JPS60945A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPS60945A JPS60945A JP10787483A JP10787483A JPS60945A JP S60945 A JPS60945 A JP S60945A JP 10787483 A JP10787483 A JP 10787483A JP 10787483 A JP10787483 A JP 10787483A JP S60945 A JPS60945 A JP S60945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- chamber
- preliminary
- reserve
- chambers
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/16—Sealings between relatively-moving surfaces
- F16J15/168—Sealings between relatively-moving surfaces which permits material to be continuously conveyed
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は可撓性の被処理物、例えは、プラスチック成形
品を真空処理室内で連続的にプラズマ処理する真空連続
処理装置に１関するものであり、プラスチック成形品と
は、プラスチックフィルム。
品を真空処理室内で連続的にプラズマ処理する真空連続
処理装置に１関するものであり、プラスチック成形品と
は、プラスチックフィルム。
プラスチックシートあるいはプラスチック被覆電線など
を指す。
を指す。
この種の真空連続処理装置は、本願出願人によりすでに
特Ｗｆ出願さｎている。この特許はプラスチック成形品
など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的忙プラズ
マ処理するものである。そし２てこの真空処理室の前後
廻りには複ｆ１個の予備真空室が段階的に真空度を下げ
るだめに設けら扛ており、この予備真空室は、上下方向
に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一方のシール
ロールと、このシールロールの一部に軸方向に泪って連
Ｌｆｆ、的に対接するリップル部材と、シールロールの
両端面に対接するサイドピースなど管備えている。とこ
ろで、前記予備真空室を構成大る一対のシールロールは
、被処理物を正常に搬送するためにたわみ量を規定値以
下（例えば５ｏｍｍ）に押える必要がある。しかもシー
ルロールに加わる圧力差は、最大気側の予備真空室が真
空処理側の予備真空室に比較して非常に大きいため、最
大気側の予備真空室のシールロール径を大きくする必要
があり、従来の予備真空室においては、真空処理室の予
備真空室のシールロール径全最大気側の径と同じにして
いた。
特Ｗｆ出願さｎている。この特許はプラスチック成形品
など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的忙プラズ
マ処理するものである。そし２てこの真空処理室の前後
廻りには複ｆ１個の予備真空室が段階的に真空度を下げ
るだめに設けら扛ており、この予備真空室は、上下方向
に対接し、被処理物の搬送方向に並置する一方のシール
ロールと、このシールロールの一部に軸方向に泪って連
Ｌｆｆ、的に対接するリップル部材と、シールロールの
両端面に対接するサイドピースなど管備えている。とこ
ろで、前記予備真空室を構成大る一対のシールロールは
、被処理物を正常に搬送するためにたわみ量を規定値以
下（例えば５ｏｍｍ）に押える必要がある。しかもシー
ルロールに加わる圧力差は、最大気側の予備真空室が真
空処理側の予備真空室に比較して非常に大きいため、最
大気側の予備真空室のシールロール径を大きくする必要
があり、従来の予備真空室においては、真空処理室の予
備真空室のシールロール径全最大気側の径と同じにして
いた。
このため、シールロールの両端面のサイドシールからの
洩れもシールロール径に応じて大きくなり、しかも真空
ポンプの容量も必ｚ（を的に大きくする必要があった。
洩れもシールロール径に応じて大きくなり、しかも真空
ポンプの容量も必ｚ（を的に大きくする必要があった。
また、シールロール？鹿動する動力系も大きくなるなど
の問題点があった。
の問題点があった。
本発明の目的は、予備真空室の小形化および動力、真空
排気量などの省エネルギーを図るようにした真空連続処
理装置ｒ提供することにある。
排気量などの省エネルギーを図るようにした真空連続処
理装置ｒ提供することにある。
本発明お特徴は、少なくとも真空処理室側の予備真空室
を最大気側の予備真壁室より小さくしたものである。
を最大気側の予備真壁室より小さくしたものである。
〔発明の実施例〕
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆｆ：真空状態で連続的１・てプラズマ処理す
る真空処理室、２．２′は真空処理室１の前方側に複数
個配置さすしる予備真空室、３゜３′は真空処理室１の
後方側に複数個配置される予備真空室で、前記真空処理
室１内はこｎに接続する真空ポンプ４により１Ｏ−２）
−ル程度の真空圧力に保持するように排気管５を介して
真空排気される。
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆｆ：真空状態で連続的１・てプラズマ処理す
る真空処理室、２．２′は真空処理室１の前方側に複数
個配置さすしる予備真空室、３゜３′は真空処理室１の
後方側に複数個配置される予備真空室で、前記真空処理
室１内はこｎに接続する真空ポンプ４により１Ｏ−２）
−ル程度の真空圧力に保持するように排気管５を介して
真空排気される。
前記予備真空室２．３内はこれに接続する真空ポンプ６
により前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、か
つ大気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように
排気ｇ７を介して真空リド気さｎる。
により前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、か
つ大気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように
排気ｇ７を介して真空リド気さｎる。
処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０＆：に駆動用モータで、この駆
動用モータ１０けラインシャフト１１および無段変速ｔ
ａ １２ 、１３．１４ 。
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０＆：に駆動用モータで、この駆
動用モータ１０けラインシャフト１１および無段変速ｔ
ａ １２ 、１３．１４ 。
１５ｖｉ−介して真空処理室１、予備真空室２．３、巻
取装置９へ應動力を伝達し、真空処理室１、予備真空室
２．３および巻取装置９の各枢動系の回転速度は前記無
段変速機１２，１３．１４．１５により適宜調整される
。
取装置９へ應動力を伝達し、真空処理室１、予備真空室
２．３および巻取装置９の各枢動系の回転速度は前記無
段変速機１２，１３．１４．１５により適宜調整される
。
第３図および第４図は前記予備真空室２．２／、３．３
′の主要部を示すもので、最大気側の予備真空室２．３
と真空処理室１側の予備真空室２’、３’はその大きさ
が異なっている。すなわら、真空処理￥１側の予備真空
室２’、３’は最大気側の予備真空室２．３よりも小さ
くなっている。１６．１７は予備真空室２．２′および
３．３’ｉ構成する上下シールロールで、この上シール
ロール１６は表面にゴムなどの弾性材１８が一体的に焼
着されておす、下シールロール１７は表面に硬質のクロ
ムニッケル層などが施されている。この上下シールロー
ルの径は約２５０１ｎＭである。１９は上下ケース２０
．２１に固定され、かつ上下シールロール１６．１７の
外周面の一部と軸方向に沿って連続的に対接するリップ
ル部材、２２は上下シールロール１６．１７の両端面に
対接するサイドピースで、このサイドピース２２のシー
ルロール対接面にはフッソ樹脂膜２３が焼着されており
、このサイドピース２２は軸受ハウジング２４を介して
支持されている。
′の主要部を示すもので、最大気側の予備真空室２．３
と真空処理室１側の予備真空室２’、３’はその大きさ
が異なっている。すなわら、真空処理￥１側の予備真空
室２’、３’は最大気側の予備真空室２．３よりも小さ
くなっている。１６．１７は予備真空室２．２′および
３．３’ｉ構成する上下シールロールで、この上シール
ロール１６は表面にゴムなどの弾性材１８が一体的に焼
着されておす、下シールロール１７は表面に硬質のクロ
ムニッケル層などが施されている。この上下シールロー
ルの径は約２５０１ｎＭである。１９は上下ケース２０
．２１に固定され、かつ上下シールロール１６．１７の
外周面の一部と軸方向に沿って連続的に対接するリップ
ル部材、２２は上下シールロール１６．１７の両端面に
対接するサイドピースで、このサイドピース２２のシー
ルロール対接面にはフッソ樹脂膜２３が焼着されており
、このサイドピース２２は軸受ハウジング２４を介して
支持されている。
また、予備真空室２’、３’の上下シールロール１６，
１７の径は約１００７７１７１１であシ、全体的に最大
気側の予備真空２，３より極端に小型化される０ 表は前記予備真壁室２，２′および３，３′における真
空層と差圧力の関係を示したもので、衣から明らかのよ
うに最大気側の予備真空室２．３（第１予備真空室に相
当する）の差圧は真空処理室１側の予備真空室２’、３
’第２〜第３予備真空蚕に相当する）より極端に大きく
なる。
１７の径は約１００７７１７１１であシ、全体的に最大
気側の予備真空２，３より極端に小型化される０ 表は前記予備真壁室２，２′および３，３′における真
空層と差圧力の関係を示したもので、衣から明らかのよ
うに最大気側の予備真空室２．３（第１予備真空室に相
当する）の差圧は真空処理室１側の予備真空室２’、３
’第２〜第３予備真空蚕に相当する）より極端に大きく
なる。
したがって、差圧の大きい最大気側の予備真壁室２，３
における被処理物のたわみ量を考慮すればよい。
における被処理物のたわみ量を考慮すればよい。
本発明によれは、真空処理室側の予備真壁室より小さく
したので、被処理物の搬送時におけるたわみを発生する
ことなく、予備真空室の小形化および動力、真空排気量
などの省エネルギーを図ることができる。
したので、被処理物の搬送時におけるたわみを発生する
ことなく、予備真空室の小形化および動力、真空排気量
などの省エネルギーを図ることができる。
第１図および第２図は本発明の真空連続処理装置の一実
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、第３図は本発明装置における予備兵を室の要部
を示す拡大図、第４図は第３図の４−４腺矢視図である
。 １・・・真空処理室、２．２’ 、３．３１・・・予備
真空ｌ７ 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ＠出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、第３図は本発明装置における予備兵を室の要部
を示す拡大図、第４図は第３図の４−４腺矢視図である
。 １・・・真空処理室、２．２’ 、３．３１・・・予備
真空ｌ７ 第１頁の続き ０発 明 者 平石信行 土浦市神立町６０３番地株式会社 日立製作所土浦工場内 ＠出 願 人 信越化学工業株式会社 東京都千代田区大手町二丁目６ 番１号
Claims (1)
- １、真空処理室と複数個の予備真空室とを具え、該予備
真空室を、一対のシールロールを被処理物の搬送方向に
複数組配置し、このシールロールの一部に軸方向に溢っ
てリップル部材を対接させ゛ることにより形成し、前記
真空処理室で被処理物を連ｎｌシ的に処理すぎ真空連続
処理装置において、前記予備真空室のうち、真空処理室
側の予備真空室を最大気側の予備真空室より小さくした
ことを特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787483A JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
| EP84106879A EP0130444B1 (en) | 1983-06-17 | 1984-06-15 | Continuous vacuum treating apparatus |
| DE8484106879T DE3466414D1 (en) | 1983-06-17 | 1984-06-15 | Continuous vacuum treating apparatus |
| US06/621,373 US4501428A (en) | 1983-06-17 | 1984-06-18 | Roll seal boxes for continuous vacuum treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787483A JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60945A true JPS60945A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0358374B2 JPH0358374B2 (ja) | 1991-09-05 |
Family
ID=14470274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10787483A Granted JPS60945A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60945A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501328A (ja) * | 2003-05-23 | 2007-01-25 | ユジノール（ソシエテ アノニム） | 平坦製品上への減圧付着ラインのための密封ロック |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10787483A patent/JPS60945A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501328A (ja) * | 2003-05-23 | 2007-01-25 | ユジノール（ソシエテ アノニム） | 平坦製品上への減圧付着ラインのための密封ロック |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0358374B2 (ja) | 1991-09-05 |
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