JPS6073602A - 高分子光導波路 - Google Patents
高分子光導波路Info
- Publication number
- JPS6073602A JPS6073602A JP18236883A JP18236883A JPS6073602A JP S6073602 A JPS6073602 A JP S6073602A JP 18236883 A JP18236883 A JP 18236883A JP 18236883 A JP18236883 A JP 18236883A JP S6073602 A JPS6073602 A JP S6073602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- refractive index
- glass transition
- polymer
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子材料を用いた光導波路、更に詳細にはレ
ーザーなどを用いて熱エネルギーを非晶性物質に加える
ことにより熱履歴差を生じさせ、これによる高い屈折率
差を利用した光導波路に関するものである。
ーザーなどを用いて熱エネルギーを非晶性物質に加える
ことにより熱履歴差を生じさせ、これによる高い屈折率
差を利用した光導波路に関するものである。
高分子材料は可視から近赤外領域まで比較的低損失で均
質・広面積な薄膜を容易に作製することができることが
ら光導波路用の材料として注目されている。しかし、現
状では高い屈折率の差を得る方法がないため実用化に至
っていない。例えば光損失が小さく、最も大きな屈折率
変化が得られている光重合によるメタクリル酸メチルの
場合でもその屈折率変化は０．１％程度であり、光導波
路形成用としては実用的でない。
質・広面積な薄膜を容易に作製することができることが
ら光導波路用の材料として注目されている。しかし、現
状では高い屈折率の差を得る方法がないため実用化に至
っていない。例えば光損失が小さく、最も大きな屈折率
変化が得られている光重合によるメタクリル酸メチルの
場合でもその屈折率変化は０．１％程度であり、光導波
路形成用としては実用的でない。
本発明はかかる現状に鑑みてなされたもので、その目的
は可視から近赤外領域まで比較的光損失が小さく、均質
で広面積な薄膜作成が容易で、高い屈折率差を得ること
ができ、書き込みが容易にできる高分子光導波路を提供
することにある。
は可視から近赤外領域まで比較的光損失が小さく、均質
で広面積な薄膜作成が容易で、高い屈折率差を得ること
ができ、書き込みが容易にできる高分子光導波路を提供
することにある。
すなわち、本発明は、次式で示されるシアン化ビニリデ
ンと、他のビニル化合物、ビニリデン化合物又はジエン
類との共重合体から構成され、ＡＮ ＣＨ２＝Ｃ Ｃ＝Ｎ かつ部分的に熱処理することにより屈折率の異なる部分
を生じさせて光導波回路を形成したことを特徴とする高
分子光導波路に関する。
ンと、他のビニル化合物、ビニリデン化合物又はジエン
類との共重合体から構成され、ＡＮ ＣＨ２＝Ｃ Ｃ＝Ｎ かつ部分的に熱処理することにより屈折率の異なる部分
を生じさせて光導波回路を形成したことを特徴とする高
分子光導波路に関する。
次に本発明について詳細に説明する。本発明において光
導波路形成用材料として用いられる高分子化合物はシア
ン化ビニリデンと他のビニル化合物、ビニリデン化合物
あるいはジエン類との共重合あるいは交互共重合により
得られるものである。
導波路形成用材料として用いられる高分子化合物はシア
ン化ビニリデンと他のビニル化合物、ビニリデン化合物
あるいはジエン類との共重合あるいは交互共重合により
得られるものである。
他のビニル化合物、ビニリデン化合物、ジエン類として
は、スチレン、ジクロロスチレン、アクリル酸及びその
エステル、メタクリル酸及びそのエステル、ビニルアル
コール及ヒソのエステル、塩化ビニル、塩化ビニリデン
、弗化ビニル、弗化ビニリデン、三弗化エチレン、ブタ
ジェン、クロロブタジェン、イソブチレン、無水マレイ
ン酸、アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル
、メチルビニルケトン、ビニルイソブチルエーテル、シ
アノアクリレート類などが例としてあげられる。
は、スチレン、ジクロロスチレン、アクリル酸及びその
エステル、メタクリル酸及びそのエステル、ビニルアル
コール及ヒソのエステル、塩化ビニル、塩化ビニリデン
、弗化ビニル、弗化ビニリデン、三弗化エチレン、ブタ
ジェン、クロロブタジェン、イソブチレン、無水マレイ
ン酸、アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル
、メチルビニルケトン、ビニルイソブチルエーテル、シ
アノアクリレート類などが例としてあげられる。
エステル化合物については重合後その一部あるいは全部
について加水分解等の化学変性を行、なうことも可能で
ある。
について加水分解等の化学変性を行、なうことも可能で
ある。
シアン化ビニリデンと他のモノマーの共重合体中におけ
る組成比はモルで０．５ ： １〜１．５ ： １、好
ましくは０．８ ： １〜１．２ ： ］の範囲が用い
られ、特に好ましくは、１：１の交互共重合体が用いら
れる。
る組成比はモルで０．５ ： １〜１．５ ： １、好
ましくは０．８ ： １〜１．２ ： ］の範囲が用い
られ、特に好ましくは、１：１の交互共重合体が用いら
れる。
上記単量体の重合は、この種単量体の重合方法として知
られた方法を用いて行なうことができ、ラジカル開始剤
例えばα、α′−アゾビスイソプチロニ） ＩＪルの共
存下または非共存下に熱を加えることにより重合するこ
とができる。
られた方法を用いて行なうことができ、ラジカル開始剤
例えばα、α′−アゾビスイソプチロニ） ＩＪルの共
存下または非共存下に熱を加えることにより重合するこ
とができる。
手段としては乳化重合、けんだく重合、塊状重合、溶液
重合等を採用することができるが、好ましくは、単量体
をトルエンあるいはトルエン−ヘキサン混合溶剤等の溶
媒に溶解して重合を行ない、重合の進行と共に析出する
重合体を回収することによって行なわれる。
重合等を採用することができるが、好ましくは、単量体
をトルエンあるいはトルエン−ヘキサン混合溶剤等の溶
媒に溶解して重合を行ない、重合の進行と共に析出する
重合体を回収することによって行なわれる。
通常、非晶質の高分子をそのガラス転移温度より若干低
い温度で熱処理を施すと、ガラス転移温度より高い温度
で加熱後急冷したものに比し、密度の高いガラス状態の
高分子が得られる。この現象は体積緩和現象と呼ばれて
いる。
い温度で熱処理を施すと、ガラス転移温度より高い温度
で加熱後急冷したものに比し、密度の高いガラス状態の
高分子が得られる。この現象は体積緩和現象と呼ばれて
いる。
すなわち、ガラス転移温度より高い温度に加熱後急冷し
たものを、ガラス転移温度より１０℃程度低い温度で熱
処理を施すと、密度はしだいに増加し、ある平衡値に近
づく。また、この熱処理を施したものをガラス転移温度
より高い温度に加熱後急冷すると、密度はほぼ熱処理前
の値にもどり、この密度変化は可逆的である。
たものを、ガラス転移温度より１０℃程度低い温度で熱
処理を施すと、密度はしだいに増加し、ある平衡値に近
づく。また、この熱処理を施したものをガラス転移温度
より高い温度に加熱後急冷すると、密度はほぼ熱処理前
の値にもどり、この密度変化は可逆的である。
同様な密度差は、ガラス転移温度より高い温度から早い
速度で冷却したものと徐冷したものの間でも観測される
。また、仮に冷却速度が同じでも、高圧下でその圧力下
でのガラス転移温度より高い温度からガラス転移温度以
下に冷却した後常圧に戻したものと、常圧でガラス転移
温度以上の温度から冷却したものの間でも同様な密度差
が観測される。これらの現象は全て、ガラス転移が緩和
現象であることに由来するものである。
速度で冷却したものと徐冷したものの間でも観測される
。また、仮に冷却速度が同じでも、高圧下でその圧力下
でのガラス転移温度より高い温度からガラス転移温度以
下に冷却した後常圧に戻したものと、常圧でガラス転移
温度以上の温度から冷却したものの間でも同様な密度差
が観測される。これらの現象は全て、ガラス転移が緩和
現象であることに由来するものである。
この密度差は通常ごく小さい。例えばポリスチレンを１
℃／３分で冷却した場合と、１℃／１日−５＝ で冷却して得られるガラスの密度差は約０．１８％、常
圧と６００気圧下で１℃／３分で冷却して得られるガラ
スの密度差はポリスチレンで約０．６％であるにすぎな
い（Ｐｏｔｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｔ、 ！、６４４（
１９７１））。この密度差に基づく屈折率の差は１℃／
１日という遅い速度で冷却したものと急冷したものの差
でもやっと０．００１程度であり、従来光導波路形成用
材料としての利用の対象とはならなかった。
℃／３分で冷却した場合と、１℃／１日−５＝ で冷却して得られるガラスの密度差は約０．１８％、常
圧と６００気圧下で１℃／３分で冷却して得られるガラ
スの密度差はポリスチレンで約０．６％であるにすぎな
い（Ｐｏｔｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｔ、 ！、６４４（
１９７１））。この密度差に基づく屈折率の差は１℃／
１日という遅い速度で冷却したものと急冷したものの差
でもやっと０．００１程度であり、従来光導波路形成用
材料としての利用の対象とはならなかった。
本発明は、シアン化ビニリデンを他のモノマーとの共重
合体とすることにより、この密度差が通常の非晶性高分
子にくらべ格段に大きく、それに伴って光導波路として
利用出来る程大きな屈折率差を得ることができることを
可能としたものである。
合体とすることにより、この密度差が通常の非晶性高分
子にくらべ格段に大きく、それに伴って光導波路として
利用出来る程大きな屈折率差を得ることができることを
可能としたものである。
本発明の光導波路形成用材料はフィルム、シート、モノ
フィラメントなど目的に応じた形状に成形される。また
光導波路としては、本発明共重合体の単独相で構成する
こともできるが、本発明共重合体を溶融石英などの基材
と積層して用いると ６ − ともできる。
フィラメントなど目的に応じた形状に成形される。また
光導波路としては、本発明共重合体の単独相で構成する
こともできるが、本発明共重合体を溶融石英などの基材
と積層して用いると ６ − ともできる。
本発明光導波路形成用材料に光導波回路を書き込むとき
は、成形された光導波路形成用材料を−Ｈガラス転移点
以上に加熱した後、徐冷又は急冷して、均一な状態とな
るように予備処理をし、次などを照射して部分的にガラ
ス転移点以上に昇温した後、急冷又は徐冷することによ
って前記予備処理とは異った熱履歴を与えて屈折率の相
異する部分を形成し、これによって書き込みが行なわれ
る。
は、成形された光導波路形成用材料を−Ｈガラス転移点
以上に加熱した後、徐冷又は急冷して、均一な状態とな
るように予備処理をし、次などを照射して部分的にガラ
ス転移点以上に昇温した後、急冷又は徐冷することによ
って前記予備処理とは異った熱履歴を与えて屈折率の相
異する部分を形成し、これによって書き込みが行なわれ
る。
従って、予備処理は書き込み時の熱履歴とは対照的な熱
履歴を与えるように行ない、書き込むときに急冷する場
合には、光導波路形成材料を加熱炉又はレーザー光線等
でガラス転移点以上に加熱した後に徐冷するか、あるい
はガラス転移点より若干低い温度、一般にはガラス転移
点より３〜５０℃、好ましくは５〜１５℃低い温度で熱
処理を行なう。加圧下に徐冷又は熱処理することもでき
る。
履歴を与えるように行ない、書き込むときに急冷する場
合には、光導波路形成材料を加熱炉又はレーザー光線等
でガラス転移点以上に加熱した後に徐冷するか、あるい
はガラス転移点より若干低い温度、一般にはガラス転移
点より３〜５０℃、好ましくは５〜１５℃低い温度で熱
処理を行なう。加圧下に徐冷又は熱処理することもでき
る。
一方、書き込み時に徐冷されるときは、予備処理は急冷
される。
される。
通常、ガラス転移は幅を持った温度域で起こる。
したがって本発明の光導波路形成用材料をガラス転移温
度以上で加熱し転移を起こさせる場合、このことを考慮
に入れる必要がある。
度以上で加熱し転移を起こさせる場合、このことを考慮
に入れる必要がある。
一般に、予備処理又は書き込時の加熱は、ガラス転移温
度よりも５℃以上、好ましくは１０℃以上で加熱すると
良い。温度の上限は特になく光導波路形成材料の分解温
度以下で行なわれる。
度よりも５℃以上、好ましくは１０℃以上で加熱すると
良い。温度の上限は特になく光導波路形成材料の分解温
度以下で行なわれる。
書き込まれた光導波回路の保存は、通常ガラス転移点よ
り３０℃以上、好ましくは５０℃以上低い温度で行なわ
れる。
り３０℃以上、好ましくは５０℃以上低い温度で行なわ
れる。
履歴差による屈折率の差は、シアン化ビニリデンと共重
合するモノマーの種類や組成比、履歴を与える条件にも
よるが、組成比が０．５ ： １〜１．５＝１の場合で
０．００３から０．０３程度である。この値は、同じ条
件下のポリスチレンが０．００１という屈折率の差しか
生じないことに比べ、非常に大きい。
合するモノマーの種類や組成比、履歴を与える条件にも
よるが、組成比が０．５ ： １〜１．５＝１の場合で
０．００３から０．０３程度である。この値は、同じ条
件下のポリスチレンが０．００１という屈折率の差しか
生じないことに比べ、非常に大きい。
本発明の一具体例を第１図に示す。
１は低屈折率からなる基材、例えばパイレックスガラス
、溶融石英等を用いることができる。２は本発明の共重
合体よりなる高分子膜、３は高分子膜２中に作成された
光導波回路である。このような構造からなる光導波路に
おいては、例えば光を導波回路端面４から入射させると
、導波回路３の屈折率が外部より高いため、光は導波回
路内に閉じこめられたまま導波し、２本の導波回路の端
部５．５′から２つの光に分けられて出射させることが
できる。
、溶融石英等を用いることができる。２は本発明の共重
合体よりなる高分子膜、３は高分子膜２中に作成された
光導波回路である。このような構造からなる光導波路に
おいては、例えば光を導波回路端面４から入射させると
、導波回路３の屈折率が外部より高いため、光は導波回
路内に閉じこめられたまま導波し、２本の導波回路の端
部５．５′から２つの光に分けられて出射させることが
できる。
以下、シアン化ビニリデンと他の七ツマ−の交互共重合
体を中心に説明するが、組成比が前述の範囲であれば比
較的容易に光導波路として使用できる程度の屈折率の差
を生ずるので本発明は以下の説明によりなんら制約され
るものではない。
体を中心に説明するが、組成比が前述の範囲であれば比
較的容易に光導波路として使用できる程度の屈折率の差
を生ずるので本発明は以下の説明によりなんら制約され
るものではない。
次に本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれ
によってなんら限定されるものではない。
によってなんら限定されるものではない。
実施例１
シアン化ビニリデンと酢酸ビニルの交互共重合−〇 一
体のフィルム（ガラス転移点１７５℃）を作成し、この
フィルムを１８０℃迄加熱後急冷した。この急冷フィル
ムを部分的に１６０℃に加熱し、２４時間１６０℃に保
った後、急冷して得られたフィルムの屈折率を測定した
。１８０℃で急冷した部分と比べて１６０℃で２４時間
熱処理を施した部分の屈折率は約０．７％高くなった。
フィルムを１８０℃迄加熱後急冷した。この急冷フィル
ムを部分的に１６０℃に加熱し、２４時間１６０℃に保
った後、急冷して得られたフィルムの屈折率を測定した
。１８０℃で急冷した部分と比べて１６０℃で２４時間
熱処理を施した部分の屈折率は約０．７％高くなった。
これらの熱処理フィルムを再度１８０℃に短時間加熱後
急冷したものの屈折率は約１．４８９２であり、急冷と
熱処理による屈折率の変化は可逆的であった。２時間程
度の熱処理でも、屈折率上昇は約０．３３％であり、通
常の非晶性高分子に比べて非常に大きな変化を示した。
急冷したものの屈折率は約１．４８９２であり、急冷と
熱処理による屈折率の変化は可逆的であった。２時間程
度の熱処理でも、屈折率上昇は約０．３３％であり、通
常の非晶性高分子に比べて非常に大きな変化を示した。
実施例２
実施例１と同じシアン化ビニリデンと酢酸ビニルの交互
共重合体の急冷フィルムを４０００気圧下でそれぞれ１
８０℃及び２００℃で１時間熱処理した後冷却し除圧し
た。得られたフィルムの屈折率は１８０℃で処理したも
ので１．５１４１また２００℃で熱処理したものでは１
．５２１３であり、１０− 常圧で１８０℃及び２００℃より急冷したフィルムにく
らべ屈折率は約１．７ないし２．２％高くなった。これ
らのフィルムの中に作られる光導波路の部分を除いて再
度常圧で１８０℃まで加熱した後急冷することにより光
導波路を得た。
共重合体の急冷フィルムを４０００気圧下でそれぞれ１
８０℃及び２００℃で１時間熱処理した後冷却し除圧し
た。得られたフィルムの屈折率は１８０℃で処理したも
ので１．５１４１また２００℃で熱処理したものでは１
．５２１３であり、１０− 常圧で１８０℃及び２００℃より急冷したフィルムにく
らべ屈折率は約１．７ないし２．２％高くなった。これ
らのフィルムの中に作られる光導波路の部分を除いて再
度常圧で１８０℃まで加熱した後急冷することにより光
導波路を得た。
実施例３
シアン化ビニリデンとメタクリル酸メチルの交互共重合
体のフィルム（ガラス転移点１４８℃）を実施例１と同
様にして１７５℃から急冷した後、１４０℃で２４時間
熱処理をしたものの屈折率を測定した。１７５℃から急
冷したものと比べて１４０℃で２４時間熱処理を施した
ものの屈折率は約０．４％高くなった。この変化も可逆
的であり、再度１７５℃に加熱した後急冷したものの屈
折率は１．５１７４であった。
体のフィルム（ガラス転移点１４８℃）を実施例１と同
様にして１７５℃から急冷した後、１４０℃で２４時間
熱処理をしたものの屈折率を測定した。１７５℃から急
冷したものと比べて１４０℃で２４時間熱処理を施した
ものの屈折率は約０．４％高くなった。この変化も可逆
的であり、再度１７５℃に加熱した後急冷したものの屈
折率は１．５１７４であった。
実施例４
シアン化ビニリデンと安息香酸ビニルの交互共重合体の
フィルム（ガラス転移点１７５℃）を実施例１と同様に
して１９０℃から急冷した後、１６０℃で２４時間熱処
理をしたものの屈折率を測定した。１９０℃から急冷し
たものと比べ１６０℃で２４時間熱処理を施したものの
屈折率は約０．３％高くなった。また、急冷と熱処理に
よる屈折率の変化は実施例１と同様可逆的であった。
フィルム（ガラス転移点１７５℃）を実施例１と同様に
して１９０℃から急冷した後、１６０℃で２４時間熱処
理をしたものの屈折率を測定した。１９０℃から急冷し
たものと比べ１６０℃で２４時間熱処理を施したものの
屈折率は約０．３％高くなった。また、急冷と熱処理に
よる屈折率の変化は実施例１と同様可逆的であった。
第１図は、本発明の一興体例の斜視図である。
１・・・・・・基材、２・・・・・・高分子膜３・・・
・・・光導波回路 ４．５．５′・・・・・・導波回路の端面特許出願人
三菱油化株式会社 同 宮 １） 清 蔵 代理人 弁理士 古 川 秀 利 （ほか１名）
・・・光導波回路 ４．５．５′・・・・・・導波回路の端面特許出願人
三菱油化株式会社 同 宮 １） 清 蔵 代理人 弁理士 古 川 秀 利 （ほか１名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次式で示されるシアン化ビニリデンと、他ノビニル化合
物、ビニリデン化合物又はジエン類との共重合体から構
成され、 Ｃ三Ｎ ＣＨ２＝Ｃ −ＥＮ かつ部分的に熱処理することにより屈折率の異なる部分
を生じさせて光導波回路を形成したことを特徴とする高
分子光導波路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18236883A JPS6073602A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 高分子光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18236883A JPS6073602A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 高分子光導波路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6073602A true JPS6073602A (ja) | 1985-04-25 |
| JPH0332763B2 JPH0332763B2 (ja) | 1991-05-14 |
Family
ID=16117086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18236883A Granted JPS6073602A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 高分子光導波路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6073602A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01103614A (ja) * | 1986-10-09 | 1989-04-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | シアン化ビニリデン共重合体 |
| WO2025197963A1 (ja) * | 2024-03-22 | 2025-09-25 | 株式会社クラレ | フィルム、積層体、フィルムコンデンサ、及び当該フィルムを提供するための方法 |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18236883A patent/JPS6073602A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01103614A (ja) * | 1986-10-09 | 1989-04-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | シアン化ビニリデン共重合体 |
| WO2025197963A1 (ja) * | 2024-03-22 | 2025-09-25 | 株式会社クラレ | フィルム、積層体、フィルムコンデンサ、及び当該フィルムを提供するための方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332763B2 (ja) | 1991-05-14 |
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