JPS6069815A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体に係り、はぼ垂直方向に磁化容易
軸を有する媒体層と、前記媒体層の下部にほぼ水平方向
に磁化容易軸をイＪ−する窒化コバルト膜とを有する構
造にすることによって、長波長でも短波長でも記録再生
が良好に行なえ、かつ例えばメチル時における耐スチル
性が、極めて良好な磁気記録媒体を提供することを目的
とする。

例えば、オーディオ用又に［ビデオ川の記録内生装置あ
るいはコンピュータ等の記憶装置においては、ベース上
に磁性層塗膜の設けられた磁気記録媒体が用いられてお
シ、リング型磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体の面内（
水平）方向に磁化を向けるといったモードの面内（水平
）磁気記録力式％式％ ところが、この水平磁化による記録の場合、記録信号が
短波長になるにつれ、すなわち記録密度を増加してゆく
につれ、媒体内の反磁界が増し、残留磁化の減衰と回転
とを生じ、−ｒＩ］生出力出力しく減少することよシ、
水平磁気記録方式では高密痩化に対応できない。

そして、最近に至り、上記のような媒体面内に記録する
水平磁気記録方式にかわる新しい記録方式として垂直磁
気記録方式が注目を集めている。

この垂直磁気記録方式とは、磁化容易軸が膜面法線方向
である勝気記録媒体を用い、膜面に対して垂直方向に記
録磁化モードをｌ’ｆ７Ｊ成するものであって、記録信
号が短波長になるにつれ、媒体内の反磁界が小さくなる
ので、高密度化に適しているのである。

しかし、この垂直磁気記録方式は、記録媒体の膜面垂直
方向に磁化を向けるものである為、高密度記録には適し
ているものの、低密度領域、すなわち記録信号が長波長
の領域では滅Ｊｉθ作用が大きく、低密度記録には適し
てなく、記録信号に大きな制約を受け、又、記録に用い
た磁気ヘッドと同じ磁気ヘッドで「１１生しようとする
と、再生出力が小さいといった欠点がある。

そこで、このような欠点を解決する為に、例えばほぼ垂
直方向に異方性をもつ媒体層とその下部に設けられたほ
ぼ水平方向に異方性をもつ媒体層とを廂する複合型磁気
記録媒体が提案（特開昭５８−６８２３４号）されるに
至っているが、この提案による磁気記録媒体でも４１〜
足できるものではない。

本発明は上記様々の問題点を完全に解決したものであシ
、以下その実施例について説明する。

本発明は、上記特開昭５８　６８２３４号提案の複合型
磁気記録媒体と、例えばほぼ垂直方向に（１子？化容易
軸を有する媒体層とほぼ水平方向に磁化容易軸を有する
媒体層とを設ける点においては同様な発想による。すな
わち、高密度領域で一一垂直）′ｊ一方性をもつ媒体（
垂直方向に磁化容易軸を有する媒体）を利用し、低密度
領域では面内異方性をもつ媒体（水平方向に磁化容易１
ｌｌｌｌｌをイ〕゛する媒体）を利用するようにしたの
である。

そして、このような水平方向に磁化容易：ＩＮ＋をイＪ
−する媒体としては、従来の磁気記録媒体に用いられて
いる、例えばγ−ＦＣ２０９、ＣｒＯ□等の酸化物磁性
粉又は１＋″ｅ、　Ｃｏ等の金属磁性粉を用いることも
可能であるが、本発明では、特に、高密度領域では磁化
容易軸が水平方向を向いた際に、減磁が大きく、マクロ
的には磁化零の状態となる窒化コ・くルトを用いるよう
にしたのであり、そして、このような窒化コバルト膜を
水平方向に磁化容易軸を有する媒体層として用いている
と、垂直方向に磁化容易軸を有する媒体層として、例え
ばＣｏ−ＣｒといったＣＯ系媒体が用いられると、この
両媒体層の密着性が著しく向上し、例えばスチル時の耐
スチル性が著しく良いといった特長をももたらずように
なる。

又、窒化コバルト膜は、例えばスパッタリング、蒸着又
はイオンブレーティングといったＰ　Ｖ　Ｄ法によって
簡単に成膜でき、しかもこのような手段による非塗布型
（磁性粉とバインダー等を含む磁性塗料をベース上に塗
布するといった塗布型でないもの）の窒化コバルト膜は
、塗布型の場合の磁性膜が、塗布後に磁性膜に残留して
いる揮発分が減圧下で急激に気化し、これによって表面
が粗くなっていることよシ、次工程で形成する垂直方向
に磁化容易軸を有する媒体層に悪影響を及ぼすといった
ようなことがなく、すなわち例えばＩ）　Ｖ　Ｉ）法に
よる窒化コバルト脱衣ｉ／、＋ｉの平？：″ｒ性にもす
ぐれ、垂直方向に磁化容易軸をイイする媒体層の下地膜
としては極めて望ましいものである。

そして、イオンブレーティングやスパッタリングや蒸着
といった手段で水平方向に磁化容易＋１１１１＋を有す
る窒化コバルト膜が作成されると、垂直方向に磁化容易
１１１１＋を有する、例えばＣｏ　−Ｃ＋膜も同様な手
段で構成され得るので、同一チャンノ・−内で作成でき
、従って生産工程が単純化でき、コスｊ・面でも好寸し
い結果となる。

又、この望化コバルト膜は、その抗磁力が２００〜１０
００エルステソトのものとしておくことが９ｆ丼しい。

これは、抗イミ力が犬きずきたり又（１７１、小さすぎ
たりすると、複合型にした効果がとしく小さくなるから
である。

又、この窒化コバルトｉ摸ば、その厚みが約００５〜０
．７μＩｎ　、望ましくは０．１−０．３　ｔｔ…のも
のが１１己録イ≦号の広い範囲にわたって好ましいもの
となる。

次に、本発明の具体的実施例について述べる。

実施例 例えば約７５μｍ厚のポリイミドベースフィルムが入れ
られ、かつ充分に脱ガスした真空チャン・く−内に、例
えば４：１の割合のアルコ゛ンと窒素との混合ガスを２
　×１Ｏ−２ｔｏｒｒまで満たす。

そして、コバルトターゲットのスパッタリングを行ない
、ポリイミドベースフィルム上に約０，１〜Ｑ、３７１
ｍ、例えば約０２μｍ厚の窒化コ・（ルト膜を形成する
。

次に、真空チャ／・く−内のガスを排気して脱ガスした
後、ガス圧２　Ｘ　１Ｏ−２１ｏｒｒと々るようアルコ
゛ンガス’；ｘ４人し、コ・くルｌ−−クロム（クロム
２０ｗｔ％）のスパッタリングを行ない、上記０２μＩ
ｌ］厚の水平方向に磁化容易軸を有する窒化コノ＜ルト
膜上に垂直方向に磁化容易軸を有するコノ＜ルトークロ
ム合金磁性膜をその厚みが約０１〜１μｍ１例えば０５
μｍ厚形成する。

伺、必要に応じて、例えばカール現象を防止する為に、
ポリイミドベースフィルムの両面に窒化コバルト膜とコ
バルト−クロム合金膜とを形成する。

その後、窒化コバルト膜及びコ・くルトークロム合金膜
の形成されたフィルムを、例えば３００℃、１時間の条
件で熱処理し、スパッタリングで形成された非晶質で磁
化の小さな窒化コバルト膜を、磁化が約１００００ガウ
ス、抗磁力が約６００エルステツド程度の結晶化膜とす
る。

上記のようにして得られた磁気ディスクに対して、キャ
ップ長０．３μｌηのボタン型リングヘッドを用いて記
録再生を行ない、その内生出力の周波数特性を示すと第
１図のようになる。尚、同図中、１で示す曲線は上記実
施例のもの、２で示す曲線はコバルト−クロム合金磁性
膜のみを設けたもの（上記実施例で窒化コ・ζル］・ｊ
漠を設けなかつ／こもの）、３で示す曲線は窒化コ・（
ル１・膜のみを設けたもの（上記実施例でコ・くル１・
−クロム合金磁性膜を設けなかったもの）の特性である
。

この結果、上記実施例のイ１存気テイスクは、低密度か
ら高密度にかけてその内生出力の大きなことが理解でき
る。

又、熱処理工程の条件を変えて窒化コバルト膜の抗磁力
の値が異なる磁気ディスクを作成し、これら磁気ディス
クの再生出力の周波数特性を示すど第２図のようになる
。同、同図中で示す数学は窒化コバルト膜の抗磁力（エ
ルステッド）の値である。

この結果、窒化コバルト膜の抗磁力が、１０００エルス
テツドを越えて太きすぎたり、２００工ルステツド未満
の小さすぎるものは、広い範囲にわたって再生出力の向
上が小さく、従って２００〜１０００エルステツドの範
囲内のものが好寸しいことが理解できる。

又、上記実施例の磁気ディスクに対して前述のボタン型
リングヘッドを用いて繰シ返し走行テストをすると、記
録密度が５０ＫＢｌ）Ｉでの再生出力を第３図において
実線で示す如く、１００００回以上の繰り返しによって
も再生出力の低下がなく耐久性に著しく富んでいること
がわかる。

比較例 上記実施例で述べた磁気ディスクの代シに、γ−Ｆｅ２
ｏ３磁性粉を含む磁性塗料を塗布して４＃Ｉ７成した塗
布型磁気ディスク上に、上記実施例と同様にしてコバル
ト−クロム合金全スパッタリングによって０．５μｍ厚
設けた磁気ディスクを作り、この磁気ディスクの再生出
力の特性を前記と同様にして調べると、各グラフ中一点
鎖線て示ずＪｊｆｌりであった。

伺、上記においては磁気記録媒体として磁気ディスクの
場合で述べているが、これは磁気テープ等の場合でも同
様である。

上述の如く、本発明に係る磁気記録媒体は、はぼ垂直方
向に磁化容易軸を有する媒体層と、前記媒体層の下部に
ほぼ水平方向に磁化容易軸を有する窒化コバルト膜とを
有するので、長波長でも短波長でもその記録再生特性が
良好であり、又、繰り返し走行テストを行なっても内生
出力の低下がほとんどなく、極めて優秀なものであると
いった特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は、本発明の磁気Ｒ（２録媒体の各特性
を示すグラフである。 特許出願人　日本ビクター株式会社−゛−１代　理　人
　宇　高　克　弓 手続補正書（自発ン 昭和５８年１２范ど臼 特許庁長官殿 １、事件の表示 ％頭昭５８−１７５１９６−号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 日本ビタター株式会社 ４、代理人 発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　はぼ垂直方向に磁化容易軸を有する媒体層と、前記
   媒体層の下部にほぼ水平方向に磁化容易軸を有する窒化
   コバルト膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 ■　特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体において
   、はぼ垂直方向に磁化容易軸を有する媒体層がコバルト
   系であるもの。 ■　特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気記録媒
   体において、はぼ垂直方向に磁化容易軸を有する媒体層
   が約０１〜１μｍ厚のもの。 ■　特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体において
   、窒化コバルト膜の抗磁力が約２００〜１０００エルス
   テツドであるもの。 ■　特許請求の範囲第１項又は第４項記載の磁気記録媒
   体において、窒化コバルト膜が約０．０５〜０７μｍ厚
   の′もの。