JPS606765A - 修正液 - Google Patents
修正液Info
- Publication number
- JPS606765A JPS606765A JP11669383A JP11669383A JPS606765A JP S606765 A JPS606765 A JP S606765A JP 11669383 A JP11669383 A JP 11669383A JP 11669383 A JP11669383 A JP 11669383A JP S606765 A JPS606765 A JP S606765A
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- Japan
- Prior art keywords
- vinyl acetate
- parts
- correction
- retouched
- correction fluid
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、万年筆、水性サインペンなどの水性インキの
筆跡1通常のボールペンの筆跡、タイプライタ−の印字
などの隈蔽修正をするだめの修正液に係シ、更には修正
塗膜の乾燥が良好であシ、柔軟性を有する修正塗膜が得
られるようなした修正液に関するものである。
筆跡1通常のボールペンの筆跡、タイプライタ−の印字
などの隈蔽修正をするだめの修正液に係シ、更には修正
塗膜の乾燥が良好であシ、柔軟性を有する修正塗膜が得
られるようなした修正液に関するものである。
従来、水性インキの墓跡、ボールペンの筆跡。
タイプライタ−の印字の隠蔽修正用修正液としては、ア
クリル系樹脂を使用したものが知られているが、修正塗
膜は均一になるものの、塗膜が硬く、修正した用紙を修
正個所から折り曲げだシすると折り目に沿って塗膜にク
ラックが発生し、塗膜が剥離するという問題があり、こ
の問題を解決するために可塑剤を添加していた。
クリル系樹脂を使用したものが知られているが、修正塗
膜は均一になるものの、塗膜が硬く、修正した用紙を修
正個所から折り曲げだシすると折り目に沿って塗膜にク
ラックが発生し、塗膜が剥離するという問題があり、こ
の問題を解決するために可塑剤を添加していた。
然し乍ら、可塑剤を添加した修正液は、その修正した個
所に水性インキによシ再策記した場合、水性インキがは
じかれてし1い、再筆記した筆跡が不明瞭となってし甘
うという新た庁問題が生じていた。
所に水性インキによシ再策記した場合、水性インキがは
じかれてし1い、再筆記した筆跡が不明瞭となってし甘
うという新た庁問題が生じていた。
更には従来の溶剤は、トルエン、キルンなどの芳香族系
炭化水素が使用されており、塗膜の乾燥が遅く、印字ス
ピードが“要求されるタイプライタ−の印字の修正には
好寸゛シ〈ないものであった。
炭化水素が使用されており、塗膜の乾燥が遅く、印字ス
ピードが“要求されるタイプライタ−の印字の修正には
好寸゛シ〈ないものであった。
そこで、木発明者等は、修正塗膜の乾燥が良好であり、
可塑剤を使用しなくても柔軟性を有する修正塗膜が得ら
れる修正液を得るために修正液の必須成分である樹脂、
溶剤について種々検討の結果8遂に本発明を完成したも
のである。
可塑剤を使用しなくても柔軟性を有する修正塗膜が得ら
れる修正液を得るために修正液の必須成分である樹脂、
溶剤について種々検討の結果8遂に本発明を完成したも
のである。
即ち1本発明は、酢酸ビニルの共重合比率40〜9Qi
景係であるエチレン酢酸ビニル共重合樹脂と、塩化炭化
水素系溶剤である1、Lj−トリクロルエタンと、チタ
ン白から少りくともなる修正液を要旨とするものである
。
景係であるエチレン酢酸ビニル共重合樹脂と、塩化炭化
水素系溶剤である1、Lj−トリクロルエタンと、チタ
ン白から少りくともなる修正液を要旨とするものである
。
以下1本発明の詳細な説明する。
本発明で特に重要なことは、エチレン酢酸ビニル共重合
樹脂(以下E V Aと略す)のうち。
樹脂(以下E V Aと略す)のうち。
酢酸ビニル(以下V A Cと略す)共重合比率40〜
90重量係のE V Aを使用することにある。
90重量係のE V Aを使用することにある。
E V Aは、エチレンと酢酸ビニルとの共重合によっ
て得られ、エチレン鎖中に酢酸ビニルがランダムに共重
合した分子構造を有する熱可塑性樹脂であるが、共重合
比率によってエチレンリッチと酢酸ビニルリッチに大別
され、前者は高圧法ポリエチレンのプロセスで製造され
、後者は浴液重合、乳化重合によって製造される。
て得られ、エチレン鎖中に酢酸ビニルがランダムに共重
合した分子構造を有する熱可塑性樹脂であるが、共重合
比率によってエチレンリッチと酢酸ビニルリッチに大別
され、前者は高圧法ポリエチレンのプロセスで製造され
、後者は浴液重合、乳化重合によって製造される。
いて種々検削し、’1.Li−)リクロルエタンに可溶
で修正液の樹脂として好適なものがVAcが40〜90
重量係であることを見い出した。
で修正液の樹脂として好適なものがVAcが40〜90
重量係であることを見い出した。
E 11 Aは一般K V A c共重合比率が増大す
るに従って溶剤に対する溶解性も増太し、又、溶解粘度
が低下する傾向にある。
るに従って溶剤に対する溶解性も増太し、又、溶解粘度
が低下する傾向にある。
又、VAcが25重量係以下のEVAI−j。
i、i、+−トリクロルエタンにゲル化もしくは白ン蜀
する傾向にある。
する傾向にある。
特に、修正液の塗布性能は修正液の粘度が低い方が良好
であるところから、修IF液の樹脂として”l’ A
cが4Qi量係以上のE V Aが使用でき、又+ V
A、 cが9o重量%以上、ではゴム的性質を損なう
。
であるところから、修IF液の樹脂として”l’ A
cが4Qi量係以上のE V Aが使用でき、又+ V
A、 cが9o重量%以上、ではゴム的性質を損なう
。
上述のV A cの範囲内のE VA fi 、結晶化
度約5〜0%、伸度約400〜2500荒二次転移点約
10〜25℃の物性値を示し、ゴム的々性状を示すため
、修正塗膜の屈曲性にも優れているものと思われる。
度約5〜0%、伸度約400〜2500荒二次転移点約
10〜25℃の物性値を示し、ゴム的々性状を示すため
、修正塗膜の屈曲性にも優れているものと思われる。
このE V Aの具体例を挙げると、EIIVAX40
〔デュポン社製〕、ウルトラセンU E76(](東洋
曹達工業■製)、スミチーl−R,B 11(住友化学
工業++2i製)、ノアレックスIt−B T(。
〔デュポン社製〕、ウルトラセンU E76(](東洋
曹達工業■製)、スミチーl−R,B 11(住友化学
工業++2i製)、ノアレックスIt−B T(。
同Iん−OH、同R−D l−1、同IL −F H(
日本合成化学工業(株制)などがある。
日本合成化学工業(株制)などがある。
とのE vAの使用量は、修正液全量に対して5〜15
重量係が好ましい。
重量係が好ましい。
上述のm v Aの溶剤としては、溶解能が大きく、低
沸点であシ、製造時、使用時の安全性を考慮して毒性が
少なく、不燃性なものとして塩化炭化水素系溶剤である
i、i、1.−1・lJジクロルタンが使用される。
沸点であシ、製造時、使用時の安全性を考慮して毒性が
少なく、不燃性なものとして塩化炭化水素系溶剤である
i、i、1.−1・lJジクロルタンが使用される。
チタン白fd 、修正する筆跡、印字を隠藪するために
使用するものであって、ルチル型、アナターゼ型のいず
れも使用可能であり、iJ販のものとして1−11′、
クイトーンS R,−1、同R−650゜同1t−sL
、同几−610,同A−110,同A−−150.同几
−5N(以上、堺化学工業(株制)、タイ々−り+(、
−580、同+1.−550゜同R,−930.同A−
100,同A−220(以上15原産業(作製)、クロ
ツクKI′L−310゜同K R−580、同K R,
−480、同KA、−40゜同KA−20,同KA−3
0(以」ニチタン工業■製〕などが挙げられ、その使用
量は顔料容積濃度CP、V、、C,)が50%以上が好
寸しい。
使用するものであって、ルチル型、アナターゼ型のいず
れも使用可能であり、iJ販のものとして1−11′、
クイトーンS R,−1、同R−650゜同1t−sL
、同几−610,同A−110,同A−−150.同几
−5N(以上、堺化学工業(株制)、タイ々−り+(、
−580、同+1.−550゜同R,−930.同A−
100,同A−220(以上15原産業(作製)、クロ
ツクKI′L−310゜同K R−580、同K R,
−480、同KA、−40゜同KA−20,同KA−3
0(以」ニチタン工業■製〕などが挙げられ、その使用
量は顔料容積濃度CP、V、、C,)が50%以上が好
寸しい。
尚、上記せる成分の他に塗膜強度を調節するためにE
V Aと相溶するスチレン樹脂、アクリル系樹脂、クマ
ロン樹脂、ロシア及び変性ロジンの誘導体、ポリテルペ
ノ系樹脂、芳香族系石油樹脂、フェノール系樹脂を2紙
などの筆記面と色調を合わせるために着色顔料を、隠蔽
力を向上させるために7リカ、炭酸力ル、ノウムなどの
体質顔料を、顔料の分散安定性のために分散剤や沈降防
止剤を、粘度調整の為に増粘剤を。
V Aと相溶するスチレン樹脂、アクリル系樹脂、クマ
ロン樹脂、ロシア及び変性ロジンの誘導体、ポリテルペ
ノ系樹脂、芳香族系石油樹脂、フェノール系樹脂を2紙
などの筆記面と色調を合わせるために着色顔料を、隠蔽
力を向上させるために7リカ、炭酸力ル、ノウムなどの
体質顔料を、顔料の分散安定性のために分散剤や沈降防
止剤を、粘度調整の為に増粘剤を。
塗布性能を良好にならしめるためにフロー向上剤やレベ
リング剤金適宜少量添加することができる。
リング剤金適宜少量添加することができる。
本発明の修正液は、上記各成分をボールミル。
アトライター、ボンドグラインダーなどの分散機を使用
して分散処理することによって得られる。
して分散処理することによって得られる。
このようにして得られた本発明の修正液の修正塗膜は柔
軟性を有し、乾燥も良好であり、水性インキで再筆記可
能なものである。
軟性を有し、乾燥も良好であり、水性インキで再筆記可
能なものである。
以下、実施例に従い1本発明を更に詳細に説明するが、
実施例中「部」とあるのは「重原部」を示す。
実施例中「部」とあるのは「重原部」を示す。
実施例1
スミテート几B−11’10部
(住友化学工業(株制、VAc:41重i%E’tlA
)1 、1 、1−1リクロルエタン 120部クロり
スKR−38065部 (チタン工業fm製、ルチル型チタン)ミズカ/ルp−
8011,5部 (水沢化学工業(株制、微細/リカ〕 バイフェロノクス+318 0.1音賃(バイエルジャ
パン(作製、鉄黒) ベトロジン≠120 3音b (三片石油化学工業(作製、芳香族系石油樹脂)」ユ記
成分のうち、スミテートl丸13−11. ベトロジン
+120を4.1.1−1・1ノクロルエクンに溶解さ
せた後、他の成分を加えて1月j−/レミルにて24時
間分散処理して修正液f?iだ。
)1 、1 、1−1リクロルエタン 120部クロり
スKR−38065部 (チタン工業fm製、ルチル型チタン)ミズカ/ルp−
8011,5部 (水沢化学工業(株制、微細/リカ〕 バイフェロノクス+318 0.1音賃(バイエルジャ
パン(作製、鉄黒) ベトロジン≠120 3音b (三片石油化学工業(作製、芳香族系石油樹脂)」ユ記
成分のうち、スミテートl丸13−11. ベトロジン
+120を4.1.1−1・1ノクロルエクンに溶解さ
せた後、他の成分を加えて1月j−/レミルにて24時
間分散処理して修正液f?iだ。
実施例2
エバフレックス150 B音IS
(三片ポリケミカル■製 yAC:33重量係■弓VA
)i 、 1.1−1−リクロルエタン 120音bク
ロノスK A −2060音1; (チタン工業(作製、チタ/白) ミズカンルP −8012音じ MA−1000,04音b (三菱化成工業■製、カーボンブラック)上記各成分を
実施例1と同様の方法でダル刊!シて修正液を得た。
)i 、 1.1−1−リクロルエタン 120音bク
ロノスK A −2060音1; (チタン工業(作製、チタ/白) ミズカンルP −8012音じ MA−1000,04音b (三菱化成工業■製、カーボンブラック)上記各成分を
実施例1と同様の方法でダル刊!シて修正液を得た。
実施例6
ソアレツクス几−1) I−1j 0部(日本合成化学
工業■製、VA、c : 67重量%II; V A
)1 、1 、1−1−リクロルエタン 115部クロ
りスKR−3806s部 ミズカンルp−8[]112 部イフェロツクス≠318 0.2部 ホモゲノールL−180,5部 (花王石鹸(開裂1分散剤〕 上記各成分を実施例1と同様な方法で処理して修正液を
得た。
工業■製、VA、c : 67重量%II; V A
)1 、1 、1−1−リクロルエタン 115部クロ
りスKR−3806s部 ミズカンルp−8[]112 部イフェロツクス≠318 0.2部 ホモゲノールL−180,5部 (花王石鹸(開裂1分散剤〕 上記各成分を実施例1と同様な方法で処理して修正液を
得た。
比較例1
エバフレックス1420 7部
(三片ポリケミカル■製、’1’Ac : 18重量%
EVA)ベトロジン≠120 2部 りロノスKR−38070部 1、i、i−トリクロルエタン 120部バイクェロソ
クス寺318 0部部 ミズカシルp−8012部 上記各成分のうち、エバフレックス420とベトロジン
41=120を4.1.4− トリクロルエタンに俗解
させたが次第に増粘し、ゲル化を起こし分散処理できず
修正液は得られなかった。
EVA)ベトロジン≠120 2部 りロノスKR−38070部 1、i、i−トリクロルエタン 120部バイクェロソ
クス寺318 0部部 ミズカシルp−8012部 上記各成分のうち、エバフレックス420とベトロジン
41=120を4.1.4− トリクロルエタンに俗解
させたが次第に増粘し、ゲル化を起こし分散処理できず
修正液は得られなかった。
比較例2
ザクノール5N−0810部
(電気化学工業(株制+ Vk c : 100重量%
ポリ酢酸ビニル)クロメノK It −38070部 1.1.1−)リクロルエタン 120部MA−400
0,1部 ミズカ/ル P−8012部 ホモゲノールL−181部 上記各成分を実施例1と同様な方法で修正液を得た。
ポリ酢酸ビニル)クロメノK It −38070部 1.1.1−)リクロルエタン 120部MA−400
0,1部 ミズカ/ル P−8012部 ホモゲノールL−181部 上記各成分を実施例1と同様な方法で修正液を得た。
実施例1〜6及び比較例2よシ得・られた修正液の隠蔽
率、塗膜乾燥性、再筆記性塗膜の屈曲性の試験を行ない
その結果を表−1に示す。
率、塗膜乾燥性、再筆記性塗膜の屈曲性の試験を行ない
その結果を表−1に示す。
表−1
※1 隠蔽率
隠蔽率測定紙(J I S K 5400ンに3ミルの
アプリケーターで修正液を塗布乾燥後。
アプリケーターで修正液を塗布乾燥後。
45.0 拡散反射率を測定し算出した。
※2 塗膜乾燥性
タイプ用紙に3ミルのアプリケ−クーで修正液を塗布し
、タイプライタ−によシ再タイプ可能な迄の時間を測定
した。
、タイプライタ−によシ再タイプ可能な迄の時間を測定
した。
※3 再筆記性
修正個所の塗膜に水性インキ(べんてる1NIJ製、ボ
ールペんてるB76)で筆記し、筆跡がはじいて筆跡が
判読し難いものを「×」。
ールペんてるB76)で筆記し、筆跡がはじいて筆跡が
判読し難いものを「×」。
筆跡は判読可能であるが筆跡にはじきのあるものを「△
」、筆跡のはじきが々く筆跡が明瞭に判読できるものを
「○」とした。
」、筆跡のはじきが々く筆跡が明瞭に判読できるものを
「○」とした。
※4 塗膜の屈曲性
タイプ用紙に6ミルのアプリケーターで修正液を塗布乾
燥後、タイプ用紙を折り曲げ。
燥後、タイプ用紙を折り曲げ。
折り曲げ部の塗膜の剥離状態を観察し、塗膜にクラック
が発生し剥離したものを「×」。
が発生し剥離したものを「×」。
剥離はしないがクラックが発生したものを「△」、クラ
ックも発生せず剥離し々かったものを「○」とした。
ックも発生せず剥離し々かったものを「○」とした。
以上のように大発明の修正液は、修正塗膜の乾燥が良好
であシ、又、修正個所を水性インキにより再鎖記可能で
あるとともに用紙め折シ111げによる修正塗膜の剥離
を極力防止したもの・である。
であシ、又、修正個所を水性インキにより再鎖記可能で
あるとともに用紙め折シ111げによる修正塗膜の剥離
を極力防止したもの・である。
特許出願人 ぺんてる株式会社
手続を市正書(自発)
昭和59年 7月11日
昭和58年特許願第116693号
2、発明の名称
修正液
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
チ、つオウン ニホノバン フ1ミツヨウ〒103 住
所 東京都中央区日本橋小絹町7番2号と補正する。
所 東京都中央区日本橋小絹町7番2号と補正する。
Claims (1)
- 酢酸ビニルの共重合比率40〜90重量係であるエチレ
ン酢酸ビニル共重合樹脂と、塩化炭化水素系溶剤である
1、1.1.−)リクロルエタンと、チタン白から少な
くともなる修正液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11669383A JPS606765A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11669383A JPS606765A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS606765A true JPS606765A (ja) | 1985-01-14 |
Family
ID=14693513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11669383A Pending JPS606765A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 修正液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606765A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57205465A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-16 | Naigai Ink Seizo Kk | Concealing ink |
| JPS5849761A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-24 | Pentel Kk | 修正液 |
-
1983
- 1983-06-27 JP JP11669383A patent/JPS606765A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57205465A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-16 | Naigai Ink Seizo Kk | Concealing ink |
| JPS5849761A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-24 | Pentel Kk | 修正液 |
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