JPS60943A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPS60943A JPS60943A JP10787283A JP10787283A JPS60943A JP S60943 A JPS60943 A JP S60943A JP 10787283 A JP10787283 A JP 10787283A JP 10787283 A JP10787283 A JP 10787283A JP S60943 A JPS60943 A JP S60943A
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- JP
- Japan
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- ripple
- vacuum
- elastic body
- preliminary
- seal
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品、たとえば、塩化ビニール
系樹脂フィルムを連続的に真空状態でプラズマ処理する
真空連続処理装置６に関するものであシ、上述のプラス
チック成形品とはグラスチックフィルム、プラスチック
シート、するいはプラスチック被稜電線などを指す。
系樹脂フィルムを連続的に真空状態でプラズマ処理する
真空連続処理装置６に関するものであシ、上述のプラス
チック成形品とはグラスチックフィルム、プラスチック
シート、するいはプラスチック被稜電線などを指す。
（発明の背景〕
この種の真空連続処理装置は、本願１１（Ｍ’、人によ
シすでに特許出願されている。この特許はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的に
プラズマ処理するものである。ぞしてこの真空処理室の
前後側には少なくとも１個の予備真空室が段階的に真空
度を下げるために設けられており、この予備真空室は、
上下方向に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一対
のシールロールと、このシールロールの一部に軸方向に
宿って連続的に対応するリップル部材と、シールロール
の両端向に対接するサイドピースなどｆ （〕ｉｉ＋え
ている。
シすでに特許出願されている。この特許はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的に
プラズマ処理するものである。ぞしてこの真空処理室の
前後側には少なくとも１個の予備真空室が段階的に真空
度を下げるために設けられており、この予備真空室は、
上下方向に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一対
のシールロールと、このシールロールの一部に軸方向に
宿って連続的に対応するリップル部材と、シールロール
の両端向に対接するサイドピースなどｆ （〕ｉｉ＋え
ている。
ところで、前記リップル部材としては、ニトリルゴム、
ウレタンゴムなどを用したものや、リップル部材に補強
金具を埋めこんだものもめる。
ウレタンゴムなどを用したものや、リップル部材に補強
金具を埋めこんだものもめる。
しかしながら、リップル部４〕に加わる圧力差が犬なる
ときには、リップル部材の先端側の変形が大きくなり、
シール性が低下する。また、鼓形を防止するために、シ
ールロールに対する押圧力を大きくすると、リップル部
材とシールロールとの摩耗が激しいという問題があった
。
ときには、リップル部材の先端側の変形が大きくなり、
シール性が低下する。また、鼓形を防止するために、シ
ールロールに対する押圧力を大きくすると、リップル部
材とシールロールとの摩耗が激しいという問題があった
。
［発明の目的〕
本発明の目的は、リップル部材に加わる差圧が犬なると
きでも良好なシール性を得るようにした真空連続処理装
置を提供することにある。
きでも良好なシール性を得るようにした真空連続処理装
置を提供することにある。
本発明の％徴とするところは、リップル部材の先端側を
弾性体により支持するようにしたものである。
弾性体により支持するようにしたものである。
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆｉ真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される
予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接わ“
Ｃする真空ポンプ４によシ１０−２１−−ル程度の真空
圧力に保持するように排気管５を介して真空排気される
。
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆｉ真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される
予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接わ“
Ｃする真空ポンプ４によシ１０−２１−−ル程度の真空
圧力に保持するように排気管５を介して真空排気される
。
前記予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ６
によシ前記真空処理室１内の真空圧力より若干尚＜、か
つ大気圧よシ段階的に減じる真空圧力に保持するように
排気管７を介して真空排気される。
によシ前記真空処理室１内の真空圧力より若干尚＜、か
つ大気圧よシ段階的に減じる真空圧力に保持するように
排気管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予１７ｉｉ＋真空室３を経
て巻取装置９で巻取られる。１０１−Ｊ、駆動用モータ
で、この駆動用モータ１０−、ラインシャフト１１およ
び無段変速機１２，１３．１４゜１５を介して真壁処理
室ｌ、予備真空室２，３、巻取装置９へ駆動力を伝達し
、真空処理室１、予備真空室２，３および巻取装置９の
各駆動系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１４
．１５により適宜調整される。
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予１７ｉｉ＋真空室３を経
て巻取装置９で巻取られる。１０１−Ｊ、駆動用モータ
で、この駆動用モータ１０−、ラインシャフト１１およ
び無段変速機１２，１３．１４゜１５を介して真壁処理
室ｌ、予備真空室２，３、巻取装置９へ駆動力を伝達し
、真空処理室１、予備真空室２，３および巻取装置９の
各駆動系の回転速度は前記無段変速機１２，１３，１４
．１５により適宜調整される。
前記前方および後方予備真空室２，３は第３図および第
４図に示す如く、上下一対のシールロール１す、１７、
上下ケース１８，１９および上下リップル部材２０．２
１などから構成されておシ、以下にその詳細を説明する
。
４図に示す如く、上下一対のシールロール１す、１７、
上下ケース１８，１９および上下リップル部材２０．２
１などから構成されておシ、以下にその詳細を説明する
。
第３図および第４図において、２０は上ケース１８に固
定され、かつ上シールロール１６０表面の一部と軸方向
に沿って連続的に対接するリップル部材で、このリップ
ル部材２０はウレタンゴムなどのような耐摩耗性の犬な
るものを使用する。
定され、かつ上シールロール１６０表面の一部と軸方向
に沿って連続的に対接するリップル部材で、このリップ
ル部材２０はウレタンゴムなどのような耐摩耗性の犬な
るものを使用する。
２１Ｖｉ下ケース１９に固定され、がっ下シールロール
１７の表面の一部と軸方向に沿って連続的に対接するリ
ップル部材で、このリップル部材２１も上記リップル部
拐２０と同様にウレタンゴムなどを使用する。これらリ
ップル部材２０．２１の断面形状は第５図に示す如く上
下シールロール１６．１７と対接する先端側が弾力性を
有するように折れ曲っている。そして、リップル部材２
゜は全体をニドリムゴムなどにより形成する。２２はリ
ップル部材２０の先端側に設けられる弾性体の例えば板
ばねで、この板ばねはリップル部拐２１）に加わる圧力
差が大なるときに発生するリップル部材の先端側の変形
を防止する。この板ばねはリップル部材２０の成形時に
一体に成形してもよく、あるいは別々に成形した後一体
向に取（ｚＪけてもよい。また補強体２３を埋め込むこ
とによりリッフル部材２０全体の変形奮防止することが
できる。
１７の表面の一部と軸方向に沿って連続的に対接するリ
ップル部材で、このリップル部材２１も上記リップル部
拐２０と同様にウレタンゴムなどを使用する。これらリ
ップル部材２０．２１の断面形状は第５図に示す如く上
下シールロール１６．１７と対接する先端側が弾力性を
有するように折れ曲っている。そして、リップル部材２
゜は全体をニドリムゴムなどにより形成する。２２はリ
ップル部材２０の先端側に設けられる弾性体の例えば板
ばねで、この板ばねはリップル部拐２１）に加わる圧力
差が大なるときに発生するリップル部材の先端側の変形
を防止する。この板ばねはリップル部材２０の成形時に
一体に成形してもよく、あるいは別々に成形した後一体
向に取（ｚＪけてもよい。また補強体２３を埋め込むこ
とによりリッフル部材２０全体の変形奮防止することが
できる。
さらに第６図に示すようにリップル部拐２０のシールロ
ールに対する押付力を過度に太きくしないようにスポン
ジ、あるいはシリコーンシーラントのようなリップル部
材２０の材質よシも−やｔ：１、ｆりかいもので形成す
る。
ールに対する押付力を過度に太きくしないようにスポン
ジ、あるいはシリコーンシーラントのようなリップル部
材２０の材質よシも−やｔ：１、ｆりかいもので形成す
る。
本発明によれば、リップルｔ’９１Ｓ祠にかかる差圧が
大なる時でも、良好なシール性が得られ、またリップル
部材を過度にロールに対して押しつけないため、シール
ロールとリップル部側の耐久性全確保することができる
。
大なる時でも、良好なシール性が得られ、またリップル
部材を過度にロールに対して押しつけないため、シール
ロールとリップル部側の耐久性全確保することができる
。
第１図および第２図は本発明の真空連続処」Ｌ＋＞ ４
’′：置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置における予
備真空室の４１部を示す拡大図、第４図は第３図の４−
４線矢視図、第５図および第６図は本発明装置における
リップル部材を説明するための図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真壁室、２０゜
２１・・・リッ７゛ル部材。 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ■出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
’′：置の一実施例を示すもので、第１図は正面図、第
２図は第１図の平面図、第３図は本発明装置における予
備真空室の４１部を示す拡大図、第４図は第３図の４−
４線矢視図、第５図および第６図は本発明装置における
リップル部材を説明するための図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真壁室、２０゜
２１・・・リッ７゛ル部材。 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ■出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
Claims (1)
- １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個配
置される予備真空室を有し、この予備真空室が、上下方
向に対接し、かつ可撓性の被処理物の搬送方向に並置さ
れた一対のシールロールと、このシールロールの一部に
軸方向に沿って連続的に対接する複数個のリップル部材
と、前記シールロールの両端面に対接するサイドピース
などがら成る真空連続処理装置において、前記リップル
部材のシールロールとの接触近傍を弾性体により支持し
たこと全特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787283A JPS60943A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787283A JPS60943A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60943A true JPS60943A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0455213B2 JPH0455213B2 (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=14470221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10787283A Granted JPS60943A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60943A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3339291A1 (de) * | 1982-10-30 | 1984-05-03 | Osaka Soda Co. Ltd., Osaka | Diallylterephthalatcopolymeres |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57195740A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Continuous vacuum treatment apparatus |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10787283A patent/JPS60943A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57195740A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Continuous vacuum treatment apparatus |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3339291A1 (de) * | 1982-10-30 | 1984-05-03 | Osaka Soda Co. Ltd., Osaka | Diallylterephthalatcopolymeres |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455213B2 (ja) | 1992-09-02 |
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