JPS61102791A - 熱安定性に優れた高分子圧電体の製造方法 - Google Patents

熱安定性に優れた高分子圧電体の製造方法

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JPS61102791A
JPS61102791A JP59223896A JP22389684A JPS61102791A JP S61102791 A JPS61102791 A JP S61102791A JP 59223896 A JP59223896 A JP 59223896A JP 22389684 A JP22389684 A JP 22389684A JP S61102791 A JPS61102791 A JP S61102791A
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vinylidene fluoride
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copolymer
thermal stability
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湊 伸子
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啓子 古賀
Koji Daito
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/09Forming piezoelectric or electrostrictive materials
    • H10N30/098Forming organic materials

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本庁用は、圧電性J3よび熱安定性に浸れた高分子圧電
体の製^;b方法に関する。
(ロ)従来の技術 フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンの共重合体
は、圧゛心性を持つことが知られている(例えば、高分
子学会子「)集、28巻、9号、1794頁、1979
年)。
また、フッ化ビニリデンとトリフルオロエチレンの共重
合体も圧電性を持つが、この共重合体は融点(Tm )
以下に強誘電−常誘電相転移点(T19’)を持つので
、実用可能な圧電性を得るためには強誘電−常誘電相転
移点(Till’)以上、融点(Tm )以下で熱処理
し、ポーリングすることが有効であると判っている。
これに対して、フッ化ビニリデンとテI−ラフルオ口エ
チレンの共重合体では、溶液から製膜した未延伸物、ま
たは溶融押出しにより急冷糸i′1下で製膜した未延伸
物は融点(Tm )以下に明確な強誘電−常誘電相転移
点(1”m ’ )がないため、これらを融点(Tm 
)以下で熱処理したのでは結晶化度が向上せず、実用可
能な圧電性が11ノられない。
そこで従来は、結晶化度を向上させる目的で、熱処理前
に延伸工程を加えるかまたは高圧で結晶化する方法を行
なっていた。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 熱処理前に延伸工程を加える上述の方法は、厚みの制御
が難しいという欠点がある。しかも、このようにして作
ったフィルムは、融点(Tm)が低く熱安定性がよくな
い。また、高圧で結晶化する方法は処理が繁雑であり生
産性に劣っている。
本紀明番よ、かかる従来技術の欠点に鑑み、圧電性、熱
安定性おにび製膜性の1蔓れた高分子圧電体のI XN
方法を1足供することを目的とする。
(ニ)問題点を解決するための手段 本発明においては、フッ化ビニリデン組成が72〜.ε
〕7ヒ、ル9(、のフッ化ビニリデンとテトラフルオロ
エチレンの共重合体を融点(Tm )以上で融解させ、
そこから徐冷して結晶化させ、ポーリングする。この場
合、徐冷とは精品化温度領域を通過する際の冷W速度が
10℃/分以下での冷却を愚昧する。さらに好ましくは
、5℃/分以下、より好ましくは2℃/分以下である。
また、ポーリングのための電圧印加は、徐冷時から行な
ってもよいし′、あるいは冷却後行なってもよい。後者
の場合、ポーリング温度は融点を越えない温度であれば
任意の温度でよい。この結果得られる圧電1ホtま、従
来の延伸工程を加えたものより一般的にa点(1m)が
高くなる。しかも、本発明の方法で作った圧電体は、熱
安定性のよい厚み方向の電気礪械結合定数(K()を持
ち、融点(Tm )直下まで実用可能なKtを維持する
ことがでさる。
結合定数(K【)の熱安定性がよく、融点(TIll)
直下まで実用可能な埴を維持する圧電体1%るためには
、フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンの共重合
体でフッ化ごニリデン組成が72〜87モル%の範囲で
あれば製膜方法には制限がない。すな°わち、溶液から
のキャスト製膜、ホットプレスによる製膜、あるいは押
出し製Ilダなどの何れでも本発明の適用が可能である
以下、本発明を実施例および比較例を用いて説明する。
・実施例1 (フッ化ビニリデン組成72モル%、未延伸、溶融結晶
化フィルム) フッ化ビニリデン組成72モル%のフッ化ビニリデン−
テトラフルオロエチレン共重合体のジメチルホルムアミ
ド溶液をガラス板上に流諷し、常温、減圧下で溶媒を気
化させた。このフィルムの融点は1’m=136℃であ
った。これをガラス板かIうはがさずに、180℃で1
時間保った後、徐冷(2℃/′分)した。このフィルム
の両面にアルミニウムを然看して電極として用い、ポー
リングを行なった(ポーリング温度Tp=100℃、ポ
ーリング電圧E11=900KV/Cil、ポーリング
時間tp−30分)。
こうしテirIラレタ圧電膜はKt−0,197、丁m
−141℃であった。このフィルムの熱安定性は第1図
の記号○で示す通りである。なお、結合定数(Kt )
の熱安定性の測定は、試料をオーブンの中に10分間入
れておき、空温で結合定数(Kt)を測定することを同
一試料で順次温度を上げて繰り返づことによった(以下
の熱安定性の測定はすべてこの方法による。)。第1図
から結合定EQ(Kt)は融点(Tm )付近までほと
んど減少せず、安定であることが判る。なお、第1図に
おいて縦軸は、昇温する過程を経過しない結合定数(K
t)で規格化し!ζものである。
・実施例2 (フッ化ごニリデン組成81モル%、未延伸、溶融結晶
化フィルム) フッ化ビニリデン組成81モル%のフッ化ごニリデンー
テトラフルオロエチレン共モ合体のジメチルホルムアミ
ド溶液を、ガラス板」二に流麗し、常温、減圧下で溶媒
を気化させた。このフィルムの融点はTm=1−24℃
であった。これをガラス板からはがさずに、141℃で
1時間熱処理した後、徐冷(2℃/分)した。このフィ
ルムの両面にアルミニウムを蒸着して電極として用い、
三角波電圧を印加し反転電流を測定しながらポーリング
を行なった(Tl)=至fig、Ep−1145KV/
cm、周波数0.011−1z、反転口t110回)。
こうして得られた圧電膜は、Kt−0,207、Tm=
143℃であった。このフィルムの熱安定性は第1図の
記号△で示す通りである。
このフィルムのポーリング時の反転10回目の反転電流
の測定t7:宋を第2図に示す。なお、この測定結果で
はフィルム自体のコンデンサーの効果で流れる電流を除
いている。
反転電流半値幅△Ec =41 、8KV、/am、残
留分極Pr=7.1μC/cJである。八ECが小さく
残留分子4i(Pr)が人さくなっており、ポーリング
によっ′C21]果的に分極されていることを示してい
る。
・実施例3 (フッ化ビニリデン組成82モル%、未延伸、溶融結晶
化フィルム) フッ化ビニリデン組成82モル%のフッ化ビニリfンー
テトラフルオロエチレン共重合体のジメチルホルム)′
ミド溶液をガラス板上に流諷し、常温、減JIEトC溶
媒を気化させた。このフィルムのFAj! +、’、i
 lよ1m =124℃であった。これをガラス板から
はかさずに、180℃まで昇温した後、徐冷(2℃/分
)した。このフィルムの両面にアルミニムを蒸nして電
極として用い、三角波電圧を印lJロシ、反転電流を測
定しながらポーリングを行な、1  つた( T−p 
=室温、Ep =923KV/cm、 周波3’10.
 ()111z、反転回数10回)。
こうしClqられたf+Ti躾は、Kt=0.189、
Tlll−141℃であつlζ。このフィルムのポーリ
ング時の反転10回目の反転゛電流の測定結果(よ第2
図と同様の鋭いピークとなった。
ΔEc =66.7KV/cIll、pr−7,4μC
/dである。△ECが小さく、prが大きくなっており
、ポーリングによって効果的に分極されていることを示
している。このフィルムの熱安定性は、第1図の記号口
で示す通りである。結合定数(Kt )は融点(Tm 
)付近までほとんど減少せず、安定であることが判る。
・実施例4 (フッ化ビニリデン組成87モル%、未延伸。
溶融結晶化フィルム) フッ化ビニリデン組成87モル%のフッ化ごニリデンー
テトラフルオロエチレン共重合体のジメチルホルムアミ
ド溶液をガラス板上に流況し、常温減圧下で溶媒を気化
させた。このフィルムの融点はTm−120℃であった
。これをガラス板からはがさずに180℃で1時間保っ
た後、徐冷(2℃/分)した。このフィルムの両面にア
ルミニウムをに1着して??2極として用いポーリング
を行なった(Tp−100℃、Ep −92’l KV
/am。
【p=3Ω分)。
こうして得られた圧電膜は、Kt =0.109、Tm
=136℃であった。このフィルムの熱安定性は第1図
の記号で示す通りである。
・比較例1 (フッ化ビニリデン組成72モル%、延伸、Tm以下で
熱処理をしたフィルム) フッ化ビニリデン組成72モル%のフッ化ビニリデンー
テトラフルオOエチレン共重合体をホットプレスで’N
 I11/! L/た後、65℃で約4倍に延伸した。
このフr)レムの融点は丁m=141℃であった。これ
を金属板ではさんで、オーブン内で120℃r−1時丙
熱処理を行なった後、徐冷(2T 、7分)りた。この
フィルムの両面にアルミニウムを7懐石し、電(夕とし
て用い、ポーリングを1テな−>  lご  (−l 
  p  =  1  00  ℃ 、  Elll 
  =532KV/cm。
El)=30分)。こうして19られた圧電膜は、Kt
=0.167、’I’1ll=141°Cであった。こ
のフィルムの熱安定性は第1図の゛記号・で示す通りで
ある。
第1図からK【は本発明の場合と異なり、温度の上昇と
ともに直線的に低下し、融点付近でゼロとなることが判
る。
・比較例2 (フッ化ビニリデン組成81モル%未延伸、融点(Tm
 )以下で熱処理したフィルム)実施例2と同様に製膜
したフィルムをガラス板からはがさずに115℃で1時
間熱処理した後、徐冷(2℃/分)した。このフィルム
の両面にアルミニウムを蒸着して電極として用い、実施
例2と同様に反転電流を測定しながらポーリングを行な
った(Tp−vi、Ep = 1125KV/am、周
波数0.0IH7,反転回数10回)。このフィルムは
K[−〇であった。このフィルムのポーリング時の反転
10回目の反転電流の測定結采番ま非常にブロードで明
確なピークは観察されなか−)だ。
残留分極はPr=2.5μC/artであった。
・比較例3 (フッ化ビニリJ゛ン組成81モル96、未延伸、溶8
(1、急冷−〕Cルム) 実施1シl12ど同様に4映したフ、fルムをガラス板
h1らはがさりl、:142℃で1時間熱処理した後、
0℃の氷水中に入れて急冷した。このフィルムの両面に
アルミニウムをr’4 rfLで?[tとして用い、実
施例2と同様に反転電流を測定しながらポーリングを1
1なった(Tp =空温、Ep=1049KVCm、周
波2h0. OI Hz 、反転回数10回)。
このノイルムはKt =Oであった。このフィルムのポ
ーリングIk1の反転10回目の反転電流の測定結果は
、非常にブロードで明確なピークは観察されなかった。
残留分極はPr=3.3μC/c+fであった。
・比較例4 (フッ化ビニリデン組成82モル%、延伸、熱処理なし
のフィルム) フッ化ビニリデン組成82モル%のフッ化ビニリデンー
テト・ラフルオロエチレン共重合体をホットプレスで製
膜した後、55°Cで約6倍に延伸した。このフィルム
の融点はTm=132℃であった。このフィルムの両面
にアルミニウムを、A fi lノ、電極として用いポ
ーリングを行なった(1’p−90℃、Ep = 71
4 KV/cm、 tl)= 1時間)。
こうして得られた圧電膜は、Kt =0.150、Tn
+=136℃であった。このフィルムの熱安定性は第1
図の記号脛で示す通りである。K【はほとんど直線的に
低下して融点付近でゼロとなった。
・比較例5 (フッ化ビニリデン組成99モル%、未延伸、溶融結晶
化フィルム) フッ化ビニリデン組成99モル%のフッ化ビニリデン−
テトラフルオロエチレン共重合体のジメチルホルムアミ
ド溶液を、ガラス板にFfij Mし、i;i濡、減圧
下で溶媒を気化さけた。このフィルムの融点はTm=1
45℃であった。これをガラス板からはがさずに180
℃に保った後、徐冷(2°C/分ンした。このフィルム
の両面にアルミニウムを蒸着して電極として用いポーリ
ングを11なった(丁p−100℃、Ep =833K
V/cm、tp=10分)。
こうして1!ノられた圧電膜はKt=0.064であり
、圧電性が小さかった。
(ホ)発明の効果 実施例1〜3はいずれも一旦温度を融点(Tm)以上に
上げて融解させ、そこから徐冷して結晶化させた後にポ
ーリングしたもので、比較例1.4の延伸上程を加えて
融点(Tm)以下で熱処理した場合よりも結合定vi(
K[)の熱安定性がよく、融点(丁m)直下まぐ実用可
能なKtの値を維持する熱安定性のよい圧電膜が1qら
れることを示しでいる。
比較例2は、木通仲ぐし、−p溶融することが必須であ
ることを示しており、比較例3は、更に溶融した後に徐
冷することが必須であることを示している。
なお、実施例2.3および比較例2.3に示した△[:
CとPrについでは、△ECが小さくPrが人さいど、
■1合定数(let)が大きいという相関があるという
知見をtlている。これらの11t1を比較してみても
、一旦温度を融点(Tm )以上に上げて融解させ、そ
こから徐冷して結晶化さけ、ポーリングするという本発
明の方法が有効であることが判る。
実施例4のフッ化ごニリデン1g成87モル96のフッ
化ビニリデン−テトラフルオロエチレン共重合体の熱安
定性は100℃付近に眉が見られ、温度を一旦融点(T
m)以上に上げて融解さけ、そこから徐冷して結晶化さ
けるという本発明の方法がこの組成比の共重合体におい
てb熱安定性向上に効果があることを示していると言え
る。
比較例5のフッ化ビニリデン組成99Tニル9aのフッ
化ビニリデンーテトラフルオロエヂレン共手合体は、さ
らにフッ化ビニリデン組成が小さいので本発明による効
果が発現しないことを示している。
なお、一般的にポーリングにより圧電性を付与された物
質は焦電性も右するが、本発明に係る高分子圧電体も焦
電性を右し、従来のものより熱安定性に17れでいるの
で高温下での使用に適し、劣化も少ない。
このため、本発明に係る方法で製)Δされた高分子H電
体は圧電性、焦電性を利用した工業用の計測:)8の用
途に適している。
すjに、人さい圧電性を有する高分子圧電材料は結晶性
が高く加工性に劣るものが多いが、本発明に係る方法で
製造された高分子圧電体は、しなやかでIJII I 
t’tに富/υでいる。そこで、例えばチコーブや薄膜
のような可撓性を必要とする用途にも適している。
【図面の簡単な説明】
第1図は電気−礪械結合定数(Kt >の熱安定i′[
を示すグラフ、第2図は、ポーリング時の反転電流を示
りグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  フッ化ビニリデン組成が72〜87モル%のフッ化ビ
    ニリデンとテトラフルオロエチレンの共重合体を融点(
    Tm)以下の温度から徐冷して結晶化させ、ポーリング
    することを特徴とする熱安定性に優れた高分子圧電体の
    製造方法。
JP59223896A 1984-10-26 1984-10-26 熱安定性に優れた高分子圧電体の製造方法 Granted JPS61102791A (ja)

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Cited By (4)

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