JPH04111220A - 磁気記録媒体およびその製造法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造法Info
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- JPH04111220A JPH04111220A JP22817390A JP22817390A JPH04111220A JP H04111220 A JPH04111220 A JP H04111220A JP 22817390 A JP22817390 A JP 22817390A JP 22817390 A JP22817390 A JP 22817390A JP H04111220 A JPH04111220 A JP H04111220A
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- JP
- Japan
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- ferromagnetic metal
- layer
- magnetic recording
- metal layer
- passivation
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はコバルト(Co)系の強磁性金属層を記録層と
する磁気記録媒体に係わり、さらに詳しくは強磁性金属
層の不動態化処理が迅速に行える構造のCoもしくはC
oを主成分とする強磁性金属層を設けた5生産性が棲め
て良好で、かつ耐食性ならびに耐久性に優れた信頼性の
高い磁気記録媒体およびその製造法に関する。
する磁気記録媒体に係わり、さらに詳しくは強磁性金属
層の不動態化処理が迅速に行える構造のCoもしくはC
oを主成分とする強磁性金属層を設けた5生産性が棲め
て良好で、かつ耐食性ならびに耐久性に優れた信頼性の
高い磁気記録媒体およびその製造法に関する。
コバルト(Co)もしくはCoを主成分とする強磁性金
属層を記録層とする磁気記録媒体は、高密度記録に適し
た磁気特性を有し、その有用性は広く知られている。し
かし、Co系の強磁性金属層は、耐食性元素(Cr等)
を多量に含む場合を除き、大気中において腐食され易く
、そのため磁気特性の劣化が著しく磁気記録媒体として
の耐久性ならび信頼性に欠けるという問題があった。例
えば、VTR用テープなどにおいては、この大気中にお
ける腐食問題は信頼性の点で致命的な欠点となるもので
ある。
属層を記録層とする磁気記録媒体は、高密度記録に適し
た磁気特性を有し、その有用性は広く知られている。し
かし、Co系の強磁性金属層は、耐食性元素(Cr等)
を多量に含む場合を除き、大気中において腐食され易く
、そのため磁気特性の劣化が著しく磁気記録媒体として
の耐久性ならび信頼性に欠けるという問題があった。例
えば、VTR用テープなどにおいては、この大気中にお
ける腐食問題は信頼性の点で致命的な欠点となるもので
ある。
このCo系強磁性金属層の大気中における腐食を防止す
る目的で従来、例えば磁性層(記録層)表面に防錆剤(
酸化防止剤)を含有するトップコート層を塗布する方法
(特開昭60−223025号公報)が提案されている
。また他方において、磁性層表面にレーザ光線等を照射
して熱酸化させる方法(特開昭58−130428号公
報)、グロー放電によって酸化物保護層を形成させる方
法(特開昭58−41439号公報)、水蒸気処理によ
り耐食性被膜を形成させる方法(特開昭57−1235
33号公報)、オゾン雰囲気に曝すことにより酸化物保
護層を形成させる方法(特開昭59−63031号公報
)あるいは高温高湿の雰囲気下で処理して酸化物保護層
を形成させる方法(米国特許第3460968号)など
、少なくともスピネル(Co304)またはCo□03
・H2O等の形で示される安定な高次酸化物からなるG
。
る目的で従来、例えば磁性層(記録層)表面に防錆剤(
酸化防止剤)を含有するトップコート層を塗布する方法
(特開昭60−223025号公報)が提案されている
。また他方において、磁性層表面にレーザ光線等を照射
して熱酸化させる方法(特開昭58−130428号公
報)、グロー放電によって酸化物保護層を形成させる方
法(特開昭58−41439号公報)、水蒸気処理によ
り耐食性被膜を形成させる方法(特開昭57−1235
33号公報)、オゾン雰囲気に曝すことにより酸化物保
護層を形成させる方法(特開昭59−63031号公報
)あるいは高温高湿の雰囲気下で処理して酸化物保護層
を形成させる方法(米国特許第3460968号)など
、少なくともスピネル(Co304)またはCo□03
・H2O等の形で示される安定な高次酸化物からなるG
。
不動態層を設ける方法が提案されている。
しかし、上記従来技術における防錆剤を塗布する方法は
、量産ベースにおいて防錆剤が磁性層表面に付着しない
部分が生じるなどの塗布むらが発生したり、さらには防
錆剤を塗布しても下地の金属磁性層となじみ難いために
、金属磁性層によく吸着した防錆剤層を形成させること
が難しく、対ヘツド摺動強度が不足するなどの問題があ
った。
、量産ベースにおいて防錆剤が磁性層表面に付着しない
部分が生じるなどの塗布むらが発生したり、さらには防
錆剤を塗布しても下地の金属磁性層となじみ難いために
、金属磁性層によく吸着した防錆剤層を形成させること
が難しく、対ヘツド摺動強度が不足するなどの問題があ
った。
他方、Co不動態層の形成による防食化は、G。
の酸化物保護層が薄く均一であり、電磁変換特性の面か
ら言ってスペーシングロスが極めて少なく理想的である
が、実際の量産において長尺物を短時間のうちに不動態
化処理を行うという技術がこれまでにはなかった。
ら言ってスペーシングロスが極めて少なく理想的である
が、実際の量産において長尺物を短時間のうちに不動態
化処理を行うという技術がこれまでにはなかった。
上述したごとく、従来のCoもしくはCoを主成分とす
る強磁性金属層を磁気記録層(磁性層)とする磁気記録
媒体において、磁性層の表面を不動態化処理して安定し
たCo不動態層を形成させるためには多大の時間を必要
とし、そのため磁気記録媒体の生産性が極めて低いとい
う問題があった。
る強磁性金属層を磁気記録層(磁性層)とする磁気記録
媒体において、磁性層の表面を不動態化処理して安定し
たCo不動態層を形成させるためには多大の時間を必要
とし、そのため磁気記録媒体の生産性が極めて低いとい
う問題があった。
本発明は、上記従来技術における問題点を解消するもの
であって、磁性層表面の不動態化処理が迅速に行える構
造のCoもしくはcoを主成分とする強磁性金属層を有
する極めて生産性が良く、耐食性ならびに耐久性に優れ
た信頼性の高い磁気記録媒体およびその製造法を提供す
ることにある。
であって、磁性層表面の不動態化処理が迅速に行える構
造のCoもしくはcoを主成分とする強磁性金属層を有
する極めて生産性が良く、耐食性ならびに耐久性に優れ
た信頼性の高い磁気記録媒体およびその製造法を提供す
ることにある。
本発明者は、Co系磁性層の不動態化のメカニズムにつ
いて検討した結果、不動態化処理によって磁性層は表面
部のみ酸化されるのではなく、磁性層の内部にまで酸化
が進むことが判明した。そして、磁性層内部までの酸化
が不動態化処理に要する時間を律しているものと思われ
る。また、不動態化反応は磁性層表面から進行するもの
であり、したがって不動態化反応にあずかる全磁性層の
膜厚を薄くすると不動態化反応が終了するまでの時間が
短くなり、不動態化処理が迅速に行えることになる。一
方、全磁性層の膜厚が厚いと、それだけ不動態化反応が
終了するまでの時間が長くなり、不動態化処理に要する
時間が多大となる6本発明は、上記の知見に基づき、非
磁性基板上に、CoもしくはCoを主成分とする第1の
強磁性金属層を形成し、該第1の強磁性金属層上に、C
o不動態化反応遮断性の酸化物よりなる中間層を設け、
該中間層上に、Co不動態化反応にあずかる膜厚が比較
的薄い上記成分の第2の強磁性金属層を積層し、該第2
の強磁性金属層を不動態化処理することにより、達成さ
れる。
いて検討した結果、不動態化処理によって磁性層は表面
部のみ酸化されるのではなく、磁性層の内部にまで酸化
が進むことが判明した。そして、磁性層内部までの酸化
が不動態化処理に要する時間を律しているものと思われ
る。また、不動態化反応は磁性層表面から進行するもの
であり、したがって不動態化反応にあずかる全磁性層の
膜厚を薄くすると不動態化反応が終了するまでの時間が
短くなり、不動態化処理が迅速に行えることになる。一
方、全磁性層の膜厚が厚いと、それだけ不動態化反応が
終了するまでの時間が長くなり、不動態化処理に要する
時間が多大となる6本発明は、上記の知見に基づき、非
磁性基板上に、CoもしくはCoを主成分とする第1の
強磁性金属層を形成し、該第1の強磁性金属層上に、C
o不動態化反応遮断性の酸化物よりなる中間層を設け、
該中間層上に、Co不動態化反応にあずかる膜厚が比較
的薄い上記成分の第2の強磁性金属層を積層し、該第2
の強磁性金属層を不動態化処理することにより、達成さ
れる。
本発明のCo系磁気記録媒体において、Co不動態化反
応遮断性の中間層は、アルミニウム、チタン、ニッケル
、鉄などの酸化物が好ましく、不動態化反応を阻止する
材料からなる薄膜であればよく、特にその種類や成分組
成を特定するものではない。そして、中間層の膜厚は、
50〜500人の範囲が好ましく、50人未満ではCo
不動態化反応の遮断効果が少なく、また500人を超え
ると磁気特性が低下するので好ましくない。
応遮断性の中間層は、アルミニウム、チタン、ニッケル
、鉄などの酸化物が好ましく、不動態化反応を阻止する
材料からなる薄膜であればよく、特にその種類や成分組
成を特定するものではない。そして、中間層の膜厚は、
50〜500人の範囲が好ましく、50人未満ではCo
不動態化反応の遮断効果が少なく、また500人を超え
ると磁気特性が低下するので好ましくない。
本発明のCo系磁気記録媒体において、Co不動態化反
応遮断性の酸化物よりなる中間層上に設ける第2の強磁
性金属層の膜厚は、10o〜1000人の範囲が好まし
く、100人未満ではCo不動態層の形成が不十分とな
り、また1000人を超えるとCo不動態化処理にかか
る時間が長くなり過ぎるので好ましくない。
応遮断性の酸化物よりなる中間層上に設ける第2の強磁
性金属層の膜厚は、10o〜1000人の範囲が好まし
く、100人未満ではCo不動態層の形成が不十分とな
り、また1000人を超えるとCo不動態化処理にかか
る時間が長くなり過ぎるので好ましくない。
本発明の磁気記録媒体を構成する第1および第2の強磁
性金属層は、Coの単体金属もしくはC。
性金属層は、Coの単体金属もしくはC。
を主成分とする合金層であって、Co−Ni、C。
−Cr、 Co −P 、 Co −Pd、 Co −
Fe、 Co −NiP、Co Fe Cr、Co
−Ni−Cr、Co−Fe−Ni、Co−Ti、Co−
Cuなどが好適に用いられる。
Fe、 Co −NiP、Co Fe Cr、Co
−Ni−Cr、Co−Fe−Ni、Co−Ti、Co−
Cuなどが好適に用いられる。
さらに本発明は、非磁性基板上に、真空蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティング等の物理蒸着法を用いて
、CoもしくはCoを主成分とする強磁性金属層を、C
o不動態化反応遮断性の酸化物よりなる中間層を介して
順次積層し、最上層の上記成分の強磁性金属層のみを不
動態化処理して、耐食性ならびに耐久性に優れた磁気記
録媒体を迅速に量産性よく製造する方法に関するもので
あって、 (1)非磁性基板上に、CoもしくはCoを主成分する
第1の強磁性金属層を形成する工程、(2)上記第1の
強磁性金属層上に、Co不動態化反応遮断性の酸化物か
らなる中間層を形成する工程、 (3)上記中間層上に、上記成分からなる第2の強磁性
金属層を形成する工程、 (4)上記第2の強磁性金属層を形成した後、酸素、空
気またはオゾンなどの酸化性雰囲気中での酸化処理、水
蒸気または高温高湿の酸化性雰囲気中での酸化処理、放
射線照射、グロー放電またはプラズマによる酸化処理の
うちより選ばれる少なくとも1種の酸化処理によって、
上記第2の強磁性金属層上にCo不動態層を形成する工
程、を含むものである。
リング、イオンプレーティング等の物理蒸着法を用いて
、CoもしくはCoを主成分とする強磁性金属層を、C
o不動態化反応遮断性の酸化物よりなる中間層を介して
順次積層し、最上層の上記成分の強磁性金属層のみを不
動態化処理して、耐食性ならびに耐久性に優れた磁気記
録媒体を迅速に量産性よく製造する方法に関するもので
あって、 (1)非磁性基板上に、CoもしくはCoを主成分する
第1の強磁性金属層を形成する工程、(2)上記第1の
強磁性金属層上に、Co不動態化反応遮断性の酸化物か
らなる中間層を形成する工程、 (3)上記中間層上に、上記成分からなる第2の強磁性
金属層を形成する工程、 (4)上記第2の強磁性金属層を形成した後、酸素、空
気またはオゾンなどの酸化性雰囲気中での酸化処理、水
蒸気または高温高湿の酸化性雰囲気中での酸化処理、放
射線照射、グロー放電またはプラズマによる酸化処理の
うちより選ばれる少なくとも1種の酸化処理によって、
上記第2の強磁性金属層上にCo不動態層を形成する工
程、を含むものである。
Co不動態層の膜厚は、特に限定するものではないが通
常の場合50〜100人程度あれば十分である。
常の場合50〜100人程度あれば十分である。
また、Co不動態層の上に、SiO(−酸化ケイ素)、
SiO□(二酸化ケイ素)などからなる保護膜を設ける
こともできる。
SiO□(二酸化ケイ素)などからなる保護膜を設ける
こともできる。
以下に本発明の一実施例を挙げ、図面を引用してさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
(実施例1)
第1図に示す構造の磁気記録媒体を、第2図に示す真空
蒸着装置を用いて作製した0図において、非磁性基板1
として、厚みが約9−のポリエチレンテレフタレート(
PET)を、原反ロール10より、ガイドロール11を
介して、直径が約60c醜の回転する円筒状キャンロー
ル9の周側面に沿って移動させ、ガイドロール12を介
して、巻取りロール13に巻取るようにセットすると共
に、強磁性金属蒸発源14の中に、Co−20wt%N
i合金よりなる強磁性金属15を充填した0次に、真空
排気系8を稼動させて、真空槽1内を約5X10−’ト
ル(Torr)にまで真空排気し、強磁性金属15を電
子線により加熱し溶解して強磁性金属を蒸発させて、蒸
着速度が約2000人/Sで、斜め入射蒸着を開始する
と同時に、酸素ガスを酸化性ガス導入管17より0.4
fl/分の割合でPETフイルムからなる非磁性基板1
に吹きつけながら、第1図に示す第1のCo−Ni強磁
性金属層2を、約2000人の膜厚に形成させた。次に
、第2図に示す真空蒸着装置とほぼ同様の構造を有する
別室(図示せず)にて、晟を蒸発させて酸素ガスを吹き
つけながら酸化アルミニウムよりなるco不動態化反応
遮断層である中間層3を、約100人の膜厚に蒸着した
。その後、上記真空蒸着装置に再びセットして、第1の
Co−Ni強磁性金属層2の形成の場合とほぼ同様にし
て、上記中間層3の上に、G o −20wt%Ni合
金よりなる第2のCo−Ni強磁性金属層4を約100
人の膜厚に形成させた。
蒸着装置を用いて作製した0図において、非磁性基板1
として、厚みが約9−のポリエチレンテレフタレート(
PET)を、原反ロール10より、ガイドロール11を
介して、直径が約60c醜の回転する円筒状キャンロー
ル9の周側面に沿って移動させ、ガイドロール12を介
して、巻取りロール13に巻取るようにセットすると共
に、強磁性金属蒸発源14の中に、Co−20wt%N
i合金よりなる強磁性金属15を充填した0次に、真空
排気系8を稼動させて、真空槽1内を約5X10−’ト
ル(Torr)にまで真空排気し、強磁性金属15を電
子線により加熱し溶解して強磁性金属を蒸発させて、蒸
着速度が約2000人/Sで、斜め入射蒸着を開始する
と同時に、酸素ガスを酸化性ガス導入管17より0.4
fl/分の割合でPETフイルムからなる非磁性基板1
に吹きつけながら、第1図に示す第1のCo−Ni強磁
性金属層2を、約2000人の膜厚に形成させた。次に
、第2図に示す真空蒸着装置とほぼ同様の構造を有する
別室(図示せず)にて、晟を蒸発させて酸素ガスを吹き
つけながら酸化アルミニウムよりなるco不動態化反応
遮断層である中間層3を、約100人の膜厚に蒸着した
。その後、上記真空蒸着装置に再びセットして、第1の
Co−Ni強磁性金属層2の形成の場合とほぼ同様にし
て、上記中間層3の上に、G o −20wt%Ni合
金よりなる第2のCo−Ni強磁性金属層4を約100
人の膜厚に形成させた。
以上の手順で作製した磁気記録媒体の長尺原反ロールを
、別の反応容器(図示せず)に装入し、減圧もしくは真
空にした後、酸素ガスを1.5気圧の圧力に封入して、
Coの不動態化処理を4時間行った。なお、上記長尺原
反ロールの蒸着長さは500mとした。
、別の反応容器(図示せず)に装入し、減圧もしくは真
空にした後、酸素ガスを1.5気圧の圧力に封入して、
Coの不動態化処理を4時間行った。なお、上記長尺原
反ロールの蒸着長さは500mとした。
(実施例2)
実施例1におけるCo不動態化反応遮断層である中間層
を、チタン酸化物(TiO2など)層として約100人
の膜厚に蒸着した他は、実施例1と同様にして磁気記録
媒体を作製した。
を、チタン酸化物(TiO2など)層として約100人
の膜厚に蒸着した他は、実施例1と同様にして磁気記録
媒体を作製した。
(実施例3)
実施例1におけるCo−Ni強磁性金属層に代えて、C
o10O%の強磁性金属層とした他は、実施例1と同様
にして磁気記録媒体を作製した。
o10O%の強磁性金属層とした他は、実施例1と同様
にして磁気記録媒体を作製した。
(比較例1)
実施例1における中間層および第2のCo−Ni強磁性
金属層の形成を省略した他は、実施例1と同様にして磁
気記録媒体を作製した。
金属層の形成を省略した他は、実施例1と同様にして磁
気記録媒体を作製した。
(比較例2)
実施例1におけるCo不動態化処理を省略した他は、実
施例1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
施例1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
以上の各実施例および比較例において作製した磁気記録
媒体の原反から切り出した磁気テープの飽和磁化Ms(
実施例1の場合を100とする)と、60℃、90%R
Hの雰囲気中に1週間静置した場合の飽和磁化Msの減
少率ΔMs(%)について調べた。その結果を、第1表
に示す。
媒体の原反から切り出した磁気テープの飽和磁化Ms(
実施例1の場合を100とする)と、60℃、90%R
Hの雰囲気中に1週間静置した場合の飽和磁化Msの減
少率ΔMs(%)について調べた。その結果を、第1表
に示す。
さらに、上記各実施例および比較例で作製した磁気記録
媒体の原反ロールの芯部を、媒体の全幅で長さ50cm
の大きさにサンプリングして、60℃、90%RHの雰
囲気中で1週間静置して、媒体の磁性層表面の色の変化
(腐食すると変色する)から形成されたCoの不動態層
の面積比(%)を調べた。その結果を、第2表に示す。
媒体の原反ロールの芯部を、媒体の全幅で長さ50cm
の大きさにサンプリングして、60℃、90%RHの雰
囲気中で1週間静置して、媒体の磁性層表面の色の変化
(腐食すると変色する)から形成されたCoの不動態層
の面積比(%)を調べた。その結果を、第2表に示す。
以上の第1表および第2表から明らかなごとく、本発明
のCo不動態化反応遮断性の中間層を有する磁気記録媒
体は、Coの不動態化処理時間が従来は数日間要したも
のを、わずか数時間程度でほぼ100%不動態化させる
ことができ、また従来の磁気記録媒体における磁性層の
不動態化に見られるような磁性層の内部までの酸化が起
らないから、磁性層の飽和磁化Msも維持することがで
き、磁気特性の劣化は生じない。
のCo不動態化反応遮断性の中間層を有する磁気記録媒
体は、Coの不動態化処理時間が従来は数日間要したも
のを、わずか数時間程度でほぼ100%不動態化させる
ことができ、また従来の磁気記録媒体における磁性層の
不動態化に見られるような磁性層の内部までの酸化が起
らないから、磁性層の飽和磁化Msも維持することがで
き、磁気特性の劣化は生じない。
以上詳細に説明したごとく、本発明のCo不動態化反応
遮断性の中間層を介して、Co系強磁性金属層を積層し
て設けた構造の磁気記録媒体は、Coの不動態化処理時
間を飛躍的に短縮させることが可能であり、かつ上記中
間層によって磁性層の内部にまで酸化が進行することが
ないので、良好な飽和磁化を示し、また飽和磁化の減少
率も小さく、磁気特性の劣化が極めて少ない耐食性なら
びに耐久性に優れた信頼性の高い磁気記録媒体が得られ
る。
遮断性の中間層を介して、Co系強磁性金属層を積層し
て設けた構造の磁気記録媒体は、Coの不動態化処理時
間を飛躍的に短縮させることが可能であり、かつ上記中
間層によって磁性層の内部にまで酸化が進行することが
ないので、良好な飽和磁化を示し、また飽和磁化の減少
率も小さく、磁気特性の劣化が極めて少ない耐食性なら
びに耐久性に優れた信頼性の高い磁気記録媒体が得られ
る。
第1図は本発明の実施例1において作製した磁気記録媒
体の断面構造を示す模式図、第2図は実施例1において
用いた真空蒸着装置の構成を示す模式図である。 1・・・非磁性基板 2・・・第1のCo−Ni強磁性金属層3・・・中間層
(酸化物層) 4・・・第2のCo−Ni強磁性金属層5・・・Co不
動態層 7・・・真空槽8.9・・・円筒状キャ
ンロール 10・・・原反ロール 11.12・・・ガイド
ロール13・・・巻取りロール 14・・・強磁性
金属蒸発源15・・・強磁性金属 16・・・防
着板17・・・酸化性ガス導入管 18・・・不活性ガ
ス導入管代理人弁理士 中 村 純之助 第1
体の断面構造を示す模式図、第2図は実施例1において
用いた真空蒸着装置の構成を示す模式図である。 1・・・非磁性基板 2・・・第1のCo−Ni強磁性金属層3・・・中間層
(酸化物層) 4・・・第2のCo−Ni強磁性金属層5・・・Co不
動態層 7・・・真空槽8.9・・・円筒状キャ
ンロール 10・・・原反ロール 11.12・・・ガイド
ロール13・・・巻取りロール 14・・・強磁性
金属蒸発源15・・・強磁性金属 16・・・防
着板17・・・酸化性ガス導入管 18・・・不活性ガ
ス導入管代理人弁理士 中 村 純之助 第1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基板上に、コバルト(Co)もしくはCoを
主成分とする強磁性金属層からなる磁気記録層を設けた
磁気記録媒体において、上記磁気記録層は、上記基板上
に上記成分の第1および第2の強磁性金属層を、酸化物
よりなる中間層を介して順次積層し、上記第2の強磁性
金属層上に、不動態化処理によりCo不動態層を形成し
てなることを特徴とする磁気記録媒体。 2、請求の範囲第1項において、第2の強磁性金属層の
厚みが100〜1000Åの範囲であることを特徴とす
る磁気記録媒体。 3、請求の範囲第1項または第2項において、酸化物よ
りなる中間層の厚みが50〜200Åの範囲であること
を特徴とする磁気記録媒体。 4、非磁性基板上に、真空蒸着、スパッタリングまたは
イオンプレーティングによる物理蒸着法を用いて、コバ
ルト(Co)もしくはCoを主成分とする強磁性金属層
を、酸化物よりなる中間層を介して順次積層し、該強磁
性金属層上にCo不動態層を形成してなる磁気記録媒体
の製造方法であって、非磁性基板上に、上記成分からな
る第1の強磁性金属層を形成する工程と、該第1の強磁
性金属上に、酸化物よりなる中間層を形成する工程と、
該中間層上に、上記成分よりなる第2の強磁性金属層を
形成する工程と、該第2の強磁性金属層上に、Co不動
態層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒
体の製造法。 5、請求の範囲第4項において、Co不動態層を形成す
る工程は、酸素、空気またはオゾンを含む酸化性雰囲気
中での処理、水蒸気または高温高湿の酸化性雰囲気中で
の処理、放射線照射、グロー放電またはプラズマによる
酸化処理のうちより選ばれる少なくとも1種のCo不動
態化処理によることを特徴とする磁気記録媒体の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22817390A JPH04111220A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22817390A JPH04111220A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04111220A true JPH04111220A (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16872366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22817390A Pending JPH04111220A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気記録媒体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04111220A (ja) |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP22817390A patent/JPH04111220A/ja active Pending
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