JPS6084387A - 液晶化学物質 - Google Patents
液晶化学物質Info
- Publication number
- JPS6084387A JPS6084387A JP19214383A JP19214383A JPS6084387A JP S6084387 A JPS6084387 A JP S6084387A JP 19214383 A JP19214383 A JP 19214383A JP 19214383 A JP19214383 A JP 19214383A JP S6084387 A JPS6084387 A JP S6084387A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- ether
- distilled
- room temperature
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、強誘電性スメクチック液晶の電界への応答を
利用した電気光学素子に有用な新規な強誘電性液晶材料
、それらを含有する液晶組成物および電気光学素子に関
する。
利用した電気光学素子に有用な新規な強誘電性液晶材料
、それらを含有する液晶組成物および電気光学素子に関
する。
液晶は、諸種の電気光学素子として応用されてきている
。特にコンパクトで、エネルギー効率が良いという利点
から、電圧駆動の光パルプとして時計や電卓の表示に使
われている。現在実用化されている液晶素子は、主々、
ネマチイック液晶、コレステリック液晶の誘電的配列効
果に基づいておシ、この場合は、誘電異方性のために、
平均的な分子の長袖方向が、加えられた電場によって特
定の方向に向くことになる。この機構による加えられた
電場との結合カー誘電的結合力はかなり弱いため、これ
らの素子の電気光学的応答時間は多くの潜在的な応用分
野では非常に遅い。
。特にコンパクトで、エネルギー効率が良いという利点
から、電圧駆動の光パルプとして時計や電卓の表示に使
われている。現在実用化されている液晶素子は、主々、
ネマチイック液晶、コレステリック液晶の誘電的配列効
果に基づいておシ、この場合は、誘電異方性のために、
平均的な分子の長袖方向が、加えられた電場によって特
定の方向に向くことになる。この機構による加えられた
電場との結合カー誘電的結合力はかなり弱いため、これ
らの素子の電気光学的応答時間は多くの潜在的な応用分
野では非常に遅い。
液晶素子は、低電圧、低消費電力のため、ICとの適合
性が良い事やコンパクトである等の優れた特性を有する
が、特に期待されている画素数が多い表示素子への応用
に当っては、いまだ応答性やその非線形性が十分でない
。そのため、各画素毎にスイッチング素子を形成するM
OSパネルやTPTパネルが一方において研究開発がさ
かんになってきている。
性が良い事やコンパクトである等の優れた特性を有する
が、特に期待されている画素数が多い表示素子への応用
に当っては、いまだ応答性やその非線形性が十分でない
。そのため、各画素毎にスイッチング素子を形成するM
OSパネルやTPTパネルが一方において研究開発がさ
かんになってきている。
こうした中で、C1ark5(U、S Pat、436
7924 )は、かかる液晶素子の欠点を除去する、ス
メクチック相を用いた新しい表示原理による液晶素子を
考案した。これについて以下若干の説明をする。
7924 )は、かかる液晶素子の欠点を除去する、ス
メクチック相を用いた新しい表示原理による液晶素子を
考案した。これについて以下若干の説明をする。
−図1は、スメクチック♂またはH相の模式図である。
液晶は各分子層1から成っておシ、個々の層の中では、
分子長軸の平均的な方向が、層に垂直な方向と角度 だ
け傾いている。Meyer3は、Le Journal
de Physique Val 36(March
1975 PPL−69ti L−71)の「強誘電
性液晶」というタイトルの論文において、光学活性な分
子から成るスメクチックCあるいはfLM晶は、一般に
電気双極子密度Yを有し、強訪電的であることを示して
いる。この双極子密度pは、分子の傾き方向nに垂直で
、スメクチックの層面に平行である。彼らの示したこと
は、スメクチックH相でも適用可能であるが、■相では
、層に垂直な軸のまわりの回転に対する粘性がよシ大き
くなる。これらのカイラルスメクチックにおける電気双
極子の存在は、誘電異方性におけるよυも、電場に対し
てずつと強い結合力を与える。さらに、この結合力は、
pの好ましい方向がEと平行な方向であるという意味で
極性のあるものなので、印加した電場の方向を反転する
ことにより、pの方向を反転させることになる。つまり
電場を反転することにより、図2で示したように、分子
をコーンにそった運動によシ、その方向を制御すること
ができるのである。そしてその分子の平均的な長袖方向
の変化を2枚の偏光板により検出することによシ、電気
光学的素子として利用し得る。
分子長軸の平均的な方向が、層に垂直な方向と角度 だ
け傾いている。Meyer3は、Le Journal
de Physique Val 36(March
1975 PPL−69ti L−71)の「強誘電
性液晶」というタイトルの論文において、光学活性な分
子から成るスメクチックCあるいはfLM晶は、一般に
電気双極子密度Yを有し、強訪電的であることを示して
いる。この双極子密度pは、分子の傾き方向nに垂直で
、スメクチックの層面に平行である。彼らの示したこと
は、スメクチックH相でも適用可能であるが、■相では
、層に垂直な軸のまわりの回転に対する粘性がよシ大き
くなる。これらのカイラルスメクチックにおける電気双
極子の存在は、誘電異方性におけるよυも、電場に対し
てずつと強い結合力を与える。さらに、この結合力は、
pの好ましい方向がEと平行な方向であるという意味で
極性のあるものなので、印加した電場の方向を反転する
ことにより、pの方向を反転させることになる。つまり
電場を反転することにより、図2で示したように、分子
をコーンにそった運動によシ、その方向を制御すること
ができるのである。そしてその分子の平均的な長袖方向
の変化を2枚の偏光板により検出することによシ、電気
光学的素子として利用し得る。
こ。、、、フケツクと相又は□相。電界へ。応答を利用
した電気光学素子は、その自発分極と電界との結合力が
、誘電異方性による結合力よシも3〜4オーダー大きい
故に、TN型液晶素子に比して、優れた高速応答性を有
し、かつ、適当な配向制御を選択することによシメモリ
ー性をもたすことがoJ能であシ、高速化学シャッター
や表示情報量の高いディスプレイとしての応用が期待さ
れている。
した電気光学素子は、その自発分極と電界との結合力が
、誘電異方性による結合力よシも3〜4オーダー大きい
故に、TN型液晶素子に比して、優れた高速応答性を有
し、かつ、適当な配向制御を選択することによシメモリ
ー性をもたすことがoJ能であシ、高速化学シャッター
や表示情報量の高いディスプレイとしての応用が期待さ
れている。
ところで、この強誘電性を有するカイラルスメクチック
液晶材料は、種々合成され研究されてきている。強誘電
性液晶として最初に合成されたのは、一般的POBAM
BCと言われている。
液晶材料は、種々合成され研究されてきている。強誘電
性液晶として最初に合成されたのは、一般的POBAM
BCと言われている。
p−decyloxybenzilidene−p−a
mino 2−methyl −butyl cynn
arnate であシ、この系列の液晶は、以下の構造
式の形で、強誘電性液晶の研究対象として種々合成され
てきている。
mino 2−methyl −butyl cynn
arnate であシ、この系列の液晶は、以下の構造
式の形で、強誘電性液晶の研究対象として種々合成され
てきている。
X Y
1
CnHn+10■C1−L=NGCf(=C拳C00C
HzCHCHs* (ここで、XiH,CI 、CN、Y;C1。
HzCHCHs* (ここで、XiH,CI 、CN、Y;C1。
C2H3)
しかし、この系列の液晶は、比較的高温側でカイラルス
メクチック相を呈するため、室温では使えない事や、シ
ック系であシ安定性が悪い等の問題がある。
メクチック相を呈するため、室温では使えない事や、シ
ック系であシ安定性が悪い等の問題がある。
この系の発展系として、一般式
%式%
(
で表わされる。一方のベンゼン環に水酸基が導入され、
分子内の水素結合を有するタイプのカイラルスメクチッ
ク液晶性化合物が、B I 、0strovskii3
(Ferroellectrics 24(1980
)309 )や A。
分子内の水素結合を有するタイプのカイラルスメクチッ
ク液晶性化合物が、B I 、0strovskii3
(Ferroellectrics 24(1980
)309 )や A。
Hallaby 5 (Mal Cryst Liq
Cryat Letter 82(1982)61 )
によって発表され、室温を含む広い温度範囲でSC@を
呈する化合物として注目されている。分子内水素結合を
有するため、シック系液晶と比較して、安定性の面で優
れているが、いまだ、−膜化している有機シールでの安
定性に問題があり、即実用に供せるものではない。
Cryat Letter 82(1982)61 )
によって発表され、室温を含む広い温度範囲でSC@を
呈する化合物として注目されている。分子内水素結合を
有するため、シック系液晶と比較して、安定性の面で優
れているが、いまだ、−膜化している有機シールでの安
定性に問題があり、即実用に供せるものではない。
他に、アゾキシ系の液晶材料が、P、 Keller(
Amn Phys 5(197B)139 )によって
発表されているが、温度範囲の面で十分でなく、又、濃
い黄色の化合物であるだめ実用上問題がある。
Amn Phys 5(197B)139 )によって
発表されているが、温度範囲の面で十分でなく、又、濃
い黄色の化合物であるだめ実用上問題がある。
こうした中で、TN型液晶材料として安定性の面で実績
のあるエステル系液晶は、注目し得る材料である。公知
の文献では、B、 I 0strovskii3によっ
て、 (V(s Cn)(2n + s O<GC00◎0CH2CHC
2H5(n=9.10) (11が、比較的室温に近い
温度範囲でカイラルスメクチック液晶を呈する材料とし
て報告されている。
のあるエステル系液晶は、注目し得る材料である。公知
の文献では、B、 I 0strovskii3によっ
て、 (V(s Cn)(2n + s O<GC00◎0CH2CHC
2H5(n=9.10) (11が、比較的室温に近い
温度範囲でカイラルスメクチック液晶を呈する材料とし
て報告されている。
又、G、 W、 Gray 3(Mol Cryst
Liq Cryst 37(1976)189.48(
1978)37 )によシ、高い温度範囲でカイラルス
メクチック液晶相を呈するビフェニルエステル系材料が
報告されている。
Liq Cryst 37(1976)189.48(
1978)37 )によシ、高い温度範囲でカイラルス
メクチック液晶相を呈するビフェニルエステル系材料が
報告されている。
本発明の目的は以上のように、現状では、いまだ実用に
供せる液晶材料が存在していない中で、強誘電性液晶を
用いた電気光学素子に使用できる有用なカイラルスメク
チック液晶性化合物を提供することである。
供せる液晶材料が存在していない中で、強誘電性液晶を
用いた電気光学素子に使用できる有用なカイラルスメク
チック液晶性化合物を提供することである。
即ち、本発明は、次式(2)で表わされる、6−クロロ
、4−アルコキシフェニル、1−(6−メチルオクチル
オキシ)安息香酸エステル、これらを含有する液晶組成
物および電気光学素子に関するものである。
、4−アルコキシフェニル、1−(6−メチルオクチル
オキシ)安息香酸エステル、これらを含有する液晶組成
物および電気光学素子に関するものである。
CHa C1
C2H5CH(CH2) 60QCOO’DOCn H
t n + 1 (21* (ここで、nは1〜12、*印は不整炭素を示す。) 本発明の化合物は、公知の(11式の化合物に比較し、
不整炭素原子を有する側鎖2−メチルブチルオキシ基を
6−メチルオクチル基と炭素鎖を長くし、かつ反対の側
、即ち安息香酸の側鎖とすると同時に、フェノール側の
ベンゼン環の6の位置の水素原子を塩素原子で置換した
ことを特徴としている。このことによシ、室温またはそ
れに近いより低い温度範囲でカイラルスメクチック相を
呈する液晶性化合物を得ることが出来る。
t n + 1 (21* (ここで、nは1〜12、*印は不整炭素を示す。) 本発明の化合物は、公知の(11式の化合物に比較し、
不整炭素原子を有する側鎖2−メチルブチルオキシ基を
6−メチルオクチル基と炭素鎖を長くし、かつ反対の側
、即ち安息香酸の側鎖とすると同時に、フェノール側の
ベンゼン環の6の位置の水素原子を塩素原子で置換した
ことを特徴としている。このことによシ、室温またはそ
れに近いより低い温度範囲でカイラルスメクチック相を
呈する液晶性化合物を得ることが出来る。
次に、本発明の化合物の製法を示す。
本発明の化合物は、光学活性アミルアルコールを出発原
料にして、1−ブロモ−6−メチルオクタンを合成し、
オキシ安息香酸と反応させて、P−(6−メチルオクチ
ルオキシ)安息香酸を得、塩化チオニルで酸クロリドと
した上で、5−クロロ−4−n−アルコキシフェノール
と反応させエステル化するという手順で合成した。
料にして、1−ブロモ−6−メチルオクタンを合成し、
オキシ安息香酸と反応させて、P−(6−メチルオクチ
ルオキシ)安息香酸を得、塩化チオニルで酸クロリドと
した上で、5−クロロ−4−n−アルコキシフェノール
と反応させエステル化するという手順で合成した。
以下、化合物の具体的な合成法及びその特性を実施例に
よシ示す。
よシ示す。
実施例1−
光学活性な6−クロロ−4−n−デシルオキシフェニル
、4−(6メチルオクチルオキシ)安息香酸エステル 第1段 P−)ルエンスルホン酸2(−)−メチルフチルの製造
。
、4−(6メチルオクチルオキシ)安息香酸エステル 第1段 P−)ルエンスルホン酸2(−)−メチルフチルの製造
。
200m1の三ツロフラスコに、乾燥ピリジン70m1
、市販の活性アミルアルコールC(−) 2−メチル−
ブタノール−()10fを入れ、氷冷シタ後、[化P
−)ルエンスルホニル63.2 f ヲゆっくりと加え
入れた。塩化P−)ルエンスルホニルを加えた後に、ゆ
っくりと室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応終
了後、不溶物を沢別し、r液をエーラル抽出した。有機
層は、2NHC1、水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
減圧下有機溶媒を留去し、油状のP−)ルエンスルホン
酸2−メチルブチルエステル35.69(87%)を得
た。
、市販の活性アミルアルコールC(−) 2−メチル−
ブタノール−()10fを入れ、氷冷シタ後、[化P
−)ルエンスルホニル63.2 f ヲゆっくりと加え
入れた。塩化P−)ルエンスルホニルを加えた後に、ゆ
っくりと室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応終
了後、不溶物を沢別し、r液をエーラル抽出した。有機
層は、2NHC1、水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、
減圧下有機溶媒を留去し、油状のP−)ルエンスルホン
酸2−メチルブチルエステル35.69(87%)を得
た。
aX
2.45.S、31(
第2段
2−メチルブチルマロン酸ジエチルエステルの製造。
温度計、冷却質、滴下ロート、攪拌機を備えた600威
の四ツ目フラスコに金属ナトリウム5.672、乾燥エ
タノールx6mlを入れ、アルコラードを生成した。次
にマロン酸ジエチルを室温下、ゆっくりと滴下した。滴
下60分後、第1段の反応で得うれたP−)ルエンスル
ホン酸2−メラルプチルを乾燥エタノール2omlに溶
かし、室温下、滴下した。
の四ツ目フラスコに金属ナトリウム5.672、乾燥エ
タノールx6mlを入れ、アルコラードを生成した。次
にマロン酸ジエチルを室温下、ゆっくりと滴下した。滴
下60分後、第1段の反応で得うれたP−)ルエンスル
ホン酸2−メラルプチルを乾燥エタノール2omlに溶
かし、室温下、滴下した。
滴下後、さらに還流下18時間反応し、沈殿物をr別し
た後、エタノールを留去し、残漬をエーテル抽出した。
た後、エタノールを留去し、残漬をエーテル抽出した。
この有機層は、水飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、有機溶
媒を減圧下留去した。得られた油状物を減圧蒸留し10
1〜b Hgの留分を採った。541(定量的)第6段 4−メチルオクタン酸の製造 200m1の4つロフラスコに、水酸化カリウム5a8
+rと水5 & 7 ru、lを入れる。このアルカリ
水溶液に、第2段で得られた2−メチルブチルマロン酸
ジエチル601を室温で滴下した。滴下後、さらに還流
下2時間反応し生成してくるエタノールを留去した。
媒を減圧下留去した。得られた油状物を減圧蒸留し10
1〜b Hgの留分を採った。541(定量的)第6段 4−メチルオクタン酸の製造 200m1の4つロフラスコに、水酸化カリウム5a8
+rと水5 & 7 ru、lを入れる。このアルカリ
水溶液に、第2段で得られた2−メチルブチルマロン酸
ジエチル601を室温で滴下した。滴下後、さらに還流
下2時間反応し生成してくるエタノールを留去した。
エタノール分取後、冷却し、氷冷下濃硫酸939と水1
31m1を激しく攪拌しながら、注意深く加えた。40
分にわたって加えた後、3時間加熱還流した。冷却後、
エーテル抽出し、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、減圧上有
機溶媒を留去し、11.41f(34チ)′を得だ。b
p、101〜b414扉Hg 第4段 4−メチルへキサノール−1の製造 200m1の三つロフラスコに、水素化リチウムアルミ
ニウム!s、4f、乾燥エーテル75m1を入れ水冷下
、注意深く乾燥エーテル25m1に溶かした4−メチル
へキサン酸10.5 tを滴下した。
31m1を激しく攪拌しながら、注意深く加えた。40
分にわたって加えた後、3時間加熱還流した。冷却後、
エーテル抽出し、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、減圧上有
機溶媒を留去し、11.41f(34チ)′を得だ。b
p、101〜b414扉Hg 第4段 4−メチルへキサノール−1の製造 200m1の三つロフラスコに、水素化リチウムアルミ
ニウム!s、4f、乾燥エーテル75m1を入れ水冷下
、注意深く乾燥エーテル25m1に溶かした4−メチル
へキサン酸10.5 tを滴下した。
滴下後、さらに室温で、17時間反応し、水冷下、氷水
と希塩酸を用い、反応混合物を分解し、これをエーテル
抽出した。有機層は希か性ソーダ水溶液、水、飽和食塩
水で洗浄後、乾燥し、有機溶媒を留去すると油状物が得
られた。これを減圧蒸留し、目的のアルコール9.2B
fを得だ。
と希塩酸を用い、反応混合物を分解し、これをエーテル
抽出した。有機層は希か性ソーダ水溶液、水、飽和食塩
水で洗浄後、乾燥し、有機溶媒を留去すると油状物が得
られた。これを減圧蒸留し、目的のアルコール9.2B
fを得だ。
bp、170〜172℃
第5段
P−)ルエンスルホン酸4−メチルへキシルニスチルの
製造。
製造。
50mの三つロフラスコに、乾燥ピリジン34ru11
第4段で得られた4−メチルへキサノール−1aフフf
k入れ、水冷下、P−トルエンスルホン酸クロリド1Z
22を加え入れた。酸クロリドを加えた後、ゆっくりと
室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応終了後、沈
殿物をr別し、r液をエーテル抽出した。エーテル層は
、希塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧上有
機溶媒を留去することにより油状物を得た。17.5
F(86チ) 第6段 4−メチルヘキシルマロン酸ジエチルエステルの製造。
第4段で得られた4−メチルへキサノール−1aフフf
k入れ、水冷下、P−トルエンスルホン酸クロリド1Z
22を加え入れた。酸クロリドを加えた後、ゆっくりと
室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応終了後、沈
殿物をr別し、r液をエーテル抽出した。エーテル層は
、希塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧上有
機溶媒を留去することにより油状物を得た。17.5
F(86チ) 第6段 4−メチルヘキシルマロン酸ジエチルエステルの製造。
200rnlの四つロフラスコに金属ナトリウム1.4
4F、乾燥エタノール40rulより生じるアルコラー
ド溶液に、マロン酸ジエチル12.08fを室温で滴下
した。7i Q分後、第5段で得たスルホン酸エステル
171を乾燥エタノール10m1に溶かし、注意深く滴
下した。滴下終了後、12時間加熱還流した。沈殿物を
r別し、エタノールを留去後、エーテル抽出を行なった
。エーテル層は、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、減
圧下エーテルを留去し、油状物17.53 Fを倚た。
4F、乾燥エタノール40rulより生じるアルコラー
ド溶液に、マロン酸ジエチル12.08fを室温で滴下
した。7i Q分後、第5段で得たスルホン酸エステル
171を乾燥エタノール10m1に溶かし、注意深く滴
下した。滴下終了後、12時間加熱還流した。沈殿物を
r別し、エタノールを留去後、エーテル抽出を行なった
。エーテル層は、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、減
圧下エーテルを留去し、油状物17.53 Fを倚た。
(90%)第7段
6−メチルオクタン酸の製造
水酸化カリウム12.92p、水15mgを100Mの
4つロフラスコに入れ、これに第6段で得た4−メチル
ヘキシルマロン酸ジエチル17Fを室温でゆっくりと滴
下していった。さらに室温で4時間半反応した後、エー
テルで洗浄し、アルカリ層は、濃硫酸112と水101
を用い、酸性としエーテル抽出した。エーテル層は、飽
和食塩水でよく洗浄し、乾燥後、有機溶媒を留去し油秋
物11.59fを得た。
4つロフラスコに入れ、これに第6段で得た4−メチル
ヘキシルマロン酸ジエチル17Fを室温でゆっくりと滴
下していった。さらに室温で4時間半反応した後、エー
テルで洗浄し、アルカリ層は、濃硫酸112と水101
を用い、酸性としエーテル抽出した。エーテル層は、飽
和食塩水でよく洗浄し、乾燥後、有機溶媒を留去し油秋
物11.59fを得た。
得た油状物は、3時間半、160℃で胞炭酸を行い、冷
却後アルカリ水溶液を加え、ナトリウム塩とし、エーテ
ル洗浄した。アルカリ層は、再度酸性とした後、エーテ
ル抽出を行なった。このエーテル層は飽和食塩水でよく
洗浄し、乾燥後、減圧下エーテルを留去し、油状物を得
た。この油状物を減圧蒸留しカルホン酸a14F(80
%)を得た。bp 148〜b 第8段 6−メチルオクタノ−ルー1の製造 100m1の三ツロフラスコに、水素化リチウムアルミ
ニウム1.96f、乾燥エーテル60ntlを入れ、水
冷下乾燥エーテル2omlに溶かした6−メチルオクタ
ノイック酸(第7段で得られた)81を注意深く滴下し
た。滴下後、さらに18時間室温で反応し、氷水及び希
塩酸を加え反応を止めた。
却後アルカリ水溶液を加え、ナトリウム塩とし、エーテ
ル洗浄した。アルカリ層は、再度酸性とした後、エーテ
ル抽出を行なった。このエーテル層は飽和食塩水でよく
洗浄し、乾燥後、減圧下エーテルを留去し、油状物を得
た。この油状物を減圧蒸留しカルホン酸a14F(80
%)を得た。bp 148〜b 第8段 6−メチルオクタノ−ルー1の製造 100m1の三ツロフラスコに、水素化リチウムアルミ
ニウム1.96f、乾燥エーテル60ntlを入れ、水
冷下乾燥エーテル2omlに溶かした6−メチルオクタ
ノイック酸(第7段で得られた)81を注意深く滴下し
た。滴下後、さらに18時間室温で反応し、氷水及び希
塩酸を加え反応を止めた。
エーテル抽出後、エーテル層は、2NHc115%#u
OH水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、エーテルを留去
した。得られた油状物を減圧蒸留し、5、68 ? (
76チ)のアルコールを得た。
OH水、飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、エーテルを留去
した。得られた油状物を減圧蒸留し、5、68 ? (
76チ)のアルコールを得た。
bp 111〜b
第9段
1−ブロモ−6−メチルオクタンの製造100m1の4
つロフラスコに、第8段で得られた6−メチルオクタノ
−ルー15y、載録ビリジy1.02F、乾燥ニー7−
/l/30mlヲ入れ、コノ混合物に水冷下、三臭化リ
ン3.859を30分にわたって滴下した。滴下後、ゆ
っぐシと室温にもどしながら、7時間半反応した。反応
終了後、沈殿物をP別し、エーテル抽出を行ない、この
エーテル層は、5 % A’uQHs 2 NHCl
s 水、飽和食m 水で洗浄し、乾燥後、エーテルを留
去した。残渣をbp 106〜112℃/ 26 mm
Hg第10段 p−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸の製造 501nlの三ツロフラスコに、水酸化ナトリウム2.
01f、水1oml、 エタ7−#2 omlを入れ、
P−ヒドロキシ安息香酸5.16 fを加えて溶解させ
た。これに、光学活性な1−ブロモ−6−メチルオクタ
ン4.759を加え19時間還流下反応した。反応混合
物は、エーテルで洗浄し、アルカリ層は、r過後、塩酸
で酸性にし、析出した結晶をP取し、得られた粗結晶を
精製し%P(6−メチルオクチルオキシ)安息酸を4.
759 (75%)得た。
つロフラスコに、第8段で得られた6−メチルオクタノ
−ルー15y、載録ビリジy1.02F、乾燥ニー7−
/l/30mlヲ入れ、コノ混合物に水冷下、三臭化リ
ン3.859を30分にわたって滴下した。滴下後、ゆ
っぐシと室温にもどしながら、7時間半反応した。反応
終了後、沈殿物をP別し、エーテル抽出を行ない、この
エーテル層は、5 % A’uQHs 2 NHCl
s 水、飽和食m 水で洗浄し、乾燥後、エーテルを留
去した。残渣をbp 106〜112℃/ 26 mm
Hg第10段 p−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸の製造 501nlの三ツロフラスコに、水酸化ナトリウム2.
01f、水1oml、 エタ7−#2 omlを入れ、
P−ヒドロキシ安息香酸5.16 fを加えて溶解させ
た。これに、光学活性な1−ブロモ−6−メチルオクタ
ン4.759を加え19時間還流下反応した。反応混合
物は、エーテルで洗浄し、アルカリ層は、r過後、塩酸
で酸性にし、析出した結晶をP取し、得られた粗結晶を
精製し%P(6−メチルオクチルオキシ)安息酸を4.
759 (75%)得た。
第11段
6−クロロ−4−n−デシルオキシフェノールの製造
200m(!の四ツ目フラスコに、クロロヒドロキノン
252、臭化n−デシル312、無水炭酸カリウム19
.29. ジメチルホルムアミドを入れ、窒素気流下7
0〜80℃で8時間反応させた。常法によシ処理した後
、得られた油状物をシリカゲルクロマトグラフィーにて
分離精製し、6−クロロ−4−11−デシルオキシフェ
ノール18rを得aX 5.85. broad s 、 1Hs、qs、tJ
=6.2H 第12段 3 、:I 00−4− n−テシルオギシフェニル、
4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エステルの
製造 光学活性な4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
1.17 fに塩化チオニル5 mlを加え、5.5時
間還流下反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、
油状の酸塩化物を得た。
252、臭化n−デシル312、無水炭酸カリウム19
.29. ジメチルホルムアミドを入れ、窒素気流下7
0〜80℃で8時間反応させた。常法によシ処理した後
、得られた油状物をシリカゲルクロマトグラフィーにて
分離精製し、6−クロロ−4−11−デシルオキシフェ
ノール18rを得aX 5.85. broad s 、 1Hs、qs、tJ
=6.2H 第12段 3 、:I 00−4− n−テシルオギシフェニル、
4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エステルの
製造 光学活性な4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
1.17 fに塩化チオニル5 mlを加え、5.5時
間還流下反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、
油状の酸塩化物を得た。
この酸塩化物に、水冷下6−クロo −4−H−デシル
オキシフェノール1.26f、乾燥ピリジン5mlを加
え入れ、ゆつく9と室・温にもどしながら一昼夜反応し
た。反応終了後、沈殿物をr別し、エーテル抽出した。
オキシフェノール1.26f、乾燥ピリジン5mlを加
え入れ、ゆつく9と室・温にもどしながら一昼夜反応し
た。反応終了後、沈殿物をr別し、エーテル抽出した。
有機層は、水、2NH(:1 。
5%A’aoHで順次洗浄し、中性になるまで、水、b
rineで洗浄後、乾燥し有機溶媒を減圧下留去した。
rineで洗浄後、乾燥し有機溶媒を減圧下留去した。
得られた粗生成物を繰り返し精製することにより目的の
エステル0.859 (36% )を得た。
エステル0.859 (36% )を得た。
4.03 、tJ−6,4H−CH20−×2
この化合物は以下のような転移温度を示しだ。
(*印は過冷却を示す。)
表面をラビング処理した、透明電極を有する2枚の基板
をラビング方向が180℃の角度となるようにして、2
.8μmの間けきをもつように組み立て、このセルを5
0℃に加熱し、この化合物を注入し、22℃まで01℃
/min以下の速度で徐冷した。かかる液晶セルを2枚
の偏光板の間にはさみ%10V%11(Z の交流を印
加すると、111zの電界の極性の切りかえに応答して
表示状態を変化するのが観察された。22℃での応答速
度を測定すると、3.4 ms であった。
をラビング方向が180℃の角度となるようにして、2
.8μmの間けきをもつように組み立て、このセルを5
0℃に加熱し、この化合物を注入し、22℃まで01℃
/min以下の速度で徐冷した。かかる液晶セルを2枚
の偏光板の間にはさみ%10V%11(Z の交流を印
加すると、111zの電界の極性の切りかえに応答して
表示状態を変化するのが観察された。22℃での応答速
度を測定すると、3.4 ms であった。
実施例2
光学活性6.3−クロロ−4−n−へキシルオキシフェ
ニル、4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エス
テル 光学活性な4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
t 12 fに塩化チオニル5mlを加え、6時間還流
丁反応した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、油状の酸塩化物を得た。
ニル、4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エス
テル 光学活性な4−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
t 12 fに塩化チオニル5mlを加え、6時間還流
丁反応した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去
し、油状の酸塩化物を得た。
この得られた酸塩化物に、水冷下実施例1と同様にして
得られた6−クロロ−4−n−へキシルオキシフェノー
ル0.96f、乾燥ピリジン3 rnlを入れ、ゆっく
りと室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応後、沈
殿物を沢別し、エーテル抽出した。有機層は、水、2N
HC1,5%A’ao)(で順次洗浄後、さらに水、b
rineで中性になるまで洗浄乾燥し、エーテルを減圧
下留去した。得られた粗生成物を繰返し精製し、1.3
1F(65%)のエステルを得た。
得られた6−クロロ−4−n−へキシルオキシフェノー
ル0.96f、乾燥ピリジン3 rnlを入れ、ゆっく
りと室温にもどしながら、−昼夜反応した。反応後、沈
殿物を沢別し、エーテル抽出した。有機層は、水、2N
HC1,5%A’ao)(で順次洗浄後、さらに水、b
rineで中性になるまで洗浄乾燥し、エーテルを減圧
下留去した。得られた粗生成物を繰返し精製し、1.3
1F(65%)のエステルを得た。
4.04、tJ=6.4H1−C■12−0×2本化合
物の転移温度は、以下の如しである。
物の転移温度は、以下の如しである。
* *
(*印は過冷却を示す。)
この化合物のSC*相は強誘電性を示し、室温状態で電
気光学的応答をすることが明らかになった。
気光学的応答をすることが明らかになった。
実施例3
光学活性な6−クロロ−4−n−オクチルオキシフェー
ル、!−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エステ
ルの合成方法。
ル、!−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸エステ
ルの合成方法。
光学活性な1−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
4.94 Fに塩化チオニル50m/!を加え入れ、9
時間還流下反応した後、過剰の塩化チオニルを減圧下留
去し、油状の酸塩化物を得た。
4.94 Fに塩化チオニル50m/!を加え入れ、9
時間還流下反応した後、過剰の塩化チオニルを減圧下留
去し、油状の酸塩化物を得た。
naX
得られた4′−(6−メチルオクチルオキシ)安息香酸
クロリドに水冷下実施例1と同様にして得られた6−ク
ロロ−4−オクチルオキシフェノール4.8f、乾燥ピ
リジン15m1を加え入れ、ゆっくりと室温にもどしな
がら、−昼夜反応した。反応終了後、沈殿物をr別し、
エーテル抽出した。
クロリドに水冷下実施例1と同様にして得られた6−ク
ロロ−4−オクチルオキシフェノール4.8f、乾燥ピ
リジン15m1を加え入れ、ゆっくりと室温にもどしな
がら、−昼夜反応した。反応終了後、沈殿物をr別し、
エーテル抽出した。
有機層は、水、zNi(ux 5%N’ a o l(
で順次洗浄後水、飽和食塩水で中性になるまで洗浄した
。この有機層を、乾燥し、減圧下エーテルを留去し粗生
成物を得た。これを繰返し精製しエステル5.45f(
58襲)を得た。
で順次洗浄後水、飽和食塩水で中性になるまで洗浄した
。この有機層を、乾燥し、減圧下エーテルを留去し粗生
成物を得た。これを繰返し精製しエステル5.45f(
58襲)を得た。
4.05 、tJ=6.4H,−CH2’−×2
この化合物の転移温度は以下の如くである。
*
(*印は、過冷却を示す。)
この化合物の8C* 相は、強誘電性を示し、室温状態
で電気光学的応答をすることが判った。
で電気光学的応答をすることが判った。
実施例4
本発明の実施例1の化合物3−クロロ−4−n−デシル
オキシフェニル、4’−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸エステル50重量%と、公知の化合物4−ノニ
ルオキシ安息香酸、イー(2−メチルプチルオキシ)フ
ェニルエステル50重量%を混合溶解し、液晶組成物を
得た。
オキシフェニル、4’−(6−メチルオクチルオキシ)
安息香酸エステル50重量%と、公知の化合物4−ノニ
ルオキシ安息香酸、イー(2−メチルプチルオキシ)フ
ェニルエステル50重量%を混合溶解し、液晶組成物を
得た。
この液晶組成物は、18℃から42℃の範囲でSC*
相を呈し、強誘電性を示した。この液晶組成物を実施例
1と同様の構成で間げきが32μmの液晶セルに、加熱
溶融して注入し、25℃まで徐冷した。この液晶セルを
偏光軸を直交させた2枚の偏光板の間に挟み、電圧を印
加し、極性を反転させると表示状態がon−off す
るのが観察された。この2枚の偏光板の軸方向を最大コ
ントラストが得られるように設定し、25℃で±10V
の電圧を印加するとコントラスト15、応答速度4.3
rnsの特性が得られた。
相を呈し、強誘電性を示した。この液晶組成物を実施例
1と同様の構成で間げきが32μmの液晶セルに、加熱
溶融して注入し、25℃まで徐冷した。この液晶セルを
偏光軸を直交させた2枚の偏光板の間に挟み、電圧を印
加し、極性を反転させると表示状態がon−off す
るのが観察された。この2枚の偏光板の軸方向を最大コ
ントラストが得られるように設定し、25℃で±10V
の電圧を印加するとコントラスト15、応答速度4.3
rnsの特性が得られた。
以上、実施例で示したように、本発明の化合物は、室温
を含め、低温度域でSC* 相を呈し、強誘電性を有す
る液晶材料であり、室温を含む広い温度範囲のカイラル
スメクチック液晶組成を得ていく上で、有効な成分とな
り得る。
を含め、低温度域でSC* 相を呈し、強誘電性を有す
る液晶材料であり、室温を含む広い温度範囲のカイラル
スメクチック液晶組成を得ていく上で、有効な成分とな
り得る。
第1図はスメクチックC*相または■1相の模式図であ
り、第2図は、カイラルスメクチック相の液晶分子の電
界によるコーンにそった運動を示す模式図である。 以上 出願人セイコー電子工業株式会社 帝国化学産業株式会社 箒1図 第2図
り、第2図は、カイラルスメクチック相の液晶分子の電
界によるコーンにそった運動を示す模式図である。 以上 出願人セイコー電子工業株式会社 帝国化学産業株式会社 箒1図 第2図
Claims (1)
- (1)一般式 (上式中、nは1〜12、*印を不整炭素原子を示す)
で表わされる光学活性存3−クロロ、4−n−アルコキ
シフェニル、1−(6−メーy−ルオクチルオキシ)安
息香酸エステルの構造を有する液晶化学物質。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19214383A JPS6084387A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 液晶化学物質 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19214383A JPS6084387A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 液晶化学物質 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6084387A true JPS6084387A (ja) | 1985-05-13 |
| JPH0258252B2 JPH0258252B2 (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=16286405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19214383A Granted JPS6084387A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 液晶化学物質 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6084387A (ja) |
-
1983
- 1983-10-14 JP JP19214383A patent/JPS6084387A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0258252B2 (ja) | 1990-12-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2337829B1 (en) | Chiral compounds, cholesteric and ferroelectric liquid crystal compositions comprising these chiral compounds, and liquid crystal displays comprising these liquid crystal compositions | |
| EP0175591A2 (en) | Lactic acid derivative, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device | |
| JPS62169765A (ja) | 含ハロゲンヘテロ環化合物及び液晶組成物 | |
| JPH0794406B2 (ja) | 液晶性置換ビフエニルエステル類 | |
| JPS608719B2 (ja) | 新規な有機化合物より成る液晶材料 | |
| JPH0699392B2 (ja) | 強誘電性ピリジン化合物及び液晶組成物 | |
| JPH0623135B2 (ja) | 液晶物質及び液晶組成物 | |
| JPS6117541A (ja) | 液晶化合物 | |
| JP4169692B2 (ja) | アントラキノン化合物、液晶組成物、セル及びそれを用いた表示素子 | |
| US5202054A (en) | Liquid crystal compound | |
| JPS63165371A (ja) | ピリミジン化合物 | |
| EP0168963A2 (en) | Liquid crystal compound | |
| JP3021477B2 (ja) | 三安定状態で駆動する光学素子用液晶 | |
| JPS6084387A (ja) | 液晶化学物質 | |
| JPH0353294B2 (ja) | ||
| JPH0211578B2 (ja) | ||
| JPH0572380B2 (ja) | ||
| JPS6051147A (ja) | 液晶物質及び液晶組成物 | |
| JPS61129169A (ja) | 液晶化合物 | |
| JPH01301639A (ja) | 光学活性化合物及び液晶組成物 | |
| JP3037785B2 (ja) | フルオロトリフルオロメチル化合物 | |
| JPH0420422B2 (ja) | ||
| JP2663171B2 (ja) | 光学活性化合物及びその用途 | |
| JP2965634B2 (ja) | ピリジン系液晶化合物 | |
| JP3073760B2 (ja) | ピリミジン系液晶化合物 |