JPS6090304A - 被覆光フアイバ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被接光ファイバに１２ｊする。本発明は特に、
紫外線硬化性シリコーン組成物を光ファイバに被覆して
、光フアイバ上にファイバを通過する光インパルスの減
衰を防止する可撓性で低い蟹着性の被膜を形成する方法
に関する。

発明の背景 現在発展しつつある光遠隔通信の分野では、銅またはア
ルミニウム線を通る電気と同様の方法で、光を用いて透
明媒体を経て情報を伝送する。

電磁放射線の情報搬送容量は周波数と共に増加するので
、可視放射線（光）の帯域で取扱い得る通信量は潜在的
には無線通信の数千倍である。

１９６０年前後にレーザー用の適当な光源が発見されて
以来、遠隔光通信にとっての唯一の技術的障害は適当な
伝送媒体の開発にあった。例えば空気は光が透過できる
けれども、雨、霧その他の大気状態が光信号を弱める（
即ち「減衰」する）ので不適当であった。ガラスファイ
バ光導体、即ち光ファイバの開発によシ、比較的安価な
優れた伝送媒体が得られた。

現代の光ファイバは、典型的には、光を伝達する高透明
度シリカガラスのコアを屈折率がコアよシ低い透明被膜
で覆って構成される。被膜は内部鏡として作用し、光を
反射してコア内に戻し、こうして光信号が光路外へ失な
われるのを防止する。

低い屈折率の被膜の理論によシ比較的短距離の通信（例
えば、建物−建物間や校内）用の実用的光導体が得られ
たが、多数の光導体を一緒に束ねる長距離通信（例えば
大陸横断）では、信号「ノイズ」の問題が信号減衰より
重要になる。特定の情報搬送光波にとって、この第１光
波を乱す付随的もしくは偶発的光波（他の情報を搬送）
または信号はすべて「ノイズ」であり、これから望まし
い情報を抽出しなければならない。屈折率がコアファイ
バより高い被膜により光波伝送における信号ノイズを最
小にできることが見出された。

従って、屈折率がコアファイバ材料より高いか低い被覆
材料？さがす研究が続けられている。

シリカガラス光ファイバの場合、基準点Ｉｔ！　１．４
７、即ちシリカガラスファイバの屈折率である。これよ
シ低い、好ましくは１．４５より低い屈折率をもつ材料
、またはこれよシ高い、好ましくは１．５０よシ高い屈
折不全もつ材料が適当である。

遠隔通信用の光フアイバケーブルを製造する場合、−次
被繰に用いる材料は非常に柔軟（可撓性）で、ガラスフ
ァイバコアに余シ密に接着せず（接合その他の操作を許
容するため）、そして−６０℃から＋８０℃までの温度
サイクルを含めて変動する環境下でその一体性および光
学的特性を維持しなければならない。

多数の光フアイバ製造業者が一次光導体被膜として熱硬
化性ポリジメチルシロキサン被覆組成物を採用してきた
。代表的には、未被覆光ファイバをシリコーン組成物に
通して引張力、次いで８００℃の硬化用８インチ炉に通
す。シリコーン組成物を完全に硬化するのに必要な時間
が光ファイバを製造する際のライン速度を上げる上での
限定要因となっている。炉の温度をそれ以上あげるか炉
の長さを長くするとシリコーンが酸化され、引張られて
いるファイバも影響を受け始めるので、市販の熱硬化シ
リコーン被膜ではライン速度を約３０ｍ／分以上に増加
することができない。

製造速度をもつと速くしたいという願いから、光フアイ
バ製造業者は紫外線（ＵＶ）硬化性材料の研究に着手し
た。しかし、上記シリコーン材料に匹敵する特性の組合
せを有する被接組成物はまだ見出されていない。

本発明者は、ある種のＵＶ硬化性ポリシロキサン組成物
から、光フアイバ被０層に望ましい組合せの特性を示す
光フアイバ用の新しい被株材料が得られることを見出し
た。低い屈折率および高い屈折率の組成物の両方が見出
され、これらはすべて紫外線への短時間の露出で迅速に
硬化し、かくして熱硬化シリコーン材料に較べて安全、
硬化速度およびコストの面での顕著な利点が得られる。

発明の要旨 従って、本発明の目的は、光ファイバの一次被覆層用の
熱硬化ポリジメチルシロキサン組成物に代わる速硬性組
成物を提供することにある。

本発明の他の目的は、簡単かつ安全に被覆でき、紫外線
への短時間の露出で硬化することのできる光フアイバ用
被覆材料を提供することにある。

本発明の別の目的は、新しい低い屈折率の被覆組成物お
よび高い屈折率の被覆組成物を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、効率よく安価に製造でき、
各種の光波遠隔通信用途に適用可能な被覆光ファイバを
提供することにある。

本発明のさらにイ中の目的は、可撓性であり、コアファ
イバに密に接着せず、環境条件の大きな変化に耐え得る
硬化被膜を形成するとともに、製造ライン速度の上昇を
可能にする、光フアイバコアに一次被膜を被覆する方法
を提供することにある。

上記目的および他の目的を達成する紫外線硬化性被覆組
成物は、（Ａ）式ＲＲ’ＥＩｉＯ（式中のＲは水素また
は炭素原子数１〜８の一価炭化水素基でお９、Ｒ’は水
素、炭素原子数１〜２０の一価炭化水素基またはエポキ
シまたはビニル官能性を有する炭素原子数２〜２０の一
価有機基である）の単位を含むジオルガノポリシロキサ
ンおよび申）触媒量の光開始剤を含有する。

本発明においては、 仏）　高透明度シリカガラスのコアと、０３）上記コア
に被覆され、（ｉ）弐ＲＲ’８１０　（式中のＲは水素
または炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｒ′
は水素、炭素原子数１〜２ｏの一価炭化水素基またはエ
ポキシまたはビニル官能性を有する炭素原子数２〜２０
の一価有機基である）の単位を含むジオルガノポリシロ
キサンおよび（１１）触媒量の光開始剤を含有する紫外
線硬化性シリコーン被覆組成物よりなシ、屈折率が上記
シリカガラスよシ高いか低い被膜と、 からなる被覆光ファイバも考察されている。

本発明のさらに他の観点によれば、 （１）　（ｉ）式ＲＲ’ＳｉＯ（式中のＲは水素または
炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり　、ｒ”は水
素、炭素原子数１〜２０の一価炭化水素基またはエポキ
シまたはビニル官能性ケ有する炭素原子数２〜２０の一
価有機基である）の単位を含むジオルガノポリシロキサ
ンおよび（１１）触媒量の光開始剤を含有する紫外線硬
化性シリコーン被覆組成物を高透明度シリカガラスのコ
アファイバに被覆し、（２）　この被覆したコアファイ
バを十分な強度の紫外線に十分な時間露出して上記コア
ファイバ上の上記被覆組成物を硬化し、コアファイバ上
に屈折率がコアファイバよシ高いか低い可撓性の低い密
着性の環境安定性の被膜を形成する工程よりなる被覆光
ファイバの高速製造方法が提供される。

ここに開示されたポリシロキサン被覆材料の屈折率およ
び粘度を効果的に制御する方法も考えられている。

本発明の目的に合わせて、用語「低い密着国はガラス光
ファイバを覆う一次被覆層の望ましい特性に関係し、被
覆層が光ファイバに加える普通の機械的作業、例えば接
合を妨たげる程強くはコアファイバに接着しないことを
意味する。この用語はコアと被覆（−次被覆）層との光
学的関係には関係しない。また用語「環境安定性」は、
本発明の被覆材料が、ファイバが通常受ける環境変化、
特に約−６０℃から＋８０℃までの上下限間での温度変
化を通して、その一体性および光特性を維持する能力に
関係する。

発明の詳細 な説明の被徨光ファイバｔ−製造するには、速硬性でＵ
Ｖ硬化性のエポキシ官能性またはビニル官能性シリコー
ン被覆組成物を透明なシリカガラスファイバに被覆し、
次いでこれを紫外線に短時間露出する。本発明の被咎光
ファイバは、熱硬化ポリジメチルシロキサンで被覆され
たファイバに見られる望ましい特性の子べてを有し、同
時に製造能力を増し、エネルギー消費を減少し、紫外線
硬化の安全性を保証する。

紫外線（ｔｒｖ）は、コストが低く、管理が容易で、工
業的使用者への潜在的危害が少ないので、もつとも広範
に用いられている放射線の１つである。ＵＶ硬化性組成
物は極めて短い硬化時間を示すだけですく、熱硬化性材
料の使用に伴なう高いエネルギーコスト、環境的制約お
よび安全上の危険全回避できる。

本発明に用いるＵＶ硬化性組成物は、基本的には、２つ
の成分、即ち（ｉ）エポキシ官能性またはビニル官能性
オルガノポリシロキサンベース重合体と（１１）紫外線
露出時に組成物の迅速な硬化を促進し得る光開始剤とを
組合せてなる。

本発明で考慮されているエポキシ官能性オルガノポリシ
ロキサンベース重合体は、一般式ＲＲ’ＳｉＯｉ有する
単位よりｎる。ここでＲ１ｊ水素または炭素原子数１〜
Ｂの一価炭化水素基であシ、Ｒ′はＲと同じかエポキシ
官能性を有する炭素原子数２〜２０の一価有機基である
。エポキシシリコーン重合体は約２０重量％までのエポ
キシ官能基を有することができ、適当な光開始剤と組み
合わせて紫外線に露出されると硬化または架橋できなけ
ればならない。硬化した重合体組成物は光フアイバコア
より低いか高い屈折率のものでなければならず、可撓性
、コアファイバへの低い密着性および環境安定性を示さ
なければならない。

本発明で考慮されている好適なエポキシ官能性ポリジオ
ルガノシロキサンは、さらに特定すると、ポリシロキサ
ン単位が低級アルキル置換基、特にメチル基を含有する
ジアルキルエポキシ連鎖停止ポリジアルキルアルキルエ
ポキシシロキサン共重合体である。エポキシ官能性を得
るには、ポリジメチル−メチル水素シロキサン共重合体
のポリシロキサン鎖上の水素原子の幾つかを、ヒドロシ
ル化付加反応にて、エチレン系不飽和およびエポキシド
官能性の両方を含む他の有機分子と反応させる。エチレ
ン系不飽和種は触媒量の貴金属触媒の存在下で、ポリヒ
ドロアルキルシロキサンに付加して官能化求合体を形成
する。このような反応は他のシリコーン組成物にとって
は架橋機構であるが、本発明においては、制御された量
の架橋をシリコーン前駆体または中間流体に起させる。

このことを「予備架橋」と称する。シリコーン前駆流体
の予備架橋は組成物の部分的架橋または硬化が起ったこ
とを意味し、このことから、エネルギーをほとんど費消
せずかつ溶剤を用いる必要なくして、迅速なＵＶ開始硬
化？可能にするという利点が本発明に与えられる。

ＵＶ硬化性エポキシ官能性シリコーン中間流体は、予備
架橋されたエポキシ官能性のジアルキルエポキシ連鎖停
止ポリジアルキル−アルキルエポキシシリコーン共重合
体流体よりなシ、これはビニルまたはアリル官能性エポ
キシドおよび粘度が２５℃で約１〜１ｏ　ｏ、　ｏ　ｏ
　ｏセンチポアズであるビニル官能性シロキサン架橋用
流体を、粘度が２５℃で約１〜１０．　ＯＯＯセンチポ
アズである水素官能性シロキサン前駆流体と、ビニル官
能性架橋用流体、ビニル官能性エポキシドおよび水素官
能性シロキサン前駆流体間の付加硬化ヒドロシル化反応
を促進する有効量の貴金属触媒の存在下で反応させた、
反応生成物である。

ここで考えられている不飽和エポキシドは、＝８１Ｈ官
能基に容易に付加反応を受けるオレフィン成分を有する
多数の脂肪族または脂環式エポキシ化合物のいずれでも
よい。このような化合物の例には、１−メチル−４−イ
ソプロペニルシクロヘキセンオキシド（リモネンオキシ
ド；８０ＭＣｏｒｐ、製）、２．６−シメチルー２４３
−エポキシ−７−オクテン（ＥＩＣＭ　Ｃｏｒｐ、製）
および１，４−ジメチル−４−ビニルシクロヘキセンオ
キシド（Ｖｉｋｉｎｇ　（３ｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、製
）がある。リモネンオキシドが好適である。

本発明に関係するヒドロシル化反応用の貴金属触媒は、
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウムおよび白金の錯体を含む白金族金属錯体の群から
選択することができる。

ここでの目的に適当なヒドロシル化触媒の具体例が、米
国特許第′５．２２０．９７２号（Ｌａｍｏｒｅａｕｘ
　）、同第３．７１５．３３４号（Ｋａｒｓｔｅｄｔ　
）、同第３．７７５゜４５２号（Ｋａｒｓｔｅｄｔ　）
　および同第３．８１４゜７３０号（Ｋａｒｓｔｅｄｔ
　）　に記載されている。

本発明においては、ビニル官能性シロキサン架橋用流体
を、ジメチルビニル連鎖停止線状ポリジメチルシロキサ
ン、ジメチルビニル連鎖停止ポリジメチル−メチルビニ
ルシロキサン共重合体、テトラビニルテトラメチルシク
ロテトラシロキサンおよびテトラメチルジビニルジシロ
キサンよりなる群から選択することができる。水素官能
性シロキサン前側流体ケ、テトラヒドロテトラメチルシ
クロテトラシロキサン、ジメチル水素連鎖停止線状ポリ
ジメチルシロキサン、ジメチル水素連鎖停止ポリジメチ
ル−メチル水素シロキサン共重合体およびテトラメチル
ジヒドロジシロキサンよルなる群から選択することがで
きる。

本発明のエポキシ官能性ベース重合体に適切な光開始剤
には、一般式： を有するヨードニウム塩が含まれる。ここでＸは８ｂＦ
６、ＡθＦ６、ＰＦ’、およびＢＦ４から選択され、Ｒ
’は炭素原子数４〜２０の一価アルキルまたはハロアル
キル基であり、ｎは１〜５に等しい整数である。これら
の化合物が、米国特許第４．２７９．７１７号（Ｅｃｋ
ｂｅｒｇら）に開示されているように、エポキシ官能性
ポリシロキサンについてのＵＶ開始型のカチオン性開環
硬化機構を促進するのに極めて効率よいこと？確かめた
。

本発明のエポキシ官能性シリコーンと共に使用するヨー
ドニウム塩光開始剤の中では、「線状アルキレート」　
ドデシルベンゼンから誘導されたジアリールヨードニウ
ム塩が好適である。このような塩は一般式： （式中のｘはＳｂＦ、、ＡｓＦ４、ＰＦ６　またＦｉＢ
Ｂ”ｎである）を有する。これらのビス（４−ドデシル
フェニル）ヨードニウム塩は、広い範囲のエポキシ官能
性シリコーンのＵＶ硬化に極めて有効な開始剤である。

「線状アルキレート」　ドデシルベンゼンは工業的に周
知であり、ベンゼンのＯ（ＩＩ−％３）α−オレフィン
留分によるフリーデル−クラフトアルキル化反応によっ
て製造される。この結果、アルキレートは枝分れ鎖ドデ
シルベンゼンを支配的す景含有するが、実際にはドデシ
ルベンゼンの他の異性体、例エバエチルデシルベンゼン
と、ウレデシルベンゼン、トリデシルベンゼンなどの異
性体も多量に存在する。しかし、このような混合物が線
状アルキレート誘導触媒の分散的性質に寄与し、側斜を
流体に保持する助けとなる。これらの触媒は室温で自由
流動性の粘稠な流体である。

好適ナビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム塩はアル
カン溶解性かつ水不溶性であり、本発明の被薩組成物に
用いる好適なエポキシ官能性ポリシロキサンによく分散
する。ビス（４−ｎ−トリテシルフェニル）ヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートおよびビス（４−ｎ−
ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチ
モネートがもつとも好適である。

本発明で考えられているビニル官能性ベース重合体は、
実際には、ある種のラジカル光開始剤の存在下でＵＶ放
射線に露出されると硬化し得る光反応性ターポリマーで
ある。ターポリマーはジメチルビニル連鎖停止およびト
リメチル連鎖停止線状ポリジメチル−メチルビニル−メ
チル水素ンーロキサンターポリマー混合流体であシ、ポ
リメチル水素シロキサン流体、テトラメチルテトラビニ
ルシクロテトラ７０キサン（メチルビニルテトラマー）
およびオクタメチルシクロテトラシロキサン（ジメチル
テトラマー）の酸平衡化反応によシ合成することができ
る、 これらのビニル官能性ターポリマーは、有機基またはへ
テロ基、例えばオキサ、チオなどによシ融合または架橋
しうる２個以上のベンゼン項？有する。ポリ芳香族光増
感剤の存在下で硬化可能である。これらの光増感剤の中
ではベンゾフェノンおよびｔ−ブチルアントラキノンが
好適である。

ターポリマーは、次の一般式を有するある種のベルベン
ゾエートエステル（Ｊ　安息香酸エステル）の存在下で
も硬化することができる。

ここでＲ３は−価アルキルまたはアリール基であり、ｚ
は水素、アルコキシ、アルキル、ハロゲン、ニトロ、ア
ミノ、第一および第二アミノ、アミドなどである。２の
性質はペルオキシ結合の安定性に影響し、電子欠損置換
基はペルオキシ結合を安定化し、他方電子豊富置換基は
ペルオキシ結合をよシ反応性にする。好適なベルベンゾ
エートエステルには、ｔ−ブチルペルベンゾエートおよ
びそのパラ置換誘導体、例えばｔ−ブチルペルーツー二
トロベンゾエート、ｔ−ブチルペルーｐ−メトキシベン
ゾエート、ｔ−ブチルペルーｐ−メチルベンゾエートお
よびｔ−ブチルペルーｐ−クロロベンゾエートがある。

本発明の光反応性ポリシロキサンターポリマーおよびこ
れと共に効果的に用いられる光開始剤が、本出願に対応
する米国出願と同日付で出願された米国特許出願５２７
２９９に開示されている。

光開始剤の使用量は、適正な硬化が行われる限りで臨界
的でない。すべての触媒がそうであるように１最小有効
量を使用するのが好ましい。しかし、具体的に示すため
に、上述した化合物では約１〜５重量％の触媒レベルが
適当であることを確かめた。光開始剤の組合せも使用で
きる。

上述したエポキシ官能性およびビニル官能性ポリシロキ
サンは代表的には、シロキサン重合体鎖に泊った非エポ
キシまたは非ビニル置換基が水素または低級アルキルで
ある場合、低い屈折率、即ち１．４７より低い屈折率を
有する。ポリシロキサンの屈折率は、ジフェニルシロキ
シ単位も含有する重合体を組成配合することによシ増加
することができる。

前述したように、エポキシ官能性ポリジオルガノシロキ
サンは、ビニル官能性エポキシドをＳｉＨ含有ポリジオ
ルガノシロキサン、例えばポリジメチル−メチル水素シ
ロキサン共重合体と反応させることによって得ることが
できる。比較的高い屈折率？得るには、ジフェニルシロ
キシ含有およびＳ１Ｈ含有ポリシロキサンをジフェニル
ジクロロシラン、ジメチルジクロロシランおよびメチル
水素ジクロロシランの共加水分解により合成することが
でき、理論的にはこの重合体をビニル官能性エポキシド
と反応させて重合体にエポキシ官能性を付与することが
できる。しかし、このような線状高フェニルＳｉＨ重合
体に随伴し除去するのが困難な少量の酸残留物がエポキ
シドのオキシラン環を開裂する作用？なし、この結果光
反応性でないポリシロキサン會もたらす。この方法のも
う一つの雑煮は、屈折率ｉ　１．５０以上に上げるため
には、重合体に３０モルチ以上（５０重重量風上）のジ
フェニルシロキシ単位を含有させなければならず、高フ
ェニルポリシロキサンを非常に高価にする。

本発明の重要な特徴は、１．４７より大きい屈折率を有
するＵＶ硬化性エポキシ官能性シリコーンを製造する経
済的な方法を見出したことにあシ、これにより本発明の
組成物は広い範囲の光フアイバ被覆用途に適する。本発
明の好適な実施態様においては、高屈折率の組成物を製
造するのに、ＳｉＨ含有ポリシロキサンを炭素原子数１
〜２０のビニル官能性芳香族化合物（鎖上芳香族置換基
を得るために）およびビニル官能性エポキシド（エポキ
シ官能性置換基を得るために）の両方と反応させる。

ビニル官能性芳香族化合物は、少くとも１個の芳香族Ｗ
ｅ金含有るとともに、ヒドロシル化付加反応を介して８
１Ｈ基と反応して炭素−珪素結合を形成することのでき
る少くとも１個の脂肪族不飽和部位ケ含有する。エチニ
ルベンゼン（即チスチレン）がもつとも好適であるが、
当業者には他の多数のビニル芳香族化合物が自明であり
、これらも上記化合物に含まれるものとする。

ＥｌｉＨ含有ポリシロキャン七の反応において、ビニル
芳香族化合物および不飽和エポキシドを同時に導入（水
素化物反応位置に対して競合する）するか、または好ま
しくは順次導入することができ、順次に導入した方が最
終生成物のエポキシ官能度および屈折率をよく制御でき
る。組成物の屈折率を上げることがこのようなビニル芳
香族化合物を用いる主要目的であるので、ビニル芳香族
化合物を最初に反応させエポキシ官能性を次に加えるの
がもつとも好適である。ビニル芳香族化合物およびビニ
ル官能性エポキシドの正確な相対的使用量は、望ましい
屈折率および望ましい反応度に応じて、広い範囲で変え
ることができる。反応物質、その量、および反応条件を
適切に選択することにより、特定の要求に合わせた高い
屈折率のエポキシ官能性シリコーンヲ製造することがで
きる。

このような観点から、反応パラメータについて簡単な実
験を行うのがよい。

ヨードニウム塩光開始剤と他の既知の光開始剤との組合
せも考えられている。このような触媒ブレンドの中では
、ヨードニウム塩とフリーラジカル光開始剤、例えばア
セトフェノン誘導体との組合せが好適である。ジアリー
ルヨードニウム塩とジェトキシアセトフェノンの等量＜
　１　：　１　）ブレンドがもつとも好適である。

本発明のＵＶ硬化性シリコーン被覆組成物は、当秦界で
よく知られた方法で光ファイバに被覆される。例えば典
型的な例では、未被覆光ファイバを被覆溶液に通し、次
いでラインにのせて硬化室？通して引張る。前述したよ
うに、これまで硬化工程が被覆操作を行い得る速度の限
定要因であった。本発明に従って紫外線への短時間の露
出で硬化し得るエポキシ官能性シリコーン被覆組成物を
用いることによって、シリカガラスのコアファイバ上に
可撓性で低い密着性の環境安定性の一次被膜を設けるこ
とができ、しかもこの被膜を速いライン速度で、被覆材
料もしくはファイバを炉の高温にさらすことすく、施こ
すことができる。

本発明の組成物でライン速度の上昇が可能になったので
、被覆組成物の粘度が光ファイバの製造業者が考慮しな
ければならない追加の特性となることがわかった（後記
の実施例１〜３参照）。

一般に、製造速度が速い場合、約１０００　ｃｐｓ以下
の粘度ではファイバの１ぬれ」（つまり被覆）が不可能
であることがわかる。約１０．０００　ｃｐｓより高い
粘度では、被膜中に気泡が同伴し、−次被膜に信号減衰
の原因となる欠陥を生じることになる。

ビニル官能性エポキシドのＳｉＨ含有ポリシロキサンへ
のヒドロシル化付加反応を介して生成されるエポキシ官
能性シリコ−／の場合、最終生成物の粘度はＳｉＨ含有
前駆物質の粘度だけでなく、エポキシ官能性の程度にも
依存するので、予測が難しい。例えば、１０重量％のメ
チル水素シロキシ単位を含有する９　０　ｃｐｓ前駆流
体が１８重量係のリモネンオキシド？導入したエポキシ
官能性シリコーンに転換されると粘度約４００　ｃｐｓ
となり、１０重量係のメチル水素シ自キシ単位？含有す
る２　００　ｃｐｓ前駆流体は粘度１０００　ａｐｅの
エポキシ官能性シリコーンに転換される。そして、６重
ｉ％のメチル水素シロキシ単位を含有する２００ｃｐｓ
前駆流体に１１７重量％のリモネンオキシドを導入する
と粘度１０００　ａｐｅとなる。

ビニルＭＱシリコーン樹脂およびビニル官能性エポキシ
ドを所定の１３１Ｈ含有ポリシロキサンに同時付加する
と、粘度が樹脂含量に依存する生成物が得られることを
見出した。ここで考えられているビニルＭＱ樹脂は主と
して単官能性（Ｍ）単位または四官能性ＣＱ）単位を有
するポリシロキサンである。この樹脂のビニル基が、ポ
リシロキサン中の利用可能な水素化物位置について、ビ
ニル官能性エポキシドと競合する。こうして樹脂がエポ
キシ官能性ポリシロキサン生成物に導入される。

ビニルＭＱ、樹脂は弐Ｙｓ８ｉ０Ｈを有するＭ単位と弐
５ｉｌｌ　’ｉ有するＱ単位から構成され、Ｍ対Ｑ単位
の比が大体Ｃ１，５〜１．０、好ましくは約［１Ｌ６５
である。Ｙ基はそれぞれ独立に炭素原子数２以下の同じ
か異なる一価炭化水素基を示し、少くとも１個のＹ基が
ビニルでなければならない。このような基には、例えば
メチル、エチル、ビニルまたはエチニルがある。メチル
およびビニルが好ましい。これらの樹脂の全般的説明が
、ＩＪｏｌｌ　著［Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ　ｏｆ　５ｉｌｉｃｏｎｅｅ　Ｊ（第
２版、１９６８年）の第１および６章に見られる。

上記知見を利用した本発明の実施態様においては、最終
υＶ硬化性ポリシロキサン生成物が導入されたＭＱ樹脂
に対応する側鎖シロキシ基を含有する。これらのポリシ
ロキサンの場合、上述した式中のＲ′基の定義は、弐〇
ｉＯ％のＱシロキシ単位１〜２００個および弐Ｙｓ８１
０殉（式中のＹは１〜２個の炭素原子を有する一価炭化
水素基である）のＭシロキシ単位よシする枝分れオルガ
ノシロキサン基を包含するように拡張される。ここで本
発明のエポキシおよびビニル官能性重合体生成物を記述
するのに用いられている用語［ジオルガノポリシロキサ
ン」および「オルガノポリシロキサンベース重合体」ハ
、このような枝分れポリシロキサン側基も包含する十分
に広義な用語である。

高い屈折率の材料が望ましい場合、被覆組成物の粘度を
変える別法−これも系に屈折率増加用芳香族基を導入す
る−として、芳香族グリシジルエーテルを反応性希釈剤
として使用する。芳香族グリシジルエーテル反応性希釈
剤はエポキシ官能性も追加し、従って本発明の被覆組成
物の硬化特性を改良する。このことは、米国特許出願部
３７５．６７６号（１９８２年５月６日出願）において
、エポキシ重合体を加えたシリコーン紙剥離組成物につ
いて見出された通シである。

当業者が本発明の実施を一層よく理解できるように、以
下に実施例を限定としてではなく例示として示す。

実施例１〜３ ３種のエポキシ官能性シリコーン被覆組成物を、光フア
イバ被覆実験のために下記のように製造した。

サンプル１ ５重量部の２５０　ｃｐｓジメチルビニル連鎖停止ポリ
ジメチルシロキサン流体、３２０重量部のリモネンオキ
シド、および１重量部の白金触媒（白金−オクチルアル
コール６フ体）１１．ｏｏｏ３１量部のトルエンに加え
た。この混合物に室温でかきまぜながら、＋、　０００
重量部の１５０　ｃｐｓジメチル水素連鎖停止ポリジメ
チル−メチル水素シロキサン共重合体流体（約ａ７重量
係のミＳｉＨを含有する）を１時間にわたってゆつくシ
加えた。次に反応混合物？１２０℃で２１時間還流させ
、２１時間目に３０重量部のｎ−ヘキセンを加え、還流
をさらに４時間続けた。真空下１３０℃で溶剤をストリ
ッピング除去して、約１７．２重量％のリモネンオキシ
ド基を含有するｔ　０００　Ｑｐθのリモネンオキシド
官、能性ポリシロキサン流体倉得た。

ル１の場合と同じ手順を追って製造した。サンプル２は
約１４．０重量％のリモネンオキシド基を含有する６　
８０　ｃｐｓの流体で、サンプル３ｉｊ約１１．７重量
％のリモネンオキシド基を含有する７００ｃｐθの流体
であった。

３種の組成物をすべて１．５重量％のビス（ドデシルフ
ェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートカ
チオン性光開始剤と組合せた。

各被覆組成物を直径１０ミルの純シリカガラスファイバ
に、その延伸直後に被覆した。被覆装置は小さなカップ
の底部［０，０２５インチのオリフィスを取付けたもの
であった。延伸された光ファイバを下向きに試験組成物
中に、次いで被徨厚さを調節するためにオリフィスを通
して引張ることによって被覆を行った。被覆されたファ
イバを直ちに窒素不活性型硬化室に通し、ここで１つの
焦点合せ３００ワツト、１０インチ長ＦｕｓｉｏｎＳｙ
ｓｔｅｍｓ　ｒＥ　Ｊ紫外線ランプに露出した。被覆フ
ァイバを最後に巻取ロールに巻いた。

被覆ファイバを観察して被膜が完全罠硬化しているかど
うか確かめた。ファイバ上の被膜が完全には硬化しない
ライン速度を決定するために、即ちライン速度が硬化速
度をしのぐ点を見つけるために、ライン速度を徐々に増
加した。

調べたサンプルそれぞれについて、被覆組成物は被覆速
度をしのぐライン速度でも完全に硬化した。言い換える
と、シリコーン流体による光ファイバの「ぬれ」（即ち
被覆）は、完全な硬化がまだ観察されるライン速度で終
っていた。３ｇｌのサンプル組成物について、下記の条
件下で完全な硬化が、観察された。

サンプル１　５０　１２５ サンプル２　３０　１２０ サンプル５　３３１２０ これらの結果は、市販の熱硬化性シリコーン系で観察さ
れる最高ライン速度的３０ｍ／分と比較して有利である
。

１０重ｉ％のメチル水素シロキシ単位を含有する６　０
　ｃｐｓの線状ジメチル水素連鎖停止ポリジメチル−メ
チル水素シロキサン流体６００重量部をヘキサン６００
重量部に溶解した。この溶液（１，０モルの活性ＳｉＨ
基を含有する）に、１５２重量部のリモネンオキシド（
１モル）、可溶性錯体触媒の形態の約２５　ｐｐｍの白
金および種々のレベルのビニルＭＱシリコーン樹脂を加
えた。反応混合物を４時間還流させ、その後ヘキセンと
の反応により未反応ＥｌｉＨｆ除去した。溶剤、未反応
リモネンオキシドおよびヘキサンを真空下でストリッピ
ングしたところ下記のエポキシ官能性重合体が得られた
。

サンプル４　１９．６　０．０　３４０サンプル５　１
ａ５　ス６９００ サンプル６　１４，３　１１．５　１９７６サンプル７
　１＆１　１２．８　３８００畳　重合体中に導入され
たリモネンオキシドの重量％ ■　溶剤ストリッピング後の樹脂固形分の重量％として １００重量部の各サンプル（ｒｌ、ｓｔＭ部のジェトキ
シアセトフェノンおよび１．５重量部の（Ｏｓ２’Ｈ！
５　Ｐｈ　）２工５ｂＦ６（前記米国特許出願第３７５
，６７６号に開示されたエポキシ官能性シリコーンを硬
化するためのフリーラジカル／カチオン共触媒系）と配
合することにょシ硬化を評価した。完全な被覆組成物を
接着剤コーターを用いてポリエチレンクラフト紙上に２
ミルの被膜として手で塗布し、ＰＰＧ　１２０２　紫外
線プロセッサに装着した２つの焦点合せ中圧水銀蒸気紫
外線ランプに露出した。

コンベヤ速度（露出時間）、ＵＶ強度および硬化環境を
変えて硬化を定性的に評価した。下記の結果を得た。

４　３００　１Ｎ、　２．０　ｐ ５４００　空気　２．０〃 ５　４００　Ｎ、　２．５　ｔｔ 対照組成物（サンプル４）との比較によう、エポキシ官
能性シリコーン組成物の組ｇ’ｉ特定の目標粘度範囲に
入るようにしておけば、ビニルＭＱ樹脂の導入は硬化に
有意の定性的な差をもたらさないことがわかる。

実施例８ １１．３重量係のリモネンオキシドを導入した１　０、
０００　ｃｐｓのエポキシ官能性ポリシロキサン９０重
量部ｆ　＋、　２−　ｘボキシドデヵ：ｙ　（Ｖｉｋｏ
ｌｏｘ■１２、ＶｉｋｉｎｇＣｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、
製）１０重量部と配合して、４２００ｃｐｓのブレンド
を得た。実施例４〜７の共触媒を加え、完全な組成物を
上記実施例１〜３と同じ方法で１０ミル光７アイパに６
０′ｍ／分までの引張速度で被覆した。６０ｍ／分の速
度で被膜が余シに薄く（８０ミクロン以下）なシ、被覆
浴に入るファイバが非常に高温であるので、被覆組成物
の熱分解（発煙）が明白であった。

しかし、被膜はこの速度でも３００ワツトＵｖランプへ
の露出で硬化した。これらの結果から、本発明の組成物
を用いれば、光ファイバの製造ライン速度を適切な配合
組成で２倍にできることがわかる。さらに、前記米国特
許出願第５７５．６７６号に開示されているように１硬
化促進用反応性希釈剤として好適なω−エポキシｃ（ｓ
−ｔｔ）脂肪族炭化水素が本発明の光ファイバ核種組成
物用の粘度調節剤として有用であることがこの実施例か
ら明らかである。

実施例９〜１２ ４４．９重量係のメチル水素シロキシ単位（ｔ５モルの
活性ＳｉＨ基）を有する７　５　ｃｐｓの線状トリメチ
ル連鎖停止ポリジメチル−メチル水素シロキサン流体２
００重量部をスチレン１２６重量部（１，２７モル）と
共にヘキセン４００重量部中に分散させた。０．３５重
量部の白金触媒を加え、反応混合物をかきまぜるととも
にゆつくシロ０℃まで加熱したところ、この時点で発熱
反応が起り、温度を７５℃に上げ、次いで６５℃前後ま
で降温し、ここで反応混合物を１時間維持した。赤外線
分析でＬ１２３モルの未反応ＳｉＨが測定され、スチレ
ンの付加がはソ完全に行われていることが示された。次
に６０重量部（０，４モル）のリモネンオキシドを加え
、反応混合物を６９℃に戻し、かきまぜながらこの温度
［６４時間保った。生成物はわずかＣＬ００７Ｌ００７
モルｓ、ｔｎ　Ｌか示さず、これをヘキセンとの短時間
の反応で除去した。溶剤および未反応単量体をストリッ
ピングして、屈折率１．４９２の粘稠な流体生成物（１
１，６８０ｃｐｓ）を得た。サンプル９と名付けたこの
流体は、３３０３０重量部チレンおよび１３．１重量係
のリモネンオキシドが導入されていた。他の３種の組成
物を同様の方法で製造し、下記の結果を得た。

スチレン　リモネンオキシド　粘度 組成物　（ｒ、ｔ’Ｊ）（重量％）（ｃｐｓ　’）　屈
折率サンプル９　３３．０　１五１　１１，６８０　１
．４９２０サンプル１０　３２．９　１４．４　＆１０
０　１．４９０２サンプル１１　２９，１　２９．１　
８８．００［Ｊ　１．４９３０サンプル１２　３１．８
　２２．１　２１，０００　ｔ４９７０上記重合体とク
レジルグリシジルエーテル（ＤＹ　０２３、Ｇｉｂａ　
Ｇｅｉｇｙ社製）とのブレンドを製造し下記の組成物を
得た。

サンプル９Ａ　２０．０　１，２００　１．４９９０サ
ンプル１０Ａ　２５．０　２．５００　１．４９９２サ
ンプル１１Ａ　２５．０　五６００　１．５０８０サン
フ゛ル１２Ａ　２５．０　１，６８０　１．５０３０上
記β−フェネチルおよびリモネンオキシド。

置換ポリシロキサン流体のＵＶ硬イヒ特性を、ジェトキ
シアセトフェノンと（ＣＨＥ１５Ｐｈ　’ｈ工８ｂＦ、
の１：１ブレンド４重量％を加え、この触媒含有混合物
をポリエチレンクラフト基材に被覆し、次いで被覆基材
を前述したように紫外線に露出することによって、定性
的に調べた。

下記の結果を得た。

ジアリール塩触媒が先の実施例に記した低い屈折率のエ
ポキシ官能性シリコーンによりも、β−７エネチルエポ
キシ官能性シリコーンにはるかによく溶解することが認
められた。このことは、必要なら触媒濃度？高くして硬
化をもつと早くできることを意味す。その上、β−フェ
ネチル置換基が存在するともつと低いエポキシ添加量で
速い硬化が得られることが明らかであり、上述したエー
テルブレンドは空気または不活性雰囲気中で等しく良好
に硬化することが明らかであり、これにより高い屈折率
の組成物が非常に効率のよい被覆組成物となっている。

２５％のように多量のタレジルグリシジルエーテルが存
在すれば、硬化速度を高く保つことがテキル。ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテルやエポキシノボラック樹
脂のような他の芳香族エボキク単量体が、同様にエポキ
シ官能性シリコーンと相溶性であると予想される。

実施例１３ 低い屈折率（１，４３以下）のポリシロキサン組成物？
次の通シに製造した。

６０重量部のトリメチル連鎖停止ポリジメチルメチル水
素シロキサン流体（２５ｃｐｓ）、８４重量部のｓｙｍ
−テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンお
よび１０５６重量部のオクタメチルシクロテトラシロキ
サンを６重量部のＩＦｉｌｔｒｏｌ■２０酸平衡化反応
触媒の存在下、窒素界囲気中で１００℃で１７時間かき
まぜた。６重量部のＭｇＯを加えて酸を中和し、混合物
１１００’Ｃにもう１時間保ち、しかる後中和反応生成
物を４８刺Ｈｇ　の減圧下１６５℃で２時間ストリッピ
ングした。８２９重量部の流体生成物を２０．８重量部
のベンゾフェノンで処理し、７０℃で７５分間かきまぜ
、次いで５０℃以下に冷却した。４゜重量部のｔ−ブチ
ルペルベンゾエートを加え、全混合物２１０分間かきま
ぜ、しかる後濾過にょシ固形のＦｉｌｔｒＯ１■および
ＭｇＯｆ除去し、１８０゜ｃｐｓの流体生成物を得た。

組成物をポリエチレンクラフト紙に厚さ２ミルに塗布し
、次いでＰＰＧ　１２０２　プロセッサに装宥した合計
電力４００ワツトの紫外線ランプに露出した。種々のラ
イン速度で硬化して下記の結果を得た。

ライン速度　硬化雰囲気　硬　化 ５０フィート／分　空気　少し汚れた外は良好に硬化２
００フィート／分　Ｎ２　僅かな汚れ検出、他の点は満
足４００フィート／分　Ｎ２　表面硬化のみ（「表皮」
生成）同じ組成物を前述した通りに直径１０ミルの光フ
ァイバに被覆し、次いで不活性雰囲気中で１つの３００
ワツト［ＨＪランプ（Ｆｕｓｉｏｎ　Ｂｙｓｔｅｍａ）
に露出することによシ硬化した。約３５ｍ／分の引張速
度までファイバが被覆材料に良好にぬれた。

良好に硬化した厚さ１４０ミクロンの被膜を得た。

それより大きい速度では、被覆材料は４０ｍ／分以上の
速度でも完全に硬化するようであったが、被覆厚さが急
速に減少した。

ベルベンゾエート触媒の存在下で紫外線硬化性の高い屈
折率のビニル官能性重合体を、ここでの開示内容に従っ
て、４種の異なる単位、例えばメチルビニル−、ジフェ
ニル−、ジメチル−およびメチル水素−シルキシ単位か
ら製造できると予測される。

実施例１４ ３００重量部（２，８８モル）のスチレンを８００重量
部のトルエンおよび白金錯体触媒（全混合物に２５　ｐ
ｐｍの白金を与える）に加えた。溶液を８０℃に加熱し
、この時点で６９　Ｔｊｌ＠　％のメチル水素シロキシ
単位（合計４．６１モル５ＬＴｌ　）ｋ有する粘度２１
　ｃｐｓのトリメチル連鎖停止線状ポリジメチル−メチ
ル水素シロキサン流体４００屯量部ｆｔ４時間にわたっ
てゆっくり力■え、この間反応混合物１に８１〜８４℃
の温度に維持した。１５分間かきまぜた後、２８９屯量
部（１，９モル）のリモネンオキシドを加え、反応混合
物を８２℃で１７時間還流し、次いで９０℃で２２時間
還流した。この時点で未反応８１Ｈ含有単位は約２．４
重方１丁係に下った。未反応８１Ｈをヘキセンとの反応
によって除去し、生成物を真空下１４０℃で４０分間ス
トリッピングして、８８０重量部の１１１１，８００Ｑ
ｐＢ流体ケ得た。スチレンが定量的に付加したと仮定す
ると、サンプル１４と名付けたこの生成物は３１．９重
量係のスチレンおよび２５．４ｆｆｉ量％ノリモネンオ
キシドを含有した。この材料の屈折率は１．５０３であ
った。

サンプル１４を下記から選んだ種々のエポキシ官能性反
応性希釈剤とブレンドすることにょシ、適当な粘度の被
覆組成物を製造した。

ＤＹＯ２３（Ｏｉｂａ　Ｇｅｉｇｙ）　−〇 タレジルグリシジルエーテル ０Ｙ１７９　（Ｃ１ｂａ　Ｇｅｉｇｙ）　−〇 ＢＰＯＢＩ■８２５　（Ｓｈｅ工□。ｈｅｍｉｃａ□６
）＝各組成物にジェトキシアセトフェノンと（０１２Ｈ
ｔ６Ｐｈ　）ｚＩ日ｂＦ６の１＝１フ゛レンド５＠量係
で触媒添加した。組成の概略は次の通り。

１４Ａ　１０　１０　−　１．５０６ １４Ｂ　１０　−　１０　１．５１３ １４０　２０　−　２０　１．５１８ 組成物をポリエチレンクラフト基材上に被膜厚さ１ミル
に被覆し、次いで前述した通シにＰＰＧＱＱ　１２０２
　ＡＮ　プロセッサで硬化させた。硬化性能の記録は次
の通り。

ＵＶ電力　ライン速度 −サンプル１４　空気　６００　２．Ｏｒ表皮硬化」サ
ンプル１４Ａ　空気　４００　１．５　優れた硬化サン
プル１４Ａ　空気　４００　２．０　表面硬化のみサン
プル１４Ａ　１１２４００　２．０　表面硬化のみサン
プル１４Ａ　空気　６０（１２，５優れた硬化サンプル
１４Ｂ　空気　４００　２．０　表面硬化の形跡サンプ
ル１４Ｂ　空気　６００　２．０　優れた硬化サンプル
１４０　空気　４００　２．０　表面硬化のみサンプル
１４０　空気　６００　２．５　優れた硬化上述した開
示内容に照らして本発明の種々の変更や改変が可能なこ
とが明らかである。例えば、実施例に照らしてリモネン
ジオキシド（′−またけ他のポリエポキシド単量体）が
、高い屈折率のエポキシ官能性ポリシロキサン組成物に
有効なエポキシ官能性希釈剤であると予想される。また
、ここに記したエポキシ官能性またはビニル官能性ポリ
シロキサン組成物を、例えば本出願人に誼渡された米国
特許出願第３７５．６７６号（１９８２年５月６日出願
）および本出願の米国特許出願と同日付の米国特許出ａ
５２７２９９に開示されているように、添カロ剤で変性
して硬化特性を改良するのも、特定の状況では有利であ
ろう。しかし、本発明の特定の実施例へのこれらの甘た
別の付随的変更も本発明の範囲内に入ることｋＭ　ｆｌ
ｉｔすべきである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、仏）　高透明度シリカガラスのコアと、（Ｂ）　上
   記：＋　７１Ｃ被ａ　サレ、（ｉ）式ＲＲ’ｓ１゜（式
   中のＲは水素または炭素原子数１〜８の一価炭化水素基
   であり、”は水素、炭素原子数１〜２０の一価炭化水素
   基またはエポキシまたはビニル官能性を有する炭素原子
   数２〜２０の一価有機基である）の単位を含むジオルガ
   ノポリシロキサンおよび（１１）触媒量の光開始剤を含
   有する紫外線硬化性シリコーン被覆組成物よシなシ、屈
   折率が上記シリカガラスよシ高いか低い被膜と、 からなる被覆光ファイバ。 ｌ　上記ジオルガノボリア０キサンがエポキシ官能性で
   あシ、上記光開始剤が次式：（式中のＸはＳｂＦ６、Ａ
   ｓＦ３、ＰＦ６およびＢＦ４　よりなる群から選択され
   、Ｒ′は炭素原子数４〜２０の一価アルキルまたはハロ
   アルキル基であり、ｎは１〜５に等しい整数である）の
   ジアリールヨードニウム塩の単独またはこれとフリーラ
   ジカル光開始剤との組合せよりなる特許請求の範囲第１
   項記載の被覆光ファイバ。 五　上記ジアリールヨードニウム塩がビス（ドデシルフ
   ェニル）ヨードニウム塩である特許請求の範囲第２項記
   載の被覆光７アイパ。 ４、　上記光開始剤がビス（ドデシルフェニル）ヨード
   ニウム塩とジェトキシアセトフェノンの組合せより７ｚ
   る特許請求の範囲第２項記載の被体光ファイバ。 ５　上記ジオルガノポリシロキサンが約２０重量％まで
   のエポキシ官能基を有する特許請求の範囲第２項記載の
   被覆光ファイバ。 直　上記エポキシ官能基がリモネンオキシド基である特
   許請求の範囲第５項記載の被覆光ファイバ。 Ｚ　上記ジアリールヨードニウム塩カヒス（４−ｎ−ト
   ！Ｊデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアン
   チモネートおよヒヒス（４−ｎ−ドデシルフェニル）ヨ
   ードニウムヘキサフルオロアンテモネートから選択され
   る特許請求の範囲第５項記載の被覆光ファイバ。 ＆　上記ジオルガノポリシロキサンのＲ′基がビニルＭ
   Ｑ樹脂から誘導された一価の枝分れオルガノシロキサン
   ともナシ得る特許請求の範囲第２項記載の被覆光ファイ
   バ。 ９　上記被Ｉ組成物が成分（ｉｉｉ）として粘度ヶ下げ
   るのに十分な量の、ポリエポ井シト単量体および芳香族
   グリシジルエーテルから選択される反応性希釈剤も含有
   する特許請求の範囲第２項記載の被覆光ファイバ。 １１　上記反応性希釈剤がリモネンジオキシド、よシな
   る群から選択される特許請求の範囲第９項記載の被覆光
   ファイバ。 １１、上記被膜がシリカガラスよシ高い屈折率を有し、
   上記ジオルガノポリシロキサンが主として次式： の重合体単位よ！ｌｌなる特許請求の範囲第２項記載の
   被覆光ファイバ。 １２、上記ジオルガノポリシロキサンがジメチルシロキ
   シ、メチル水素、シロキシおよびメチルビニルシロキシ
   単位よりなるターポリマーである特許請求の範囲第１項
   記載の被覆光７アイパ。 ”　上記光開始剤がベルベンゾエートエステル、および
   有機基またはへテロ基で融合または架橋し得る２個以上
   のベンゼン環を有する炭素原子数２０までのポリ芳香族
   光増感剤よ勺なる群から選択される特許請求の範囲第１
   ２項記載の被覆光ファイバ。 １４　上記被膜の屈折率が１．５よシ大きく、上記ジオ
   ルガノポリシロキサンがジフェニルシロキシ単位も含有
   する特許請求の範囲第１３項記載の被覆光ファイバ。 １５　（１）　（＋）式ＲＲ’ＳｉＯ（式中のＲＦｉ水
   素または炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であｈ　、
   ”は水素、炭素原子数１〜２０の一価炭化水素基または
   エポキシまたはビニル官能性を有する炭素原子数２〜２
   ０の一価有機基である）の単位を含むジオルガノポリシ
   ロキサンおよび（１１）触媒量の光開始剤を含有する紫
   外線硬化性シリコーン被覆組成物を高透明度シリカガラ
   スのコアファイバに被覆し、 （２）　この被覆したコアファイバケ十分な強度の紫外
   線に十分な時間露出して上記コアファイバ上の上記被覆
   組成物を硬化し、コア７アイパ上に屈折率がコアファイ
   バより高いか低い可撓性で低い密着性の環境安定性の被
   膜を形成する工程よシなる被覆光ファイバの高速製造方
   法。 １６　上記ジオルガノポリシロキサンがエポキシ官能性
   であり、上記光開始剤が次式：（式中のｘは８１）Ｆ６
   、ＡｓＦ６、ＰＦ６およびＢＦ４よりなる群から選択さ
   れ、Ｒ′は炭素原子数４〜２０の一価アルキルまたはハ
   ロアルキル基であシ、ｎは１〜５に等しい整数である）
   のジアリールヨードニウム塩の単独またはこれとフリー
   ラジカル光開始剤との組合せよりなる特許請求の範囲第
   １５項記載の方法。 １７．　上記ジアリールヨードニウム塩がビス（ドデシ
   ルフェニル）ヨードニウム塩である特許請求の範囲第１
   ６項記載の方法。 １ａ　上記光開始剤がビス（ドデシルフェニル）ヨード
   ニウム塩とジェトキシアセトフェノンの組合せよりなる
   特許請求の範囲第１６項記載の方法。 １９、上記ジオルガノポリシロキサンが約２０ｉ−１ａ
   ％までのエポキシ官能基？有する特許請求の範囲第１６
   項記載の方法。 ２０、上記エポキシ官能基がリモネンオキシド基である
   特許請求の範囲第１９項記載の方法。 ２１、上記ジアリールヨードニウム塩がビス（４−ｎ　
   −トリテシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロア
   ンチモネートおよびビス（４−ｎ−ドテシルフェニル）
   ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートから選択さ
   れる特許請求の範囲第１９項記載の方法。 ２Ｚ　被覆工程（１）がコアファイバ？上記シリコーン
   被覆組成物中に通しその直後に被覆厚さを調節するオリ
   フィスを通して引抜くことによって行われ、露出工程（
   ２）が被覆したファイバを被覆工程（１）の直後に紫外
   線源の装備された硬化室を通して引張ることによって工
   程（］）と連続的に行われる特許請求の範囲第１５項記
   載の方法。 ２五　上記ジオルガノポリシロキサンのＲ′基がビニル
   ＭＱ樹脂から誘導された一価の枝分れオルガノシロキサ
   ンともな力得る特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２４、上記被覆組成物が成分（ｉｉｉ）として粘度を下
   げるのに十分な量の、ポリエポキシド単量体および芳香
   族グリシジルエーテルから選択される反応性希釈剤も含
   有する特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２５　上記反応性希釈剤がリモネンジオキシド、よシな
   る群から選択される特許請求の範囲第２４項記載の方法
   。 ２６　上記被膜が７リカガラスより高い屈折率を有し、
   上記ジオルガノポリシロキサンが主として次式二 の重合体単位よシなる特許請求の範囲第１６項記載の方
   法。 ２ｚ　上記ジオルガノポリシロキサンがジメチルシロキ
   シ、メチル水素シロキシおよびメチルビニルシロキシ単
   位よシなるターボリブ−である特許請求の範囲第１５項
   記載の方法。 ２ａ　上記光開始剤がベルベンゾエートエステル、およ
   び有機基またはへテロ基で融＠または架橋し得る２個以
   上のべ／ゼン環ヲ有する炭素原子数２０までのポリ芳香
   族光増感剤よシなる群から選択される特許請求の範囲第
   ２７項記載の方法。 ２９　上記被膜の屈折率が１．５よシ大きく、上記ジオ
   ルガノポリシロキサンがジフェニルシｐキ７単位も含有
   する特許請求の範囲第２８項記載の方法。