JPS6111732B2 - - Google Patents
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- JPS6111732B2 JPS6111732B2 JP1069878A JP1069878A JPS6111732B2 JP S6111732 B2 JPS6111732 B2 JP S6111732B2 JP 1069878 A JP1069878 A JP 1069878A JP 1069878 A JP1069878 A JP 1069878A JP S6111732 B2 JPS6111732 B2 JP S6111732B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- pulse
- gap
- pulses
- control
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 52
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
- B23H7/18—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply for maintaining or controlling the desired spacing between electrode and workpiece
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放電加工方法、即ち加工条件に応じた
短い加工単位のパルス巾τpo.sと間隔τpff.sを持
つた単位パルス列をパルスの無い間隔τpffによ
つて中断させることにより単位パルスの集団（巾
τpo）と中断間隔τpffとを繰返すパルスを電極、
被加工体の加工間隙に供給して放電加工する方法
の改良に係る。
短い加工単位のパルス巾τpo.sと間隔τpff.sを持
つた単位パルス列をパルスの無い間隔τpffによ
つて中断させることにより単位パルスの集団（巾
τpo）と中断間隔τpffとを繰返すパルスを電極、
被加工体の加工間隙に供給して放電加工する方法
の改良に係る。
単位パルスは短い巾τpo.s、好ましくは最小加
工単位のパルス巾に設定されているから加工面粗
さが小さくて精密加工ができ、これが短い間隔τ
pff.sで高周波で繰返されるから加工速度も増大す
る。しかしパルス間隔τpff.sが短かく、好ましく
は単位パルスによる放電がパルス化する最小の値
に設定するから加工屑等が発生して容易に短時間
に連続アーク放電に至る。このため単位パルス列
をパルスの無い間隔で中断し、中断によつて分離
されたパルスの集団と中断間隔を交互に繰返すパ
ルスにより加工を行なう。中断制御によつて発生
加工屑がこの期間中に排除され間隙浄化が行なわ
れるから単位パルスが短い最小の間隔τpff.sで繰
返されても中断前の単位パルス集団による加工屑
が堆積していても中断間隔中に充分な洗浄な行な
われ、即ち間隔τpffを充分な洗浄効果が得られ
る程度に設定制御して洗浄作用を働せるから、次
のパルス放電は安定して行なわれ、安定した放電
加工ができる。
工単位のパルス巾に設定されているから加工面粗
さが小さくて精密加工ができ、これが短い間隔τ
pff.sで高周波で繰返されるから加工速度も増大す
る。しかしパルス間隔τpff.sが短かく、好ましく
は単位パルスによる放電がパルス化する最小の値
に設定するから加工屑等が発生して容易に短時間
に連続アーク放電に至る。このため単位パルス列
をパルスの無い間隔で中断し、中断によつて分離
されたパルスの集団と中断間隔を交互に繰返すパ
ルスにより加工を行なう。中断制御によつて発生
加工屑がこの期間中に排除され間隙浄化が行なわ
れるから単位パルスが短い最小の間隔τpff.sで繰
返されても中断前の単位パルス集団による加工屑
が堆積していても中断間隔中に充分な洗浄な行な
われ、即ち間隔τpffを充分な洗浄効果が得られ
る程度に設定制御して洗浄作用を働せるから、次
のパルス放電は安定して行なわれ、安定した放電
加工ができる。
一方加工間隙の間隙制御は間隙状態を検出判別
して常に易放電状態に間隙制御を行なうが、前記
のように中断間隔中にも間隙制御を行つて、例え
ば間隙を狭めると前記洗浄効果が低下する欠点が
あり、反対に間隙が広がれば洗浄効果は良くなつ
ても次の放電発生が困難になる欠点がある。
して常に易放電状態に間隙制御を行なうが、前記
のように中断間隔中にも間隙制御を行つて、例え
ば間隙を狭めると前記洗浄効果が低下する欠点が
あり、反対に間隙が広がれば洗浄効果は良くなつ
ても次の放電発生が困難になる欠点がある。
本発明はこのような欠点に鑑みて提案されたも
ので、中断制御の間隔中は加工送りを停止し、中
断間隔を終えて次のパルス集団が印加されたとき
同期して加工送り制御を行なうことを特徴とす
る。加工送りは当初急速に送つて間隙を正常に制
御し放電発生を安定して行ない、また中断間隔の
直後の単位パルスは通常のパルスよりも電圧を高
く制御して放電発生を容易ならしめる。
ので、中断制御の間隔中は加工送りを停止し、中
断間隔を終えて次のパルス集団が印加されたとき
同期して加工送り制御を行なうことを特徴とす
る。加工送りは当初急速に送つて間隙を正常に制
御し放電発生を安定して行ない、また中断間隔の
直後の単位パルスは通常のパルスよりも電圧を高
く制御して放電発生を容易ならしめる。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第１図は中断制御された単位パルス列（電圧パル
ス）を示すもので、短い加工単位のパルス巾τp
ｏ．ｓと間隔τpff.sを有する単位パルスは加工材質、
加工条件等によつて変化するが、通常τpo.sが１
〜100μＳ、τpff.sが10〜50μＳ程度に設定され
る。この単位パルス列を中断制御するパルスの無
い間隔τpffは前の放電によつて発生した加工屑
等が間隙から充分排除される時間を必要とし、ま
た単位パルス列の中断制御によつて分離されたパ
ルス集団の巾τpoは短い間隔で繰返される各単位
パルスによる放電が独立してパルス化する範囲、
即ち最短間隔τpff.sを有して繰返される単位パル
スによる放電は連続放電になり易く、加工屑が発
生してくると放電が連続してアーク放電になるか
らアーク放電にならない範囲で巾τpoを設定をし
なければならない。勿論巾τpo、間隔τpffは加工
間隙の加工状態によつて変化制御されてもよい。
第１図は中断制御された単位パルス列（電圧パル
ス）を示すもので、短い加工単位のパルス巾τp
ｏ．ｓと間隔τpff.sを有する単位パルスは加工材質、
加工条件等によつて変化するが、通常τpo.sが１
〜100μＳ、τpff.sが10〜50μＳ程度に設定され
る。この単位パルス列を中断制御するパルスの無
い間隔τpffは前の放電によつて発生した加工屑
等が間隙から充分排除される時間を必要とし、ま
た単位パルス列の中断制御によつて分離されたパ
ルス集団の巾τpoは短い間隔で繰返される各単位
パルスによる放電が独立してパルス化する範囲、
即ち最短間隔τpff.sを有して繰返される単位パル
スによる放電は連続放電になり易く、加工屑が発
生してくると放電が連続してアーク放電になるか
らアーク放電にならない範囲で巾τpoを設定をし
なければならない。勿論巾τpo、間隔τpffは加工
間隙の加工状態によつて変化制御されてもよい。
そして本発明ではこの中断間隔τpff中は加工
送りを停止し、単位パルスによる加工が行なわれ
るパルス集団τpo中に送り制御して加工間隙の制
御を行なう。また中断直後、パルス集団の始めの
単位パルスはパルス電圧を他の通常の電圧よりも
高電圧に制御して放電発生を容易ならしめるよう
制御する。
送りを停止し、単位パルスによる加工が行なわれ
るパルス集団τpo中に送り制御して加工間隙の制
御を行なう。また中断直後、パルス集団の始めの
単位パルスはパルス電圧を他の通常の電圧よりも
高電圧に制御して放電発生を容易ならしめるよう
制御する。
第２図は一実施例回路構成図で、１は加工電
極、２は被加工体で、この両者の対向により加工
間隙を形成する。３は加工電力を供給する電源
で、複数のタツプ電圧を取り出せるようになつて
おり、タツプ電圧の選択によりパルス電圧を変更
する。４１，４２，４３は前記電源３のタツプ電
圧をオン、オフスイツチング制御して加工パルス
を発生するトランジスタ等のスイツチで発生パル
スを加工間隙に供給する。５は加工条件により設
定された短い加工単位のパルスτpo.sと間隔τpff.
ｓを有する単位パルス列を発生する発振器、６は
パルス集団の巾τpoとパルスの無い中断間隔τpff
を決めるパルスを発生する発振器、７１，７２，
７３は両発振器５，６の出力パルスを結合するア
ンドゲートで、７１の出力がスイツチ４１に、７
２の出力がスイツチ４２，７３の出力がスイツチ
４３に各々供給される。８は発振器６のτpoの始
まり同期信号を発生する回路、９は同期信号によ
り時間作動するタイマで、矢印のように時間経過
にしたがつてａ→ｂ→ｃの順に信号を出力し、前
記アンドゲートに加える。１０は電極に加工送り
を与える駆動装置、１１は加工間隙の電圧により
放電したかしないか、発生する放電は良好か不良
か等を判別し、その判別にもとずいて加工送り信
号の上昇、停止、下降等の信号を発生する判別制
御回路で、この出力をオアゲート１２を通して前
記駆動装置１０に加える。１３はその信号回路に
挿入したスイツチで、このスイツチ１３がオン導
通しているときのみ信号が加えられ駆動装置１０
が作動して加工送りが与えられる。１４は発振器
６のτpffパルスを同期したオフパルスを前記ス
イツチ１３に加えてオフ断路させる同期制御回路
である。
極、２は被加工体で、この両者の対向により加工
間隙を形成する。３は加工電力を供給する電源
で、複数のタツプ電圧を取り出せるようになつて
おり、タツプ電圧の選択によりパルス電圧を変更
する。４１，４２，４３は前記電源３のタツプ電
圧をオン、オフスイツチング制御して加工パルス
を発生するトランジスタ等のスイツチで発生パル
スを加工間隙に供給する。５は加工条件により設
定された短い加工単位のパルスτpo.sと間隔τpff.
ｓを有する単位パルス列を発生する発振器、６は
パルス集団の巾τpoとパルスの無い中断間隔τpff
を決めるパルスを発生する発振器、７１，７２，
７３は両発振器５，６の出力パルスを結合するア
ンドゲートで、７１の出力がスイツチ４１に、７
２の出力がスイツチ４２，７３の出力がスイツチ
４３に各々供給される。８は発振器６のτpoの始
まり同期信号を発生する回路、９は同期信号によ
り時間作動するタイマで、矢印のように時間経過
にしたがつてａ→ｂ→ｃの順に信号を出力し、前
記アンドゲートに加える。１０は電極に加工送り
を与える駆動装置、１１は加工間隙の電圧により
放電したかしないか、発生する放電は良好か不良
か等を判別し、その判別にもとずいて加工送り信
号の上昇、停止、下降等の信号を発生する判別制
御回路で、この出力をオアゲート１２を通して前
記駆動装置１０に加える。１３はその信号回路に
挿入したスイツチで、このスイツチ１３がオン導
通しているときのみ信号が加えられ駆動装置１０
が作動して加工送りが与えられる。１４は発振器
６のτpffパルスを同期したオフパルスを前記ス
イツチ１３に加えてオフ断路させる同期制御回路
である。
加工間隙の状態は単位パルスによる放電を判別
制御回路１１で判別することによつて検出し、間
隙が広がつていれば下降の送り信号を出力し、間
隙が狭ければ上昇の送り信号を発生する。また正
常間隙であれば信号を出力しないは現状を維持す
る止れの信号を出力し、いずれの信号をオアゲー
ト１２を通りスイツチ１３を経てモータ等の駆動
装置１０に加えられ信号に応じた加工送りが電極
１に与えられ、間隙制御が行なわれる。このよう
にして調整制御された加工間隙に第１図に示すよ
うな単位パルス列の加工パルスが加えられ放電加
工が行なわれる。
制御回路１１で判別することによつて検出し、間
隙が広がつていれば下降の送り信号を出力し、間
隙が狭ければ上昇の送り信号を発生する。また正
常間隙であれば信号を出力しないは現状を維持す
る止れの信号を出力し、いずれの信号をオアゲー
ト１２を通りスイツチ１３を経てモータ等の駆動
装置１０に加えられ信号に応じた加工送りが電極
１に与えられ、間隙制御が行なわれる。このよう
にして調整制御された加工間隙に第１図に示すよ
うな単位パルス列の加工パルスが加えられ放電加
工が行なわれる。
発振器５で発生する短いパルス巾τpo.sと間隔
τpff.sを有する単位パルス列が発振器６で発生す
る制御パルスとアンドゲート７１，７２，７３で
結合することによつて中断される。即ち発振器６
のτpoパルスがアンドゲートに加わつたときは発
振器５の単位パルス列がスイツチ４１，４２，４
３に加わり、同期加工パルスを間隙に加えるが、
発振器６のτpffパルスが出力したときは発振器
５の単位パルス列はスイツチに供給されず中断さ
れる。したがつて加工間隙には発振器６の制御に
より中断間隔τpffにより分離された巾τpo単位パ
ルスの集団が繰返して供給される。
τpff.sを有する単位パルス列が発振器６で発生す
る制御パルスとアンドゲート７１，７２，７３で
結合することによつて中断される。即ち発振器６
のτpoパルスがアンドゲートに加わつたときは発
振器５の単位パルス列がスイツチ４１，４２，４
３に加わり、同期加工パルスを間隙に加えるが、
発振器６のτpffパルスが出力したときは発振器
５の単位パルス列はスイツチに供給されず中断さ
れる。したがつて加工間隙には発振器６の制御に
より中断間隔τpffにより分離された巾τpo単位パ
ルスの集団が繰返して供給される。
そして発振器６のτpffパルスは同期制御回路
１４に加わり、同期してスイツチ１３をオフ断路
する。判別制御回路１１から如何なる制御信号が
出力してもスイツチ１３で遮断されるので、駆動
装置１０は送りを中止する。即ち加工間隔はパル
ス列のパルスの無い中断間隔τpff中は間隙制御
が行なわれず静止状態を維持する。このようにし
てパルス列の中断制御の時間中は放電も無く間隙
制御も行なわれない静止間隙において流れる加工
液等によつて加工屑の排除、間隙洗浄が行なわれ
る。
１４に加わり、同期してスイツチ１３をオフ断路
する。判別制御回路１１から如何なる制御信号が
出力してもスイツチ１３で遮断されるので、駆動
装置１０は送りを中止する。即ち加工間隔はパル
ス列のパルスの無い中断間隔τpff中は間隙制御
が行なわれず静止状態を維持する。このようにし
てパルス列の中断制御の時間中は放電も無く間隙
制御も行なわれない静止間隙において流れる加工
液等によつて加工屑の排除、間隙洗浄が行なわれ
る。
これにより洗浄効果は極めて効果的に行なわれ
充分な間隙浄化が行なわれる。また放電が中断さ
れるこの間隔中に加工送りすることによる間隙制
御の不良制御が防止される。スイツチ１３は発振
器６のτpffパルスに同期してオフするから加工
パルスの中断制御毎に間隙制御が中止される。
充分な間隙浄化が行なわれる。また放電が中断さ
れるこの間隔中に加工送りすることによる間隙制
御の不良制御が防止される。スイツチ１３は発振
器６のτpffパルスに同期してオフするから加工
パルスの中断制御毎に間隙制御が中止される。
発振器６の発振制御によりτpoパルスが出力す
ると前記中断制御が完了して再び加工間隙には単
位パルス列が供給され放電が行なわれるが、加工
間隙が洗浄々化され、しかも間隙制御が中止され
ていたゝめパルス列の始めの放電は発生し難い。
このときは駆動装置１０による送り制御を急速に
して間隙を易放電状態に制御することが考えられ
るが、実施例では中断時間τpffが終つたパルス
列の始めのパルス電圧を第１図のように増大制御
するようにしている。即ち発振器６のτpoパルス
の同期微分パルスをタイマ９に加える。タイマは
矢印のように時間経過にしたがつてａ，ｂ，ｃの
順に信号を出力し、これを各々アンドゲート７
１，７２，７３に加えるから、発振器５の発生す
る単位パルスは始めアンドゲート７１より出力し
スイツチ４１を制御する。スイツチ４１は電源３
の高電圧タツプに接続してあり、単位パルスに同
期した高電圧の加工パルスを間隙に加える。次に
タイマ９の端子ｂの信号がアンドゲート７２に加
わり、発振器５の単位パルスがスイツチ４２に加
わつて制御するから電源３の次の高電圧タツプ電
圧をオン、オフ制御し、同期加工パルスを間隙に
加える。更にタイマ９の端子ｃの信号がアンドゲ
ート７３に加わり発振器５の単位パルスがスイツ
チ４３に加わつて制御し、電源３の更に低いタツ
プ電圧を制御して同期加工パルスを発生する。以
後タイマ９は端子ｃの信号を保持するのでアンド
ゲート７３を通して発振器５の単位パルスは出力
しスイツチ４３を作動するようになり、電源３の
タツプ選択によつた電圧パルスを加工間隙に供給
するようになる。このようにしてパルス列の始め
のパルス電圧が増大制御されることによつて中断
制御が終つた後の加工間隙においても容易に放電
を発生させることができる。このパルス電圧の増
大制御は中断間隔をおいて繰返される各パルス集
団を繰返し制御するから常に放電発生を容易に
し、無負電圧パルスを無くして所定放電繰返し数
をもつて加工することができる。
ると前記中断制御が完了して再び加工間隙には単
位パルス列が供給され放電が行なわれるが、加工
間隙が洗浄々化され、しかも間隙制御が中止され
ていたゝめパルス列の始めの放電は発生し難い。
このときは駆動装置１０による送り制御を急速に
して間隙を易放電状態に制御することが考えられ
るが、実施例では中断時間τpffが終つたパルス
列の始めのパルス電圧を第１図のように増大制御
するようにしている。即ち発振器６のτpoパルス
の同期微分パルスをタイマ９に加える。タイマは
矢印のように時間経過にしたがつてａ，ｂ，ｃの
順に信号を出力し、これを各々アンドゲート７
１，７２，７３に加えるから、発振器５の発生す
る単位パルスは始めアンドゲート７１より出力し
スイツチ４１を制御する。スイツチ４１は電源３
の高電圧タツプに接続してあり、単位パルスに同
期した高電圧の加工パルスを間隙に加える。次に
タイマ９の端子ｂの信号がアンドゲート７２に加
わり、発振器５の単位パルスがスイツチ４２に加
わつて制御するから電源３の次の高電圧タツプ電
圧をオン、オフ制御し、同期加工パルスを間隙に
加える。更にタイマ９の端子ｃの信号がアンドゲ
ート７３に加わり発振器５の単位パルスがスイツ
チ４３に加わつて制御し、電源３の更に低いタツ
プ電圧を制御して同期加工パルスを発生する。以
後タイマ９は端子ｃの信号を保持するのでアンド
ゲート７３を通して発振器５の単位パルスは出力
しスイツチ４３を作動するようになり、電源３の
タツプ選択によつた電圧パルスを加工間隙に供給
するようになる。このようにしてパルス列の始め
のパルス電圧が増大制御されることによつて中断
制御が終つた後の加工間隙においても容易に放電
を発生させることができる。このパルス電圧の増
大制御は中断間隔をおいて繰返される各パルス集
団を繰返し制御するから常に放電発生を容易に
し、無負電圧パルスを無くして所定放電繰返し数
をもつて加工することができる。
以上のようにして単位パルス列の中断制御中は
加工間隙の制御を防止して洗浄効果を高め、また
間隙の不良制御を防止したからアーク、短絡等を
防止し安定した加工を行なうことができ、また中
断間隔が終了した後に加えるパルス列の電圧を始
めに高電圧に制御して加えることにより送り制御
の開始に当り、サーボモータの遅れによつて間隙
制御が遅れ、放電起動が遅れるのを防止し、高電
圧印加により放電の発生を容易にして無負荷電圧
パルスを少なくし、所定の放電繰返数をもつて安
定加工速度を高め、所定の加工を容易に行なうこ
ができ、加工性能を向上する。加工は型彫加工だ
けでなくワイヤーカツト加工においても効果が大
きい。
加工間隙の制御を防止して洗浄効果を高め、また
間隙の不良制御を防止したからアーク、短絡等を
防止し安定した加工を行なうことができ、また中
断間隔が終了した後に加えるパルス列の電圧を始
めに高電圧に制御して加えることにより送り制御
の開始に当り、サーボモータの遅れによつて間隙
制御が遅れ、放電起動が遅れるのを防止し、高電
圧印加により放電の発生を容易にして無負荷電圧
パルスを少なくし、所定の放電繰返数をもつて安
定加工速度を高め、所定の加工を容易に行なうこ
ができ、加工性能を向上する。加工は型彫加工だ
けでなくワイヤーカツト加工においても効果が大
きい。
第１図は本発明のパルス波形説明図、第２図は
本発明の一実施例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は電源、４１，４
２，４３はスイツチ、５は単位パルス発振器、６
は中断制御パルス発振器、７１，７２，７３はア
ンドゲート、８は同期微分パルス回路、９はタイ
マ、１０は駆動装置、１１は判別制御回路、１２
はオアゲート、１３はスイツチ、１４は同期制御
回路である。
本発明の一実施例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は電源、４１，４
２，４３はスイツチ、５は単位パルス発振器、６
は中断制御パルス発振器、７１，７２，７３はア
ンドゲート、８は同期微分パルス回路、９はタイ
マ、１０は駆動装置、１１は判別制御回路、１２
はオアゲート、１３はスイツチ、１４は同期制御
回路である。
Claims (1)
- １ 短い加工単位のパルス幅と間隔を持つた単位
パルス列をパルスの無い間隔によつて中断させる
ことにより単位パルスの集団と中断間隔とを繰返
すパルスを加工間隙に供給して放電加工する方法
において、前記中断制御の間隔中は前記加工間隙
を制御する加工送りを停止し、中断間隔を終えて
次のパルス集団が供給されたとき同期して加工送
り制御を行なうようにすると共に、前記中断間隔
の直後に供給される単位パルスは他よりも高電圧
に制御したことを特徴とする放電加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1069878A JPS54104098A (en) | 1978-02-02 | 1978-02-02 | Electrospark machining |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1069878A JPS54104098A (en) | 1978-02-02 | 1978-02-02 | Electrospark machining |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54104098A JPS54104098A (en) | 1979-08-15 |
| JPS6111732B2 true JPS6111732B2 (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=11757500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1069878A Granted JPS54104098A (en) | 1978-02-02 | 1978-02-02 | Electrospark machining |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54104098A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59192420A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-31 | Inoue Japax Res Inc | 放電加工装置 |
| JPS63150113A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Inoue Japax Res Inc | ワイヤカツト放電加工方法 |
-
1978
- 1978-02-02 JP JP1069878A patent/JPS54104098A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54104098A (en) | 1979-08-15 |
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