JPS6069853A - 磁気テ−プ走査装置用静止ドラム - Google Patents
磁気テ−プ走査装置用静止ドラムInfo
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- JPS6069853A JPS6069853A JP7740384A JP7740384A JPS6069853A JP S6069853 A JPS6069853 A JP S6069853A JP 7740384 A JP7740384 A JP 7740384A JP 7740384 A JP7740384 A JP 7740384A JP S6069853 A JPS6069853 A JP S6069853A
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- drum
- magnetic tape
- alloy
- magnetic
- crystal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は八〇、−3i系合金で作られた、表面状態の良
好tc #jJ摩耗性の浸れた磁気テープ案内用静止ド
ラムに関するものである。
好tc #jJ摩耗性の浸れた磁気テープ案内用静止ド
ラムに関するものである。
一般に、磁気テープ走査装置の案内ドラムはAflある
いはAQ金合金鋳造品で製作さIしている。
いはAQ金合金鋳造品で製作さIしている。
必要があればその表面はセラミックコーティングやアル
マイ1−コーティングあるいは各種メッキなどの表面処
理を施し、ずべり摩擦係数を小さくすると共に、接触面
においてテープに俗をつけること、あるいは静電気が帯
電することを防1にしている。しかしこのような表面処
理は耐摩耗性、すべり摩擦係数の点で十分ではなく、か
つ、研磨やラッピングなどの厄介な後加工を必要とする
問題がある。従って寸法精度が出にくく、仕上げまでに
工数がかかり大量生産には不向きであるなどの欠点があ
った。
マイ1−コーティングあるいは各種メッキなどの表面処
理を施し、ずべり摩擦係数を小さくすると共に、接触面
においてテープに俗をつけること、あるいは静電気が帯
電することを防1にしている。しかしこのような表面処
理は耐摩耗性、すべり摩擦係数の点で十分ではなく、か
つ、研磨やラッピングなどの厄介な後加工を必要とする
問題がある。従って寸法精度が出にくく、仕上げまでに
工数がかかり大量生産には不向きであるなどの欠点があ
った。
本発明の目的は、長時間にわたり良質な再生画面が得ら
れる磁気テープ案内用篩11ニドラ11を提供すること
にある。
れる磁気テープ案内用篩11ニドラ11を提供すること
にある。
V ”I’ Rの磁気ヘッド型磁気記録再生装置におけ
る磁気テープ走査装置は、次の(1)〜(4)の構成を
有する。
る磁気テープ走査装置は、次の(1)〜(4)の構成を
有する。
(1)円筒静止ドラムを含み、該ドラムの外周に形成さ
れた案内路の平滑面に沿って磁気テープを滑動案内する
ための案内手段と、 (2)該ドラムの円周から半径方向にわずかに突出し、
磁気テープとすべり接触しうる位置に設番づられた少な
くとも1つの磁気ヘッドを含む回転磁気ヘッド装置と、 (3)該磁気ヘッド装置と該案内ドラムを同心円的に支
持し、磁気ヘッド装置の下端と案内ドラムの」部端の間
に小さい間隙を形成することにより、該案内ドラ11と
は独立して回転するように支持する手段、及び (4)該支持手段を駆動する手段、 −例を第1図及び第2図に示す。シリンダー状の静止上
ドラムlと静止下ドラム2の間に、クリアランス(間隙
)4を保って回転盤3が挿入され′Cいる。回転盤3と
ドラムlと2はシャフト5で回軸に固定されており、上
ドラムlと下ドラム2はコネクター6とポル1−6′で
結合されている。
れた案内路の平滑面に沿って磁気テープを滑動案内する
ための案内手段と、 (2)該ドラムの円周から半径方向にわずかに突出し、
磁気テープとすべり接触しうる位置に設番づられた少な
くとも1つの磁気ヘッドを含む回転磁気ヘッド装置と、 (3)該磁気ヘッド装置と該案内ドラムを同心円的に支
持し、磁気ヘッド装置の下端と案内ドラムの」部端の間
に小さい間隙を形成することにより、該案内ドラ11と
は独立して回転するように支持する手段、及び (4)該支持手段を駆動する手段、 −例を第1図及び第2図に示す。シリンダー状の静止上
ドラムlと静止下ドラム2の間に、クリアランス(間隙
)4を保って回転盤3が挿入され′Cいる。回転盤3と
ドラムlと2はシャフト5で回軸に固定されており、上
ドラムlと下ドラム2はコネクター6とポル1−6′で
結合されている。
回転謡3はシャツI〜5に固定されており、ボールベア
リング11と回転摺動部により回転出来るようになって
いる。一方、ドラム1とドラム2は第2図に示すように
、ベース板18にポル1−10と補助ベース板17で固
定されている。回転v、3は1つもしくはそれ以上の磁
気ヘッド7で構成されており、磁気ヘッド7はドラム1
及びドラム2のテープガイド8と回転盤3の半径方向に
0,05〜0.3mmの範囲で突き出されている。ドラ
ム1とドラム2には磁気テープの適切なガイドをするた
めに、斜線状もしくは螺旋状のテープガイド8が切っで
ある。下ドラム2は第1図と第2図に示すように、スリ
ーブ9と一体となっており、このスリーブ9はアースの
ためにブツシュ13が取り付けられて、いる。プーリー
14はポルl−16−t’シャフト5に固定されており
、ベルl−1!5で駆動されプーリー14が回転するこ
とにより、シャフト5及び回転盤3が回転する4i’l
造となつ−Cいろ。
リング11と回転摺動部により回転出来るようになって
いる。一方、ドラム1とドラム2は第2図に示すように
、ベース板18にポル1−10と補助ベース板17で固
定されている。回転v、3は1つもしくはそれ以上の磁
気ヘッド7で構成されており、磁気ヘッド7はドラム1
及びドラム2のテープガイド8と回転盤3の半径方向に
0,05〜0.3mmの範囲で突き出されている。ドラ
ム1とドラム2には磁気テープの適切なガイドをするた
めに、斜線状もしくは螺旋状のテープガイド8が切っで
ある。下ドラム2は第1図と第2図に示すように、スリ
ーブ9と一体となっており、このスリーブ9はアースの
ためにブツシュ13が取り付けられて、いる。プーリー
14はポルl−16−t’シャフト5に固定されており
、ベルl−1!5で駆動されプーリー14が回転するこ
とにより、シャフト5及び回転盤3が回転する4i’l
造となつ−Cいろ。
もう一つの型式の磁気ヘッド型記録再生装圃は第3図に
示すように、」、ド′i1.z 20が回転し、トドラ
ム21が静止ドラムである。、故にこの型式では第1図
に示すような回転盤3は必要としない。
示すように、」、ド′i1.z 20が回転し、トドラ
ム21が静止ドラムである。、故にこの型式では第1図
に示すような回転盤3は必要としない。
この型式ではドラム20にテープガイドかられずかに突
き出た、一対の磁気ヘッド22が組合わされており、上
ドラム20はシャフト5に固定されている。この上ドラ
ム20は回転摺動部12とボールベアリング11により
回転可能となっており、第1図及び第2図に示すものと
同様な手段で回転するようになっている。
き出た、一対の磁気ヘッド22が組合わされており、上
ドラム20はシャフト5に固定されている。この上ドラ
ム20は回転摺動部12とボールベアリング11により
回転可能となっており、第1図及び第2図に示すものと
同様な手段で回転するようになっている。
本発明は上述したような装置において、静止ドラムに特
殊なAQ−8i系合金鍛造品を使用することを特徴とし
ている。このAQ−Si系合金鍛造品の組成は8〜15
重景%の5i−0,5〜4重景%のc u O、05〜
1.0重量%のMgを含有し、残部は実質的にAQから
成る。この合金を溶湯から急冷凝固してSi品を微細に
晶出させる。
殊なAQ−8i系合金鍛造品を使用することを特徴とし
ている。このAQ−Si系合金鍛造品の組成は8〜15
重景%の5i−0,5〜4重景%のc u O、05〜
1.0重量%のMgを含有し、残部は実質的にAQから
成る。この合金を溶湯から急冷凝固してSi品を微細に
晶出させる。
この冷却速度は速い程良いのであるが、望ましくは30
〜b するのが良い、鋳塊のままのSi晶は針状あるいはJ1
状であり、この状態では磁気テープ案内用静止ドラムと
しては好ましくない。この鋳塊を200°C〜融点以下
の温度領域に於いて、加工度30%以上の温間@活を施
した後に再び上記温度範囲で成形するか、あるいは鋳塊
を直径200℃〜融点以下の温度範囲で加工度30%以
上の成形時の外力により、St晶を機械的に微細分断し
て均一に分散させる。この場合、加工後の温度が再結晶
温度以上〜融点以下であるならば、外力で分断したSi
晶は球状化される。その分断球状化されたSi晶の平均
粒子径は1.7 μm以下となる。温間鍛造によって作
られた成形品は合金の特性を向上させるためにT4処理
(450〜520℃X 1h→急冷→約1週間以上放置
)、T6処理(450〜520℃Xlh→急冷→人工時
効;例えば150〜200℃X8h→空冷)あるいはT
5処理(温間成形後直ちに急冷→人工時効)等の熱処理
を施す。
〜b するのが良い、鋳塊のままのSi晶は針状あるいはJ1
状であり、この状態では磁気テープ案内用静止ドラムと
しては好ましくない。この鋳塊を200°C〜融点以下
の温度領域に於いて、加工度30%以上の温間@活を施
した後に再び上記温度範囲で成形するか、あるいは鋳塊
を直径200℃〜融点以下の温度範囲で加工度30%以
上の成形時の外力により、St晶を機械的に微細分断し
て均一に分散させる。この場合、加工後の温度が再結晶
温度以上〜融点以下であるならば、外力で分断したSi
晶は球状化される。その分断球状化されたSi晶の平均
粒子径は1.7 μm以下となる。温間鍛造によって作
られた成形品は合金の特性を向上させるためにT4処理
(450〜520℃X 1h→急冷→約1週間以上放置
)、T6処理(450〜520℃Xlh→急冷→人工時
効;例えば150〜200℃X8h→空冷)あるいはT
5処理(温間成形後直ちに急冷→人工時効)等の熱処理
を施す。
上述のようにして作られた成形品は機械加工によって静
止ドラムに仕上げられ、且つ所定の機械加工線が形成さ
れる。そして第1図、第2図及び第3図の磁気テープ案
内用静止ドラムに供される。
止ドラムに仕上げられ、且つ所定の機械加工線が形成さ
れる。そして第1図、第2図及び第3図の磁気テープ案
内用静止ドラムに供される。
実施例
第1表に示すAC−5A及びAC−8Bの組成をMFf
p後、鋳造法によってすべり摩擦試験片及び実機磁気y
−−プ案内ドラムを製造した。一方、第1表に示す組成
のAQ−3i系合金を溶解後、30〜b ビレットを作成し、450℃で40〜90%の塑性加工
を施した。その後各種の熱処理例えば450”C〜52
0℃xthの溶体化処理を行い、1週間以k h′l置
したもの及び170℃×8[l→徐冷の1+S効処理を
行った。また、温間@造後直ちに急冷させた熱処理も行
った。塑性加工後のSi晶の大きさは1.6μIn〜2
,8μInである。」二記の1?)(↑゛4より、4°
l\り摩擦試験)130及び実機磁気テープ案内I・ラ
ムを(幾械加工により作製した。
p後、鋳造法によってすべり摩擦試験片及び実機磁気y
−−プ案内ドラムを製造した。一方、第1表に示す組成
のAQ−3i系合金を溶解後、30〜b ビレットを作成し、450℃で40〜90%の塑性加工
を施した。その後各種の熱処理例えば450”C〜52
0℃xthの溶体化処理を行い、1週間以k h′l置
したもの及び170℃×8[l→徐冷の1+S効処理を
行った。また、温間@造後直ちに急冷させた熱処理も行
った。塑性加工後のSi晶の大きさは1.6μIn〜2
,8μInである。」二記の1?)(↑゛4より、4°
l\り摩擦試験)130及び実機磁気テープ案内I・ラ
ムを(幾械加工により作製した。
第4図は七l・、す1や擦係数の(1(す定力法を示し
たものであり、V ’rR用の磁気テープ(Cry、テ
ープ)31が荷v< 32とスプリングゲージ33にセ
ラ1−される。この時の磁気テープの角度θは90゜と
する。磁気アーープ3】はずべり摩擦係数をめるための
力F、及びスプリングゲージ33によって引張ら九、す
べり摩擦力F2が得られる。但し。
たものであり、V ’rR用の磁気テープ(Cry、テ
ープ)31が荷v< 32とスプリングゲージ33にセ
ラ1−される。この時の磁気テープの角度θは90゜と
する。磁気アーープ3】はずべり摩擦係数をめるための
力F、及びスプリングゲージ33によって引張ら九、す
べり摩擦力F2が得られる。但し。
この場合の荷重は10〜100gの範囲内である。
このような装置及び条件で行った試験結果より、すベリ
摩擦係数μは次式によってめることが出来る。
摩擦係数μは次式によってめることが出来る。
第5図は上式によりめた測定結果である。曲H,AはA
R−5i系合金のすべり摩擦係数であり、0.3以下の
値である。
R−5i系合金のすべり摩擦係数であり、0.3以下の
値である。
通?i(’ 、 V TRが正常運転状態で録画、再生
を行っている場合、本AQ−3i系合金はこの範囲です
ベリ摩擦係数が0,24〜0 、25と小さく、案内ド
ラムとして適している。曲に’A Dは表面にセラミッ
クコープ・rンクを施した場合のすべり摩擦係数であり
、本A<1−3i系合金目セラミックコーティングより
も非常に優れでいることがわかる。
を行っている場合、本AQ−3i系合金はこの範囲です
ベリ摩擦係数が0,24〜0 、25と小さく、案内ド
ラムとして適している。曲に’A Dは表面にセラミッ
クコープ・rンクを施した場合のすべり摩擦係数であり
、本A<1−3i系合金目セラミックコーティングより
も非常に優れでいることがわかる。
また、硬質クロムメッキを施した場合についても試験し
たが、セラミックコープよりも大きいすベリ摩擦係数で
ある。曲線BはA C−5A 、曲線CはハC: −8
B材の表面アラサ3〜4μmに機械仕)−げされている
場合のすべりBj’;:擦係数である。
たが、セラミックコープよりも大きいすベリ摩擦係数で
ある。曲線BはA C−5A 、曲線CはハC: −8
B材の表面アラサ3〜4μmに機械仕)−げされている
場合のすべりBj’;:擦係数である。
八G、5A及びΔC−8Bのすベリ摩擦係数は0、:)
’I=O,:’= 1 、30−40 g(1)荷重下
でもQ 、 2 b −−0、27とな−J−Cおり、
本AM−3i系j>金の力が侵Aシていることがわかる
。すべり摩擦係数が大きいぬ否には画面のヂラッキのm
c囚となる1噴向があり、このようにして測定したすべ
り摩擦係数は実機磁気ゲージ案内ドラムのすべり摩擦を
111呪し・でいるものであることを確認した。実願に
よ、3シば磁気テープ案内ドラムの摩擦係数は0.3以
1;、望ましくは0.28以下にすべきである。また、
0.3以下のすべり摩擦係数を得るためには、表面アラ
リ・が【・−6It mであり、望ましくは2へ・5μ
y+ Icギベさである。
’I=O,:’= 1 、30−40 g(1)荷重下
でもQ 、 2 b −−0、27とな−J−Cおり、
本AM−3i系j>金の力が侵Aシていることがわかる
。すべり摩擦係数が大きいぬ否には画面のヂラッキのm
c囚となる1噴向があり、このようにして測定したすべ
り摩擦係数は実機磁気ゲージ案内ドラムのすべり摩擦を
111呪し・でいるものであることを確認した。実願に
よ、3シば磁気テープ案内ドラムの摩擦係数は0.3以
1;、望ましくは0.28以下にすべきである。また、
0.3以下のすべり摩擦係数を得るためには、表面アラ
リ・が【・−6It mであり、望ましくは2へ・5μ
y+ Icギベさである。
第6図;ヒル第6図CはAQ−3,i系合金、AC−;
3Δ及びAC−8B材製の磁気テープ案内ドラム表面の
断面会顕微鏡により400倍で撮影したものであるが、
こAしらは全て表面アラIJ−3〜4/Z (01こ4
j2 i成力if −L (士りげさせているものであ
る。、第6図aは本A A −S i系合金、第6図1
)はAC−5A、第6図CはAC−8B材である。本A
l1−81系合金は小さなSi晶であるが、A C5A
HAC−8B材は大形のSi品であり、りb巣もすら
れる。また1表面状態を見ると八〇、 −S i系合金
は機械加工線の凹凸があるだけであるが、AC−5A及
びAC−88材は比較的大形のSi晶がむしり取られた
跡あるいは鋳巣による凹凸が見られる。
3Δ及びAC−8B材製の磁気テープ案内ドラム表面の
断面会顕微鏡により400倍で撮影したものであるが、
こAしらは全て表面アラIJ−3〜4/Z (01こ4
j2 i成力if −L (士りげさせているものであ
る。、第6図aは本A A −S i系合金、第6図1
)はAC−5A、第6図CはAC−8B材である。本A
l1−81系合金は小さなSi晶であるが、A C5A
HAC−8B材は大形のSi品であり、りb巣もすら
れる。また1表面状態を見ると八〇、 −S i系合金
は機械加工線の凹凸があるだけであるが、AC−5A及
びAC−88材は比較的大形のSi晶がむしり取られた
跡あるいは鋳巣による凹凸が見られる。
第7図a〜第7図Cは磁気テープ案内ドラムのテープガ
イド表面を電子顕微鏡で観察した結果であり、倍率は2
000倍である。第7図aは本発明のA Q −S i
系合金、第7図すはA C5A を第7図CはAC−8
b材の表面状態であり、これらは全て表面アラザ3〜4
μmnに機械加工体」―げされているものである。この
図からもわかるように本AQ−3i系合金の表面は機械
加:l−線が磁気テープの動く方向に対してほぼ連続的
であり、かつ、なめらかである。しかし、A C−5A
及びAC−8B材は表面にくぼみが兄らイシ、特にΔC
−813材は大きなくぼみがある1このくぼみは第6図
に示し・た凹凸を平面的に見たものであり、懐械加上の
際に比較的人形のSi品がむI−、り取ら2Iた跡、あ
るいけ新31!である。これらのくぼみは磁気テープを
傷つける原因どもなる。
イド表面を電子顕微鏡で観察した結果であり、倍率は2
000倍である。第7図aは本発明のA Q −S i
系合金、第7図すはA C5A を第7図CはAC−8
b材の表面状態であり、これらは全て表面アラザ3〜4
μmnに機械加工体」―げされているものである。この
図からもわかるように本AQ−3i系合金の表面は機械
加:l−線が磁気テープの動く方向に対してほぼ連続的
であり、かつ、なめらかである。しかし、A C−5A
及びAC−8B材は表面にくぼみが兄らイシ、特にΔC
−813材は大きなくぼみがある1このくぼみは第6図
に示し・た凹凸を平面的に見たものであり、懐械加上の
際に比較的人形のSi品がむI−、り取ら2Iた跡、あ
るいけ新31!である。これらのくぼみは磁気テープを
傷つける原因どもなる。
本発明のもう一一一)の東要な特徴は良々rな6j摩耗
(’lを有し7ていることである。
(’lを有し7ていることである。
第81PI r+−第8図Cは実際の磁気テープ案内ド
ラムを使ってGOO= 700 h r Gり ll!
続テ4−r ”T) t=摩耗JA’、fy’cH結黒
である。また、この試験に用いた磁≦・(テープはすべ
り摩擦試験に用いたものと同作のbのである。第8図a
は木i3明のAD−Si系台金、第815 bはAC−
5A、第81MI cはAC−813製ドラ11の試験
結果であり、これらの摩耗量はアラザのパ少で示してい
る。比I咬のために第8図a〜第81図Cの左側部分に
テスト前のアラザを示したが、こ汎らの曲線は7ラザ計
の記録図であり、′jコ際の表面(土第7図a〜第′7
図(:に示したようにくぼみがあることに注′flニジ
ておく必要がある。
ラムを使ってGOO= 700 h r Gり ll!
続テ4−r ”T) t=摩耗JA’、fy’cH結黒
である。また、この試験に用いた磁≦・(テープはすべ
り摩擦試験に用いたものと同作のbのである。第8図a
は木i3明のAD−Si系台金、第815 bはAC−
5A、第81MI cはAC−813製ドラ11の試験
結果であり、これらの摩耗量はアラザのパ少で示してい
る。比I咬のために第8図a〜第81図Cの左側部分に
テスト前のアラザを示したが、こ汎らの曲線は7ラザ計
の記録図であり、′jコ際の表面(土第7図a〜第′7
図(:に示したようにくぼみがあることに注′flニジ
ておく必要がある。
本発明のΔα−8i製ドラムの摩耗量は0.5μInで
あるが、AC5A及びAC−8B製ドラムは0.7−0
.9μmであり、本発明のA Q −S i 11ドラ
ムは長期間の使用においても所望の表面状態を保つこと
ができ、耐摩耗性が優れていることがわかる。更に3ε
明者らは第1表に示したようにAQ−8i系α金の組成
、81品の大きさ及び熱処理を変えたドラムについても
[ユ記試験を/ljコだ結果、Si晶が5μlτ1より
人きい場合に目テ・−7′ガイド表面を機械加工により
所望の表面状態にすることが困難であり、Si晶の人、
ささば5μIn以下とすべぎことンう1わかった。
あるが、AC5A及びAC−8B製ドラムは0.7−0
.9μmであり、本発明のA Q −S i 11ドラ
ムは長期間の使用においても所望の表面状態を保つこと
ができ、耐摩耗性が優れていることがわかる。更に3ε
明者らは第1表に示したようにAQ−8i系α金の組成
、81品の大きさ及び熱処理を変えたドラムについても
[ユ記試験を/ljコだ結果、Si晶が5μlτ1より
人きい場合に目テ・−7′ガイド表面を機械加工により
所望の表面状態にすることが困難であり、Si晶の人、
ささば5μIn以下とすべぎことンう1わかった。
第1表
処理条件
’I’4:500℃X ] h r→急冷→常温1週間
以上放置’1’5:470℃温間成形−→急冷−+l
70’CX8 h r時効処理’1.”G : 500
℃X1br−+急冷−)17.0″CX81+r時効処
理as casシ: tJ造のまま また、Si量が8重量%以下の場合にはドラムの摩耗量
が増加し、15重量%以上では塑性加工により分断して
分散させることができない一次Si晶が多く晶出するの
で、AC−5A及びAC−8B材のように機械加工の際
にくぼみができ、磁気テープを傷つける原因ともなる。
以上放置’1’5:470℃温間成形−→急冷−+l
70’CX8 h r時効処理’1.”G : 500
℃X1br−+急冷−)17.0″CX81+r時効処
理as casシ: tJ造のまま また、Si量が8重量%以下の場合にはドラムの摩耗量
が増加し、15重量%以上では塑性加工により分断して
分散させることができない一次Si晶が多く晶出するの
で、AC−5A及びAC−8B材のように機械加工の際
にくぼみができ、磁気テープを傷つける原因ともなる。
望ましくはAΩ−St共晶成分付近の12重量%程度が
よい。
よい。
更に、MgはStと結合して金属間化合物を形成し、基
地の析出強化作用をする。しかし、Mgは0.05重量
%以下の添加ではその効果が少なく、1.0重量%以上
の添加は靭性及び衝撃値が低下する傾向があり、温間鋳
造性が悪くなる。望ましくは0.3〜0.6重量%にす
べきである。また、CuはAQの基地に固溶してCu2
AQを形成し、熱処理による強化作用をするとともに、
波切1!IjI性あるいは耐摩耗性を向上させる。しか
し、Cuは0.5重量%以下では熱処理効果が少なく、
3重量%以上になると機械的性質の向上が飽和するので
、経済性の面からも4重量%以下とすべきであり、望ま
しくは1〜3重景重量加がよい。その他1” c 、
Cr + N i 、 Z r 、 1’ i等の不純
物が合金中に存在することがあるが、それらの総量は5
重1it%以下とすべきである。
地の析出強化作用をする。しかし、Mgは0.05重量
%以下の添加ではその効果が少なく、1.0重量%以上
の添加は靭性及び衝撃値が低下する傾向があり、温間鋳
造性が悪くなる。望ましくは0.3〜0.6重量%にす
べきである。また、CuはAQの基地に固溶してCu2
AQを形成し、熱処理による強化作用をするとともに、
波切1!IjI性あるいは耐摩耗性を向上させる。しか
し、Cuは0.5重量%以下では熱処理効果が少なく、
3重量%以上になると機械的性質の向上が飽和するので
、経済性の面からも4重量%以下とすべきであり、望ま
しくは1〜3重景重量加がよい。その他1” c 、
Cr + N i 、 Z r 、 1’ i等の不純
物が合金中に存在することがあるが、それらの総量は5
重1it%以下とすべきである。
以1 try述したように、磁気テープ走査装置の磁気
テープ案内用静止ドラムに特殊なA Q −S i系合
金鍛造品を用いることにより、ドラムの表面状態及び耐
摩耗性が従来のセラミックコーティング、AC5A及び
A C−813等には見られない程優れた特性を有する
ようになる。
テープ案内用静止ドラムに特殊なA Q −S i系合
金鍛造品を用いることにより、ドラムの表面状態及び耐
摩耗性が従来のセラミックコーティング、AC5A及び
A C−813等には見られない程優れた特性を有する
ようになる。
第」図は磁気テープ走査装置の外観を示す余I視図であ
り、第2図はその断面図、第3図は第1図及び第2図と
は構造の異った磁気テープ走査装置c7) 1lJi而
図、第4図はすべり摩擦係数の試験装置の略図、第5図
けす入り摩擦係数試験結果を示すグラフ、第6191は
磁気テープ案内ドラム表面の断面の顕微鏡″Tj“真、
第7図は磁気テープ案内ドラムのテープガイ1〜表面状
態の電子顕微鏡写真、および第8図は使用前及び使用後
の磁気テープ案内ドラム表面状態をアラサB1て測定し
た結果を示すグラフである。 1・・・静止」ニドラム、2・・・静止下ドラム、3・
・回転盤、4・・・間隙、5・・・シャフト、6 ・コ
ネクター。 6′・・・ボルト、7・・・磁気ヘッド、8・・・テー
プガイド、9・・・スリーブ、10・・・ポル1〜.1
1・・・ボールベアリング、12・・・励磁コイル、1
3・・・ブツシュ、14・・・プーリー、15・・・磁
気テープ、20・・・回転ドラム、21・・・静止ドラ
ム、22・・・磁気ヘッド、30・・・試験片、31・
・磁気テープ、32・・・重り、第 7 図 第 7 (C) ■ 手続補正書(方式) 145.イ(]5.pjP貨4 1旨i’I’ Ii長官志賀 学1]つ14 1’l
の ノく 小 昭 (1159年 1萄1′1願第 77403 −S
じ発明の名称 磁気テープ走査装置用静止ドラム r山11を・すると ・Ll’lとの関6’r: !I5.i’ 1出願人ン
、 (゛l旨l川用(1、代会t11」 伝 専ソ イ
′ト fす1代 岬 人 説明の鼎」 r山IIの1向上f ■9代理権を証明する書面をFjl!、gp4)=充す
る。 2、明細書の図面の簡単な説明を次の通り補正する。 (1)第15頁17行目の「顕微鏡写真」の前に「金属
組織を示すJを加入する。 (2)第15頁18行目の「状態の」を「のマクロ的な
金属組織を示す走査型」と訂正する。 以」二
り、第2図はその断面図、第3図は第1図及び第2図と
は構造の異った磁気テープ走査装置c7) 1lJi而
図、第4図はすべり摩擦係数の試験装置の略図、第5図
けす入り摩擦係数試験結果を示すグラフ、第6191は
磁気テープ案内ドラム表面の断面の顕微鏡″Tj“真、
第7図は磁気テープ案内ドラムのテープガイ1〜表面状
態の電子顕微鏡写真、および第8図は使用前及び使用後
の磁気テープ案内ドラム表面状態をアラサB1て測定し
た結果を示すグラフである。 1・・・静止」ニドラム、2・・・静止下ドラム、3・
・回転盤、4・・・間隙、5・・・シャフト、6 ・コ
ネクター。 6′・・・ボルト、7・・・磁気ヘッド、8・・・テー
プガイド、9・・・スリーブ、10・・・ポル1〜.1
1・・・ボールベアリング、12・・・励磁コイル、1
3・・・ブツシュ、14・・・プーリー、15・・・磁
気テープ、20・・・回転ドラム、21・・・静止ドラ
ム、22・・・磁気ヘッド、30・・・試験片、31・
・磁気テープ、32・・・重り、第 7 図 第 7 (C) ■ 手続補正書(方式) 145.イ(]5.pjP貨4 1旨i’I’ Ii長官志賀 学1]つ14 1’l
の ノく 小 昭 (1159年 1萄1′1願第 77403 −S
じ発明の名称 磁気テープ走査装置用静止ドラム r山11を・すると ・Ll’lとの関6’r: !I5.i’ 1出願人ン
、 (゛l旨l川用(1、代会t11」 伝 専ソ イ
′ト fす1代 岬 人 説明の鼎」 r山IIの1向上f ■9代理権を証明する書面をFjl!、gp4)=充す
る。 2、明細書の図面の簡単な説明を次の通り補正する。 (1)第15頁17行目の「顕微鏡写真」の前に「金属
組織を示すJを加入する。 (2)第15頁18行目の「状態の」を「のマクロ的な
金属組織を示す走査型」と訂正する。 以」二
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、シリコン8〜15重基%、銅1〜4重量%、マグネ
シウム0.05〜0.6重量%、残部実質上アルミニラ
11よりなるアルミニウムーシリコン合金の鍛造品から
なり、該合金の球状共晶シリコンの平均粒径は5μTn
以下であり、かつ磁気テープ案内通路の表面に磁気テー
プの進行方向にそって、表面粗さ1〜6μmの平行な実
質的に連続した機械加工線が形成されていることを特徴
とする磁気チーブ走査装置用静止ドラム。 2.10〜100グラムの磁気テープの負荷範囲で、案
内通路がすべり摩擦係数が0.28 以下をもつような
表面特性をもっことを特徴とする特a′「請求の範囲第
1項記載の磁気デ・−プ走査+JJ2置用静II−ドラ
11゜
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7740384A JPS6069853A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 磁気テ−プ走査装置用静止ドラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7740384A JPS6069853A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 磁気テ−プ走査装置用静止ドラム |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53072110A Division JPS5833612B2 (ja) | 1978-06-16 | 1978-06-16 | 磁気テ−プ走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6069853A true JPS6069853A (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=13632936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7740384A Pending JPS6069853A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 磁気テ−プ走査装置用静止ドラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6069853A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006283124A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kobe Steel Ltd | 耐磨耗性冷間鍛造用アルミニウム合金 |
-
1984
- 1984-04-16 JP JP7740384A patent/JPS6069853A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006283124A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kobe Steel Ltd | 耐磨耗性冷間鍛造用アルミニウム合金 |
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