JPS6096755A

JPS6096755A - 蒸着装置

Info

Publication number: JPS6096755A
Application number: JP58206451A
Authority: JP
Inventors: Kazumi Tanaka; 一己田中; Isamu Inoue; 勇井上; Koichi Kodera; 宏一小寺
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1983-11-01
Filing date: 1983-11-01
Publication date: 1985-05-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は半導体ｍ造工程等で薄膜を形成する蒸着装置に
関する。

従来例の構成とその問題点第１図に従来における蒸着装置の概＃！ｒ信成を示す。

この装置は、真空容ａ（１）内の下部にるつぼ（２）を
有する蒸着源本体＋３）が設けられると共に、真空容器
（１）内の上部に、被蒸着部材（以下、試料と称す）（
４）がるつぼ（２）に対向する位１ｄで保持部材（５）
を介して吊持されたもので、その蒸ｊｆを行なう１祭に
、排気ホー　）　＋６１よ）真空容器（１）内のを気が
排気される。この装置によると、構造が簡単でありなか
ら膜厚分布のばらつきの少ない試料を得ることができる
。しかし、第１図に示すように、排気ポート（６）及び
給気ボート（７）が真空容器（１）の下部に設けられて
いる場合、第２図に示すように、排気ポート（６）よシ
真空容器（１〕の内部の気体を排気する場合、矢印のよ
うな気流になシ塵埃が試料（４）に付着する。

逆に、給気ボート（７）よシ気体を給気して真空容器（
１）内を真空から大気圧に戻す場合でも、第３図矢印で
示すような気流になシ、真空容器（１）内に付着堆積し
ていた塵埃を舞い上げ浮遊させるため、その塵埃が試料
に付着して清浄な薄膜が得られないという問題がある。

発明の目的本発明は上記従来の欠点を解消するもので、真空容器内
を給排気する＠ＶＣ，Ｗ蒸着部材に形成された薄膜に塵
埃が付着するのを防止することを目的とする。

発明の構成上記目的を達成するため、本発明は、給排気ボートを有
する真空容器内の下部に族７Ｗ源を配置すると共に、真
空容器内上部位置において、被蒸着部材を支持する支持
体を前記真空容器に係脱自在に保持し、前記被蒸着部材
及びその周縁部支持体の各下面を覆う下カバーを設ける
と共にこのＦカバーの下端開口部を蒸着源近傍上方に位
置させ、前記被蒸着部材及びその周縁部支持体の各上面
を覆う上カバーを設けると共にこの上カバーの適所に給
気孔を形成し、前記支持体周縁部に、上下カバー内を連
通させる通気孔を形成し、別記上カバーの給気孔に清浄
気体を供給する給気手段を設け、且つ前記真空容器内金
給排気する時、前記給気手段によシ上丁カバー内に供給
された気体の圧力を、上下カバー外の気体の圧力よりも
高くする制御手段を設けた蒸着装置で、かかる構成によ
ると、被蒸着部材の上下部を上下カバーで覆うと共にそ
の給排気時においては、カバー外の気体圧力より高い圧
力を有する気体を、カバー内に供給するので、真空容器
内の塵埃がカバー内に侵入するのを防止でき、従って被
蒸着部材に形成される薄膜は清浄なものとなる。また、
被蒸着部材を支持する支持体は真空容器に対して係脱自
在にされているため、上下カバーを取付けたまま出し入
れができ、従って出し入れ時に、おいても塵埃の付着を
防止することができる。

実施例の説明以下、本発明の一実施例を図面に従って説明する。第４
図〜第６図は本発明の蒸着装置の断面図を示し、また第
７図及び第８図は真空容器内及びカバー内の給排気時の
圧力変化を示す。第４図〜第６図において、■は真空容
器で、その上壁Ｑｌａ）には給気ボート面が、また底壁
（ｌｌｂ）には排気ボート−が形成されている。１１４
１は真空容器０内の底壁（ｌｌｂ）主中央に配置された
蒸着源で、蒸着源本体（至）の中央上部には薄膜形成材
料αＧが充填されたるつぼ面が固定されている。−は前
記るつぼ面の上方位置において被蒸着部材（以下、単に
試料と称す）（至）を支持する支持体で、真空容器σＢ
の土壁（ｔｔａ）から垂下された複数本の支柱−に固定
された保持板■υ上に、取外し可能に載置されている。

即ち、試＠住９は支持体（至）の中央に形成された開口
部（１８ａ）周囲の段部（１８ｂ）に載置されている。

に）は前記試料α・及び支持体（至）の開口周縁部（１
８０）の各下面を覆うように支持体（至）に取付けられ
た逆円錐台形状の下カバーで、その下端開口部（２２ａ
）は、るつぼαη近傍上方に位置するようにされている
。

（イ）は前記試料■及び支持体（２）の開口周縁部（Ｉ
ＳＣ）の各上面を覆うように取付けられた上カバーで、
その上壁中央には給気孔■が形成されている。そして、
前記支持体（至）の開口周縁部（１８Ｇ）には、上カバ
ーに）内とＦカバーに）内とを連通させる値数価の通気
孔に）が形成されている。に）は上記上カバーに）の給
気孔曽から上下カバー（２）（イ）内に清浄気体を供給
する給気手段で、大気圧よりも高い圧力の清ｆｈ気体を
貯えたポンベｅｂと、一端がこのボンベ（ロ）に接続さ
れると共に他端が上カバー（４）の給気孔■直上位置に
開口された導管（４）とから構成されている。（ト）は
真空容器ｕｎ内を給排気する時、前記給気手段（ハ）に
より上下カバー＠（イ）内に供給されたｔＲ／’ｈ気体
の圧力を、上下カバー磐に）外の気体の圧力よシも高く
する制御手段で、４管（至）途中に設けられた可変流体
絞シ弁曽と、この可変流体絞）弁に）を作動させる駆動
モータ（駆動手段の一例〕（３１１とから構成されてい
る。なお、！３ｚは給排気時において、るつぼ［１ηか
ら蒸発する気体が下カバーに）内に移動するのを阻止す
るシャッターである。

次に、給排気動作について説明する。

まず、真空゛容器０内の気体を排出する場合、給気手段
（至）によ）清浄気体を上カバー−内に供給する。この
時、供給される清浄気体の圧力（第７図破線で示す）は
、真空容器＋１１１内の圧力（第７図実線で示す）より
も常に高くなるように、即ち排気時間の経過と共に制御
手段−の可変流体絞り弁■が絞られて徐々に流路抵抗が
大きくなるように制御される。従って、第５図矢印にて
示すように、上カバーに）内に供給された清浄気体は、
通気孔−を通って下カバー（支）内に至シ、そしてシャ
ッターｉ３２と下カバー（イ）との隙間よ）外に向って
流出し、真空容−ａＯ内の塵埃が下カバー器内に侵入し
て試料（１９表面に形成された薄膜に付着することはな
い。

また、逆に真空から大気圧に戻す給気の場合も同様に、
上カバー骨内に清浄気体を供給すると共に、その清浄気
体の圧力（第８図破線で示す）は、やはシ真空容器ｔｔ
ｎ内の圧力（第８図実線で示す）よりも常に高くなるよ
うに、即ち給気時間の経過と共に制御手段−の可変流体
絞り弁（７）の絞りが弛められて徐々に流路抵抗が小さ
くなるように制御される。従って、第６図矢印で示すよ
うに、上カバーに）内に供給された清浄気体は、通気孔
に）を辿って下カバー（４）内に至り、そしてシャッタ
ー器とドカパー（イ）との隙間より外に向って流出し、
真空容８！面内の塵埃が下方パーＣ４内に侵入して試料
ｉｌ１表面にプレ成された薄膜に付着することはない。

このように本実施例によれば、被蒸ｔｔｉ部材の上下ｍ
ｋ上下カバーで覆うと共にその給排気時においては、カ
バー外の気体圧力より高い圧力を有する気体を、カバー
内に供給するので、真空容器内の塵埃がカバー内に侵入
するの欠防止でき、従って被蒸着部材に形成される薄膜
は清浄なものとなる。また被蒸着部材を支持する支持体
は真空容器に対して係脱自在にされているため、上下カ
ッく−を取付けたまま出し入れができ、従って出し入れ
時においても塵埃の付着を防止することができる。

−に、１Ｒ＃気体を給気する時に、流路抵抗を時間の経
過と共に大きく又は小さくなるようにして、カバー内圧
力をカバー外圧力よりも常に一定圧力だけ高く保持した
ので、真空容器内の気流を緩やかにでき、従って真空容
器内に堆積した塵埃の舞い上がシをできるだけ防止でき
る。

発明の効果以上のように本発明によれば、被蒸着部材の上下部を上
下カバーで覆うと共にその給排気時においては、カバー
外の気体圧力よシ高い圧力を有する気体を、カバー内に
供給するので、真空容器内の塵埃がカバー内に侵入する
のを防止でき、従って被蒸着部材に形成される薄膜は清
浄なものとなる。

【図面の簡単な説明】

笛１Ｍ−、−笛３（支）は襟ヰ侶１を呆１、−斌１図は
断面図、第２図は排気状態を示す断面図、第３図は給気
状態を示す断面図、第４図〜第８図は本発明の一実施例
を示すもので、第４図は断面図、第５図は排気状態を示
す断面図、第６図は給気状態を示す断面図、第７図及び
第８図は排気時及び給気時におけるカバー内圧力及びカ
バー外圧力の変化を示すグラフである。 ■・・・真空容器、＠・・・給気ボー）、＋１３・・・
排気ゲート、Ｃ４・・・蒸着源、面・・・るつは、面・
・・支持体、（１８Ｑ）・・・開口周縁部、０ト・被蒸
着部材、（２）・・・下カッ＜　−＋　（２２ｆＬ）・
・・開口部、＠・・・上カバー、（ハ）・・・給気孔、
（ハ）・・・通気孔、（イ）・・・給気手段、（ロ）・
・・ボンベ、（ハ）・・・４管、（４）・・・制御手段
、…・・・可変流体絞９升、Ｌ（ＩＩ・・・駆劾モータ
代理人　祿　本　義　弘第５図第２図

Claims

【特許請求の範囲】１、給排気ボートを有する真空容器内の下部に蒸着源を
配置すると共に、真空容器内上部位置において、被蒸着
部材を支持する支持体を前記真空容器に係脱自在に保持
し、前記被蒸着部４才及びその周縁部支持体の各下面を
覆う下カバーを設けると共にこの下カバーの下端開口部
を蒸着源近傍上方に位置させ、前記被蒸着部材及びその
周縁部支持体の各上面を覆う上カバーを設けると共にこ
の上カバーの適所に給気孔を形成し、前記支持体周縁部
に、上下カバー内を連通させる通電孔を形成し、＋ｒｉ
前記上カバー〇給気孔に清浄気体を供給する給気手段を
設け、且つ前記真空ｇ器内を給排気する時、前記＃気手
段によシ上下カバー内に供給された気体の圧力を、上下
カバー外の気体の圧力よシも高くする制御手段を設けた
蒸着装置。２、　制御手段は給気手段途中に設けられた可斐流体絞
シ弁と、この可変流体絞シ弁を作動させて給気手段途中
の流路抵抗を変化させる駆動手段とから成り、且つ真空
容器内を排気する時に前記流路抵抗が時間経過と共に大
きくなるように制御し、更に真空容器内に給気する時に
前記流路抵抗が時間経過と共に小さくなるように制御す
るようにした特許請求の範囲第１項記載の蒸プ９装置ｉ
Ｉｆ。