JPS6079950A - 耐放射線性フイルム - Google Patents
耐放射線性フイルムInfo
- Publication number
- JPS6079950A JPS6079950A JP18696383A JP18696383A JPS6079950A JP S6079950 A JPS6079950 A JP S6079950A JP 18696383 A JP18696383 A JP 18696383A JP 18696383 A JP18696383 A JP 18696383A JP S6079950 A JPS6079950 A JP S6079950A
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- Japan
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- film
- radiation
- compound
- butyl
- resistant film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐放射線性フィルムに関するものである。
従来、二軸延伸ポリプロピレンフィルム（以下ＯＦＦフ
ィルムと略す）は、強度、ステイ７ネス、耐衝撃強さな
どをもち、透明性がよく、優れた防湿性をもっているた
めに、各種包装材料として広く用いられている。しかし
、各種包装物のうちで本般菌をＩη堺ン寸ふ本の一例夕
げ注射による殺菌が行われているが、これらの包装にＯ
ＰＰフィルムを用いた場合には、通常膜＆４量の目安と
されている２、５メガラド程度のγ線照射によ５、ｏｐ
ｐフィルムは著しく分解、劣化が惹起され機械的強度が
低下するために、放射線殺菌用の包装材としては使用で
きなかった。
ィルムと略す）は、強度、ステイ７ネス、耐衝撃強さな
どをもち、透明性がよく、優れた防湿性をもっているた
めに、各種包装材料として広く用いられている。しかし
、各種包装物のうちで本般菌をＩη堺ン寸ふ本の一例夕
げ注射による殺菌が行われているが、これらの包装にＯ
ＰＰフィルムを用いた場合には、通常膜＆４量の目安と
されている２、５メガラド程度のγ線照射によ５、ｏｐ
ｐフィルムは著しく分解、劣化が惹起され機械的強度が
低下するために、放射線殺菌用の包装材としては使用で
きなかった。
従って、ｏｐｐフィルムを耐放射線性とすることを検討
したが、これを耐放射線性とする場合には、樹脂への添
加剤量が多くなるために製膜時に種々の障害が発生した
り、添加剤のプレートアウトによる品質の低下があるた
めに樹脂のロツ）！理、製膜の工程管理、フィルムのロ
ット管理などが煩雑となり作業性が悪く、製造コストも
高くなるという問題がある。
したが、これを耐放射線性とする場合には、樹脂への添
加剤量が多くなるために製膜時に種々の障害が発生した
り、添加剤のプレートアウトによる品質の低下があるた
めに樹脂のロツ）！理、製膜の工程管理、フィルムのロ
ット管理などが煩雑となり作業性が悪く、製造コストも
高くなるという問題がある。
本発明は、上記のような耐放射線性のｏｐｐフィルムに
関する問題点を解消することを目的になされたものであ
って、（ａ）ヒンダードアミン系化合物並びに（切有機
リン系化合物および／または（０）ヒンダードフェノー
ル系化合物を、それぞ延伸ポリプロピレンフィルムとを
積層してなる耐放射線性フィルムを提供するものである
。
関する問題点を解消することを目的になされたものであ
って、（ａ）ヒンダードアミン系化合物並びに（切有機
リン系化合物および／または（０）ヒンダードフェノー
ル系化合物を、それぞ延伸ポリプロピレンフィルムとを
積層してなる耐放射線性フィルムを提供するものである
。
本発明で用いられるヒンダードアミン系化合物としては
、分子量が５００以下の低分子量のものが好ましく、例
えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケイト、グツドライト−５０５４（商品名、
グツドリッチ化学社製）、ヘキス） ＴＭＮ ２０ （
商品名、ヘキスト社製）、ＵＶ−５４５ｙ （商品名、
アメリカンサイアナマイト社製）、テトラキス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−’１，２
，５，４−プタンテトラカルボキシレートなどがあげら
れる。高分子量のヒンダードアミン系化合物は、後述の
ポリオレフィン層からＯＰＰ フィルムへの移行が難か
しくなるために好ましくない。
、分子量が５００以下の低分子量のものが好ましく、例
えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケイト、グツドライト−５０５４（商品名、
グツドリッチ化学社製）、ヘキス） ＴＭＮ ２０ （
商品名、ヘキスト社製）、ＵＶ−５４５ｙ （商品名、
アメリカンサイアナマイト社製）、テトラキス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−’１，２
，５，４−プタンテトラカルボキシレートなどがあげら
れる。高分子量のヒンダードアミン系化合物は、後述の
ポリオレフィン層からＯＰＰ フィルムへの移行が難か
しくなるために好ましくない。
本発明で用いられる有機リン系化合物としては、有機ホ
スファイト、例えば１，１．５−）リス（２−メチル−
４−ジトリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチル）ブタ
ン、４，４−ブチリデン−ビス（５−メチル−６−ｔ−
ブチルフェニル−ジトリデシル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジーｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ま
たは有機ホスホナイト、例えばテトラキス（２゜４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）４．４−ビフエニレンジホスホ
ナイトなどがあげられる。
スファイト、例えば１，１．５−）リス（２−メチル−
４−ジトリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチル）ブタ
ン、４，４−ブチリデン−ビス（５−メチル−６−ｔ−
ブチルフェニル−ジトリデシル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジーｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ま
たは有機ホスホナイト、例えばテトラキス（２゜４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）４．４−ビフエニレンジホスホ
ナイトなどがあげられる。
本発明で用いられるヒンダードフェノール系化合物とし
ては、例えば１，３．５− ト１７ス（５−ヒドロキシ
−２，６−シメチルー４−ｔ−ブチルベンジル）イソシ
アヌレート、１，３，５、− ）ジメチル−２，４，６
−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）ベンゼン、２．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレ
ゾール、４，４−チオビス−（６−ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、テトラキス〔メチレン−５−（５，５−ジ
−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネ
ートコメタン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）グロピオネート、１．１．
５−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブ
チルフェニル）ブタン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）インシアヌレートなどが
あげられる。なお、必要に応じてさらにチオエステル類
、例えばジステアリルチオジグロピオネート、ジラウリ
ルチオジグロピオネート、テトラキス−（メチレン−３
−ドデシルチオグロビオネート）メタン、シミリスチル
チオジプロピオネートなどを加えてもよい。
ては、例えば１，３．５− ト１７ス（５−ヒドロキシ
−２，６−シメチルー４−ｔ−ブチルベンジル）イソシ
アヌレート、１，３，５、− ）ジメチル−２，４，６
−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）ベンゼン、２．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレ
ゾール、４，４−チオビス−（６−ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、テトラキス〔メチレン−５−（５，５−ジ
−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネ
ートコメタン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）グロピオネート、１．１．
５−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブ
チルフェニル）ブタン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）インシアヌレートなどが
あげられる。なお、必要に応じてさらにチオエステル類
、例えばジステアリルチオジグロピオネート、ジラウリ
ルチオジグロピオネート、テトラキス−（メチレン−３
−ドデシルチオグロビオネート）メタン、シミリスチル
チオジプロピオネートなどを加えてもよい。
本発明に用いられるポリオレフィンとしては、例えば高
密度、中密度および低密度のポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレンゴ
ム、エチレン−ブテンゴムなど、またはこれらの混合物
があけられる。
密度、中密度および低密度のポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレンゴ
ム、エチレン−ブテンゴムなど、またはこれらの混合物
があけられる。
ヒンダードアミン系化合物並び有機リン系化合物および
／またはヒンダードフェノール系化合物とを含むポリオ
レフィン層は、上記のポリオレフィンに前記のヒンダー
ドアミン系化合物、合物などの耐放射線性付与剤を添加
して均一に混合してなるフィルムまたはシート状物であ
る。
／またはヒンダードフェノール系化合物とを含むポリオ
レフィン層は、上記のポリオレフィンに前記のヒンダー
ドアミン系化合物、合物などの耐放射線性付与剤を添加
して均一に混合してなるフィルムまたはシート状物であ
る。
また、耐放射線性付与剤を混合する方法は、特に限定さ
れず公知の方法が適用できる。例えば、ポリオレフィン
の粉末またはベレットに耐放射線付与剤を添加し、予備
混合した後、ポリオレフィンの融点以上の温度で溶融混
練してフィルムまたはシート状に成形する方法があげら
れる。
れず公知の方法が適用できる。例えば、ポリオレフィン
の粉末またはベレットに耐放射線付与剤を添加し、予備
混合した後、ポリオレフィンの融点以上の温度で溶融混
練してフィルムまたはシート状に成形する方法があげら
れる。
この場合のヒンダードアミン系化合物、有機リン系化合
物およびヒンダードフェノール系化合物の添加量は、そ
れぞれα１〜１重ｔ％で、特に好ましくは０．２〜０．
５重ｉ％である。添加量が（１１重量−未満では、ＯＦ
Ｆ フィルムと積層一体化した場合にポリオレフィン層
からｏｐｐフィルムへの耐放射線付与剤の移行が少く、
ｏｐｐフィルムの耐放射・練性が改善されない。一方、
添加量が１．０重Ｍ％を越える場合は、フィルムの着色
が生じ、耐放射線性付与剤の移行が多くなり過ぎてポリ
オレフィン層とＯＦＦフィルムとのレートアウトするた
めフィルムにブロッキングが発生して好ましくない。
物およびヒンダードフェノール系化合物の添加量は、そ
れぞれα１〜１重ｔ％で、特に好ましくは０．２〜０．
５重ｉ％である。添加量が（１１重量−未満では、ＯＦ
Ｆ フィルムと積層一体化した場合にポリオレフィン層
からｏｐｐフィルムへの耐放射線付与剤の移行が少く、
ｏｐｐフィルムの耐放射・練性が改善されない。一方、
添加量が１．０重Ｍ％を越える場合は、フィルムの着色
が生じ、耐放射線性付与剤の移行が多くなり過ぎてポリ
オレフィン層とＯＦＦフィルムとのレートアウトするた
めフィルムにブロッキングが発生して好ましくない。
なお、耐放射線性付与剤を添加する際に、必要に応じて
中和剤、滑剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、造核
剤などを添加することができる。
中和剤、滑剤、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、造核
剤などを添加することができる。
本発明で用いられるＯＦＦ フィルムは、通常厚−りの
代表例であるが、二軸延伸効果が実現できる限シ、ある
いは結晶性といえる限ジプロピレンと少量の他のオレフ
ィンとの共重合体であってもよい。
代表例であるが、二軸延伸効果が実現できる限シ、ある
いは結晶性といえる限ジプロピレンと少量の他のオレフ
ィンとの共重合体であってもよい。
次に、耐放射線性付与剤を含むポリオレフィン層とｏｐ
ｐ フィルムとの積層一体化の方法としては、例えばＯ
ＦＦ フィルム上へ耐放射線性付与与剤を含むポリオレ
フィンフィルムまたはシート状物とＯＰＰ フィルムと
を接着剤、例えばウレタン系、チタネート系のものなど
を介してドライラミネートする方法などがあけられる。
ｐ フィルムとの積層一体化の方法としては、例えばＯ
ＦＦ フィルム上へ耐放射線性付与与剤を含むポリオレ
フィンフィルムまたはシート状物とＯＰＰ フィルムと
を接着剤、例えばウレタン系、チタネート系のものなど
を介してドライラミネートする方法などがあけられる。
また積層は任意の組合せで行うことができる。積層フィ
ルムの厚さは一般に５〜５０μが好ましい。
ルムの厚さは一般に５〜５０μが好ましい。
得られた積層フィルムは、ポリオレフィン層に含まれる
耐放射線性付与剤のｏｐｐフィルムへの移行を促進する
ために、温度５０℃以上、温度４０％程度の雰囲気で６
時間以上熟成することが好ましい。
耐放射線性付与剤のｏｐｐフィルムへの移行を促進する
ために、温度５０℃以上、温度４０％程度の雰囲気で６
時間以上熟成することが好ましい。
以上、本発明の耐放射線性フィルムは、ポリオレフィン
層に含まれる耐放射線性付与剤のＯＰＰ フィルムへの
移行によりＯＦＦフィルムの耐放射線性が改善される。
層に含まれる耐放射線性付与剤のＯＰＰ フィルムへの
移行によりＯＦＦフィルムの耐放射線性が改善される。
従って、放射線殺菌を行う包装材として用いても劣化す
ることなく、ｏｐｐフィルムの特徴をそなえた包装材と
して好適なものである。また、ＯＰＰフィルムは、一般
に市販されるものを用いるために製造コストも安価であ
る。
ることなく、ｏｐｐフィルムの特徴をそなえた包装材と
して好適なものである。また、ＯＰＰフィルムは、一般
に市販されるものを用いるために製造コストも安価であ
る。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。な
お、実施例におけるチは重量を示し、フィルム物性の評
価方法は次の通りである。
お、実施例におけるチは重量を示し、フィルム物性の評
価方法は次の通りである。
落球衝撃強度
直径１２７ ｍのクランブリングで保持したフィルム面
上に、高さ１０９０．から重量１７５ｔのボールを落下
させ、ポールがフィルム面から５００ｍを落下する時間
を測定し、これより破膜に要したエネルギー（落球衝撃
強度）を算出した。
上に、高さ１０９０．から重量１７５ｔのボールを落下
させ、ポールがフィルム面から５００ｍを落下する時間
を測定し、これより破膜に要したエネルギー（落球衝撃
強度）を算出した。
実施例
結晶性のプロピレン−エチレン共重合体（エチレン含有
量＝５％、メルト７０−イ゛ンデツクス＝ ５０ ｆ７
１０分）に表−１に示す割合のヒンダードアミン系化合
物、有機リン系化合物およびヒンダードフェノール系化
合物を添加し、さらにこれにａＯＳｑｂのジステアリル
チオジプロピオネートおよびａｏｓｌのカルシウムステ
アレートとをそれぞれ添加して予備混合した後に溶融混
練して組成物を得た。この組成物をｏｐｐフィルム上に
押出コートして積層フィルムを得た。この積層フィルム
を温度５０℃、湿度４０−の雰囲気で２４時間熟成した
。この積層フィルムにコバルト−６０の線源を用いてｒ
＠を照射し、その後の物性を測定して結果を表−１に示
した。
量＝５％、メルト７０−イ゛ンデツクス＝ ５０ ｆ７
１０分）に表−１に示す割合のヒンダードアミン系化合
物、有機リン系化合物およびヒンダードフェノール系化
合物を添加し、さらにこれにａＯＳｑｂのジステアリル
チオジプロピオネートおよびａｏｓｌのカルシウムステ
アレートとをそれぞれ添加して予備混合した後に溶融混
練して組成物を得た。この組成物をｏｐｐフィルム上に
押出コートして積層フィルムを得た。この積層フィルム
を温度５０℃、湿度４０−の雰囲気で２４時間熟成した
。この積層フィルムにコバルト−６０の線源を用いてｒ
＠を照射し、その後の物性を測定して結果を表−１に示
した。
添加剤
ＡＩ＝ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セバケイト Ａ宜：テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル） −１，２，５，４−ブタンテトラカル
ボキシレート Ａ３：へキス） ＴＭＮ ２０ （商品名、ヘキスト社
製）Ｂ１：１，１ｊ−トリス（２−メチル−４−ジトリ
デシルホスファイ）−５−ｔ−ブチル）ブタン Ｂ！ニドリス（２，４−ジーｔ−ブチルフ゛エニル）ホ
スファイト Ｏｌ： １，５．５− トリス−（５−ヒドロキシ−２
，６−シメチルー４−ｔ−ブチルベンジル）インシアヌ
レート ０、： １，５．５− ）ジメチル−２，４，６−トリ
ス（５゜５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル
）ベンゼン 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 −
リジル）セバケイト Ａ宜：テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル） −１，２，５，４−ブタンテトラカル
ボキシレート Ａ３：へキス） ＴＭＮ ２０ （商品名、ヘキスト社
製）Ｂ１：１，１ｊ−トリス（２−メチル−４−ジトリ
デシルホスファイ）−５−ｔ−ブチル）ブタン Ｂ！ニドリス（２，４−ジーｔ−ブチルフ゛エニル）ホ
スファイト Ｏｌ： １，５．５− トリス−（５−ヒドロキシ−２
，６−シメチルー４−ｔ−ブチルベンジル）インシアヌ
レート ０、： １，５．５− ）ジメチル−２，４，６−トリ
ス（５゜５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル
）ベンゼン 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 −
Claims (1)
- （ａ） ヒンダードアミン系化合物並びに（ｂ）有機リ
ン系化合物および／または（Ｃ）ヒンダードフェノール
系化合物を、それぞれ０．１〜１重量％含むポリオレフ
ィン層と二軸延伸ボリグロピレンフィルムとを積層して
なる耐放射線性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18696383A JPS6079950A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 耐放射線性フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18696383A JPS6079950A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 耐放射線性フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079950A true JPS6079950A (ja) | 1985-05-07 |
| JPH0148875B2 JPH0148875B2 (ja) | 1989-10-20 |
Family
ID=16197786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18696383A Granted JPS6079950A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 耐放射線性フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6079950A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002002794A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Okura Ind Co Ltd | 放射線減菌処理用バッグインボックス内袋 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0454149U (ja) * | 1990-09-17 | 1992-05-08 |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP18696383A patent/JPS6079950A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002002794A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Okura Ind Co Ltd | 放射線減菌処理用バッグインボックス内袋 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0148875B2 (ja) | 1989-10-20 |
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