粒界に第
2相を介在させることによって、はう素の添加量を減ら
し得て焼結終期の粒成長が抑制される。粒界に介在させ
る無定形物質としては、無りa酸化物のガラスでもよい
が、高温物性の劣化を招かないためには無定形炭素が優
れていることを知見した。
寸た前記特公昭57−32035号においては、炭素は
SiOの脱酸に必要な量を超える過剰の炭素は有害であ
るとされているが、はう素の景を少なくして、炭素量を
多くし、前記の粒界相の厚みを粒界エネルギーを紛和す
るに十分な厚さとすると高密の焼結体が得られる。
SiOの脱酸に必要な量を超える過剰の炭素は有害であ
るとされているが、はう素の景を少なくして、炭素量を
多くし、前記の粒界相の厚みを粒界エネルギーを紛和す
るに十分な厚さとすると高密の焼結体が得られる。
図1に種々の炭素を添加して焼成したSic焼結体の密
度と炭素添加量を示した。この場合のホウ素添加量は0
.2重量%と0.6重量%である。図1から炭素の最適
添加量は11量%を超え31量%以下であることがわか
る。
度と炭素添加量を示した。この場合のホウ素添加量は0
.2重量%と0.6重量%である。図1から炭素の最適
添加量は11量%を超え31量%以下であることがわか
る。
炭素量が1uIi景%以下になるとβ−8iO粒子の粒
界に介在させる第2相の厚みが不十分でち密化が困難と
なる。址だ3重量%を超えると過剰となシち密化を阻害
する。
界に介在させる第2相の厚みが不十分でち密化が困難と
なる。址だ3重量%を超えると過剰となシち密化を阻害
する。
炭素を添加する方法としては、高分子重合物、例えば、
ピッチタール、フラン樹脂、フェノール樹脂、あるいは
ポリイミド系まだはポリアクリロニトリル系樹脂原料を
アセトン、ベンゼン、アルコール等の溶剤に溶かし、こ
れをβ−8i(E粉末表面上に均一に付着させて乾燥し
、化学的に不活性雰囲気中で例えば400〜550℃ま
で毎時30℃で昇温じて、SiO粉末表面に炭素を形成
させることによって含有させる。
ピッチタール、フラン樹脂、フェノール樹脂、あるいは
ポリイミド系まだはポリアクリロニトリル系樹脂原料を
アセトン、ベンゼン、アルコール等の溶剤に溶かし、こ
れをβ−8i(E粉末表面上に均一に付着させて乾燥し
、化学的に不活性雰囲気中で例えば400〜550℃ま
で毎時30℃で昇温じて、SiO粉末表面に炭素を形成
させることによって含有させる。
はう素の添加に関し、図2にほう素添加量と密度2粒成
長の関係(焼成温度2050℃)を示した。
長の関係(焼成温度2050℃)を示した。
図中の黒丸は粒成長、白丸は粒成長のないもので、数字
は密度である。図よりほう素の最適添加量は0.15重
量%以上0.3%未満であることがわかる。
は密度である。図よりほう素の最適添加量は0.15重
量%以上0.3%未満であることがわかる。
すなわち、はう素が0.3重量%以上では粒成長が生じ
、0.15重量%未満ではち密化が不十分であシ、高密
な焼結体が得られない。はう素の添加はほう素金属、炭
化はう素あるいは加熱によってほう素となる化合物で加
える。
、0.15重量%未満ではち密化が不十分であシ、高密
な焼結体が得られない。はう素の添加はほう素金属、炭
化はう素あるいは加熱によってほう素となる化合物で加
える。
炭素とほう素を混合したβ−5iC粉末を成形し、該成
形体を化学的不活性な雰囲気中、例えばアルゴンガス中
で1900〜2200 ℃で焼成する。1900℃より
低い温度では焼結が不充分で密度゛が高いも。
形体を化学的不活性な雰囲気中、例えばアルゴンガス中
で1900〜2200 ℃で焼成する。1900℃より
低い温度では焼結が不充分で密度゛が高いも。
のが得られない。また22oo℃を超える焼結は必要で
なく、経済的に損失となる。
なく、経済的に損失となる。
以上の知見に基づいて本発明を完成した。
その要旨は、立方晶炭化ケイ素粉末に、炭素を1重量%
を超え、3重量%以下および、はう素または加熱により
ほう素を生成する化合物をほう素として、0815重址
%以上0.3重景%未満の量で含有させ、これを化学的
に不活性な雰囲気中で1900〜22oo℃で焼成し、
粒成長が生じなく、かつち密な焼結体を得る立方晶炭化
けい素粉末の焼結法である。
を超え、3重量%以下および、はう素または加熱により
ほう素を生成する化合物をほう素として、0815重址
%以上0.3重景%未満の量で含有させ、これを化学的
に不活性な雰囲気中で1900〜22oo℃で焼成し、
粒成長が生じなく、かつち密な焼結体を得る立方晶炭化
けい素粉末の焼結法である。
実施例1
下表1に示すβ−5iC粉末を使用した。
表 1 用いたβ−8iG粉末
真 比 重 3.19〜3.22 f/
♂結 晶 形 立方晶(3o) 平均粒径 0.25〜0.28 μm 1μm以下の粒 95〜98% 比表面積 15.1〜18.7 m2/y不純物量 A
I 0.03〜0.06%Fe O,03〜0
.07 tpSin2 0.22〜()、33 #
炭素源としてフラン樹脂を用いた。フラン樹脂をアセト
ンに溶解し、と(〜溶液で残留炭素として2聾量%にな
る量をβ−3iG粉末に付着させ、真空乾燥器中で約1
oo℃で24時間保ち十分乾燥し、アルゴンガス雰囲気
の炉中で400〜550℃になるまで毎分3℃で昇温し
、β−8iO粉末の表(2)に炭素を均一に形成させた
。これにほう素を0.2.7量%添加し、十分に混合し
、ラバープレスで理論密度の約60%に成形した。この
成形物を−気圧のアルゴンガス雰囲気中で約2100℃
15分間焼成した。得られた焼結体は約3〜10μm程
度の粒子から成り異常な粒成長は認められず、密度も3
.085’/σ5(理論密度の96%)に達し、高密な
焼結体が得られた。焼結体の特性を表2に、組織のSE
N写真を図3に示す。図(a)は破面図(b)はエツチ
ング面を示す。
♂結 晶 形 立方晶(3o) 平均粒径 0.25〜0.28 μm 1μm以下の粒 95〜98% 比表面積 15.1〜18.7 m2/y不純物量 A
I 0.03〜0.06%Fe O,03〜0
.07 tpSin2 0.22〜()、33 #
炭素源としてフラン樹脂を用いた。フラン樹脂をアセト
ンに溶解し、と(〜溶液で残留炭素として2聾量%にな
る量をβ−3iG粉末に付着させ、真空乾燥器中で約1
oo℃で24時間保ち十分乾燥し、アルゴンガス雰囲気
の炉中で400〜550℃になるまで毎分3℃で昇温し
、β−8iO粉末の表(2)に炭素を均一に形成させた
。これにほう素を0.2.7量%添加し、十分に混合し
、ラバープレスで理論密度の約60%に成形した。この
成形物を−気圧のアルゴンガス雰囲気中で約2100℃
15分間焼成した。得られた焼結体は約3〜10μm程
度の粒子から成り異常な粒成長は認められず、密度も3
.085’/σ5(理論密度の96%)に達し、高密な
焼結体が得られた。焼結体の特性を表2に、組織のSE
N写真を図3に示す。図(a)は破面図(b)はエツチ
ング面を示す。
表 2 β−8iC焼結体の特性
C添加量 2重量%
B // 0.21F
密度 3.08 f/crn’
粒径 3〜10μm
強度 室温 450 MPa1500℃51
0 apa 比較例1 実施例1と同様な方法で比較試料A、Bを作製した。1
、試料Aではほう素添加量が過剰の0.4重量%であシ
、また試料Bでは炭素が0゜25M量%で本発明の最適
量の4以下である。得られた焼結体は下表3および図4
のSEN写真に示すものであった0 表3 比較例 C添加量*)1.7% 0.5%B tt
O,4% 0.25%密 度 3.16
r/cwL’ 2.34組 織 粒成
長 ち密化不十分水)試料Bでは炭素源はフェノー
ル樹脂である。
0 apa 比較例1 実施例1と同様な方法で比較試料A、Bを作製した。1
、試料Aではほう素添加量が過剰の0.4重量%であシ
、また試料Bでは炭素が0゜25M量%で本発明の最適
量の4以下である。得られた焼結体は下表3および図4
のSEN写真に示すものであった0 表3 比較例 C添加量*)1.7% 0.5%B tt
O,4% 0.25%密 度 3.16
r/cwL’ 2.34組 織 粒成
長 ち密化不十分水)試料Bでは炭素源はフェノー
ル樹脂である。
試料Aではほう素を過剰に加えたために、ち密化は達せ
られたものの、異常な粒成長が著しく発生した(図4参
照)。このため試料Aは高性能の材料として期待されな
い。一方試料Bは炭素添加量が不足しているために、ち
密化が十分でなく気孔が多く、脆弱な材料である。また
反対に、はう素添加量が不足(0,15%未満)する場
合と炭素添加量が過剰(3%以上)の場合も、ち密化が
十分に進行しないのは図12図2から自明である。
られたものの、異常な粒成長が著しく発生した(図4参
照)。このため試料Aは高性能の材料として期待されな
い。一方試料Bは炭素添加量が不足しているために、ち
密化が十分でなく気孔が多く、脆弱な材料である。また
反対に、はう素添加量が不足(0,15%未満)する場
合と炭素添加量が過剰(3%以上)の場合も、ち密化が
十分に進行しないのは図12図2から自明である。
以上のごと〈実施例と比較例を対照すれば明らかなよう
に、本発明によればほう素置が少(itで高密度が得ら
れ、また炭素を粒界第2相にするに十分な量(1〜3%
)を加えることによって、従来よりも粒成長が少なくか
つ高密度なものが得られる。
に、本発明によればほう素置が少(itで高密度が得ら
れ、また炭素を粒界第2相にするに十分な量(1〜3%
)を加えることによって、従来よりも粒成長が少なくか
つ高密度なものが得られる。
図1は種々の炭素をβ−3iCに添加して焼結したβ−
3iC焼結体の密度と炭素含有量の関係図、 一つ 図2はほう素の添加量と焼結終期の粒成長の関係 と図
、図3は実施例1による焼結体のSEW写真で、 −特
許出願人 科学技術庁無機材質研究所し1) 中
廣 吉 図 1 0 1 2 3 4
51f2 うし尤ミ訣Vロー写[((σ−に−・のl凶 3 側 −7 −) (b) πアr 手続前止31)(方式) %式% 458年特許願第6617’6け 名称 する者 −との関係 特許出願人 後藤 優。 令のロイ」1、:・2. ・・: 158年′7月2
61−l ヌ・]象 の血り 1図1III(第41A)の浄、1シ(内容に
技史/rし):→ 手続補正書(自発) 昭和58年 9月/41日 ・7、\′ q!f、?’l−庁長官 殿 ′−
′工 事件の表示 昭和58年特許願第66176号 2 発明の名称 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (自 発) 5 補正の対象 図面 6 補正の内容 図2を別紙の通り訂正する
3iC焼結体の密度と炭素含有量の関係図、 一つ 図2はほう素の添加量と焼結終期の粒成長の関係 と図
、図3は実施例1による焼結体のSEW写真で、 −特
許出願人 科学技術庁無機材質研究所し1) 中
廣 吉 図 1 0 1 2 3 4
51f2 うし尤ミ訣Vロー写[((σ−に−・のl凶 3 側 −7 −) (b) πアr 手続前止31)(方式) %式% 458年特許願第6617’6け 名称 する者 −との関係 特許出願人 後藤 優。 令のロイ」1、:・2. ・・: 158年′7月2
61−l ヌ・]象 の血り 1図1III(第41A)の浄、1シ(内容に
技史/rし):→ 手続補正書(自発) 昭和58年 9月/41日 ・7、\′ q!f、?’l−庁長官 殿 ′−
′工 事件の表示 昭和58年特許願第66176号 2 発明の名称 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (自 発) 5 補正の対象 図面 6 補正の内容 図2を別紙の通り訂正する
Claims (1)
- 立方晶炭化ケイ素粉末に、炭素を1重量%を超え、3%
以下およびほう禦または加熱によりほう素を生成するほ
う素化合物をほう素として0.15重量%以上0.3重
f1%未満の量で含有させ、これを化学的不活性な雰囲
気中で1900〜22oo℃で鳴成することを特徴とす
る立方晶炭化ケイ素粉末づ焼結法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58066176A JPS59195585A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 立方晶炭化ケイ素粉末の焼結法 |
| US06/583,236 US4579704A (en) | 1983-04-14 | 1984-02-24 | Process for sintering cubic system silicon carbide powder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58066176A JPS59195585A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 立方晶炭化ケイ素粉末の焼結法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59195585A true JPS59195585A (ja) | 1984-11-06 |
Family
ID=13308268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58066176A Pending JPS59195585A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 立方晶炭化ケイ素粉末の焼結法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59195585A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6360158A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | 炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6360157A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | β形炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6414175A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Toshiba Corp | Production of silicon carbide ceramic |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP58066176A patent/JPS59195585A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6360158A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | 炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6360157A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | イビデン株式会社 | β形炭化けい素焼結体の製造方法 |
| JPS6414175A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-18 | Toshiba Corp | Production of silicon carbide ceramic |
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