JPS6236807B2 - - Google Patents
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- JPS6236807B2 JPS6236807B2 JP1069578A JP1069578A JPS6236807B2 JP S6236807 B2 JPS6236807 B2 JP S6236807B2 JP 1069578 A JP1069578 A JP 1069578A JP 1069578 A JP1069578 A JP 1069578A JP S6236807 B2 JPS6236807 B2 JP S6236807B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap
- machining
- pulse
- control
- width
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放電加工方法、即ち、加工条件に応じ
た加工単位を構成するパルス幅τon・ｓと間隔
τoff・ｓを持つた単位パルス列をパルスの無い
間隔τoffによつて中断させることにより単位パ
ルスの集団の幅τonとパルスの無い間隔τoffと
を繰返すパルスを電極、被加工体の加工間隙に供
給して放電加工する方法の改良に係る。
た加工単位を構成するパルス幅τon・ｓと間隔
τoff・ｓを持つた単位パルス列をパルスの無い
間隔τoffによつて中断させることにより単位パ
ルスの集団の幅τonとパルスの無い間隔τoffと
を繰返すパルスを電極、被加工体の加工間隙に供
給して放電加工する方法の改良に係る。
第１図は、中断制御された単位パルス列を示す
もので、短い加工単位のパルス幅τon・ｓと間
隔τoff・ｓを有する単位パルスは加工材質、加
工条件等によつて変化するが、通常τon・ｓが
１〜100μｓ、τoff・ｓが10〜50μｓ程度に設定
される。この単位パルス列を中断制御するパルス
の無い間隔τoffは前の放電によつて発生した加
工屑等が間隙から充分排除される時間を必要と
し、又単位パルス列の中断制御によつて分離され
たパルス集団の幅は短い間隔で繰返される各単位
パルスによる放電が独立してパルス化する範囲、
即ち最短間隔τoff・ｓを有して繰返される単位
パルスによる放電は連続放電になり易く、加工屑
が発生してくると放電が連続してアーク放電にな
るからアーク放電にならない範囲で幅τonを設
定しなければならない。
もので、短い加工単位のパルス幅τon・ｓと間
隔τoff・ｓを有する単位パルスは加工材質、加
工条件等によつて変化するが、通常τon・ｓが
１〜100μｓ、τoff・ｓが10〜50μｓ程度に設定
される。この単位パルス列を中断制御するパルス
の無い間隔τoffは前の放電によつて発生した加
工屑等が間隙から充分排除される時間を必要と
し、又単位パルス列の中断制御によつて分離され
たパルス集団の幅は短い間隔で繰返される各単位
パルスによる放電が独立してパルス化する範囲、
即ち最短間隔τoff・ｓを有して繰返される単位
パルスによる放電は連続放電になり易く、加工屑
が発生してくると放電が連続してアーク放電にな
るからアーク放電にならない範囲で幅τonを設
定しなければならない。
本発明はこのような単位パルス列を中断制御
し、中断によつて分離されたパルス集団と中断間
隔とを繰返して加工するとき、加工間隙の短絡に
よる後退サーボとかポンプ作用を働かせて間隙洗
浄をするレシプロ制御により広がつた加工間隙を
再び狭めて放電を開始するとき、尚、加工屑が滞
つている場合があり、そのようなときでも放電を
安定して発生させるように改良したもので、一旦
広がつた間隙を狭めて放電を開始させるとき、当
初は前記パルス集団の幅τon、中断間隔τoffの
一方若しくは両方を変更制御し、τonは小さ
く、τoffは大きく制御して放電判別回路で判別
し、短絡があれば、再び間隙洗浄を行ない、短絡
が無ければその後前記τon若しくはτoffの元の
設定値に戻すように制御したことを特徴とする。
し、中断によつて分離されたパルス集団と中断間
隔とを繰返して加工するとき、加工間隙の短絡に
よる後退サーボとかポンプ作用を働かせて間隙洗
浄をするレシプロ制御により広がつた加工間隙を
再び狭めて放電を開始するとき、尚、加工屑が滞
つている場合があり、そのようなときでも放電を
安定して発生させるように改良したもので、一旦
広がつた間隙を狭めて放電を開始させるとき、当
初は前記パルス集団の幅τon、中断間隔τoffの
一方若しくは両方を変更制御し、τonは小さ
く、τoffは大きく制御して放電判別回路で判別
し、短絡があれば、再び間隙洗浄を行ない、短絡
が無ければその後前記τon若しくはτoffの元の
設定値に戻すように制御したことを特徴とする。
以下一実施例の図面により本発明を説明する。
第２図に於て、１は加工電極、２は被加工体で、
この両者の対向により加工間隙を形成する。３は
加工電力を供給する電源で、トランジスタ等のス
イツチを介して加工間隙に並列接続されている。
スイツチ４のオン・オフスイツチングによつて電
源３をオン・オフ制御して加工間隙にパルスを加
えるようにする。５は加工条件等により設定され
た短い加工単位のパルス幅τon・ｓと間隔τ
off・ｓを有する単位パルス列を発生する発振
器、６はパルス集団の幅τonとパルスの無い中
断間隔τoffを決めるパルスを発生する発振器、
７は両発振器５，６の出力パルスを結合するアン
ドゲートで、これにより第１図のように単位パル
ス列がパルスの無い間隔τoffによつて中断さ
れ、中断制御によつて分離された幅τonのパル
ス集団が間隔τoffを置いて繰返されるパルス作
り、これを前記スイツチ４に加えて制御し同期し
た加工パルスを加工間隙に供給する。８は発振器
６のパルス間隔τoffを変更制御する制御装置
で、発振器の回路定数制御によりτoffを変化せ
しめる。勿論τonを制御しても、τon，τoffの
両方を制御してもよい。９は電極１にレシプロ運
動を与える駆動装置で、これは加工用サーボ駆動
装置を利用しても、又レシプロ制御用の特別の装
置を用いてもよい。１０は単位パルスによる加工
間隙の放電を検出して判別する回路で、判別は検
出電圧をシユミツト等の判別回路で高低を判別
し、印加電圧のうち放電発生数を判別し、放電の
内の良放電を、又不良放電を判別する。１１は判
別出力をカウントするプリセツトカウンタで、カ
ウントがプリセツト値に達すると信号を出力して
レシプロ制御回路１２を作動し、レシプロ制御信
号を駆動装置９に加えて制御する。１４は発振器
１５の発振するクロツクパルスをカウントするカ
ウンタで、前記レシプロ制御回路１２のレシプロ
運動の信号又はそのうちの復帰サイクルの信号に
同期する回路１３の同期信号によつて制御回路８
に与えている元の設定値を発する信号がクリアさ
れ、パルス発振器１５が発振するクロツクパルス
をカウントして時間信号を制御回路８に加える。
第２図に於て、１は加工電極、２は被加工体で、
この両者の対向により加工間隙を形成する。３は
加工電力を供給する電源で、トランジスタ等のス
イツチを介して加工間隙に並列接続されている。
スイツチ４のオン・オフスイツチングによつて電
源３をオン・オフ制御して加工間隙にパルスを加
えるようにする。５は加工条件等により設定され
た短い加工単位のパルス幅τon・ｓと間隔τ
off・ｓを有する単位パルス列を発生する発振
器、６はパルス集団の幅τonとパルスの無い中
断間隔τoffを決めるパルスを発生する発振器、
７は両発振器５，６の出力パルスを結合するアン
ドゲートで、これにより第１図のように単位パル
ス列がパルスの無い間隔τoffによつて中断さ
れ、中断制御によつて分離された幅τonのパル
ス集団が間隔τoffを置いて繰返されるパルス作
り、これを前記スイツチ４に加えて制御し同期し
た加工パルスを加工間隙に供給する。８は発振器
６のパルス間隔τoffを変更制御する制御装置
で、発振器の回路定数制御によりτoffを変化せ
しめる。勿論τonを制御しても、τon，τoffの
両方を制御してもよい。９は電極１にレシプロ運
動を与える駆動装置で、これは加工用サーボ駆動
装置を利用しても、又レシプロ制御用の特別の装
置を用いてもよい。１０は単位パルスによる加工
間隙の放電を検出して判別する回路で、判別は検
出電圧をシユミツト等の判別回路で高低を判別
し、印加電圧のうち放電発生数を判別し、放電の
内の良放電を、又不良放電を判別する。１１は判
別出力をカウントするプリセツトカウンタで、カ
ウントがプリセツト値に達すると信号を出力して
レシプロ制御回路１２を作動し、レシプロ制御信
号を駆動装置９に加えて制御する。１４は発振器
１５の発振するクロツクパルスをカウントするカ
ウンタで、前記レシプロ制御回路１２のレシプロ
運動の信号又はそのうちの復帰サイクルの信号に
同期する回路１３の同期信号によつて制御回路８
に与えている元の設定値を発する信号がクリアさ
れ、パルス発振器１５が発振するクロツクパルス
をカウントして時間信号を制御回路８に加える。
単位パルスによる放電を判別回路１０で判別
し、例えば放電電圧をあるレベルで判別してアー
ク・短絡等の前記レベル以下となる悪い放電を判
別し、判別毎に出力を発生する。判別出力はカウ
ンタ１１でカウントされるが、カウンタ１１はカ
ウンタ数がプリセツトされる。プリセツトは悪い
放電数をカウントするとき、レシプロ運動の制御
間隔を決めるもので、安定加工が行なえる最大の
範囲に設定される。加工間隙の状態が悪い時は全
体の放電中の悪い放電数が多くなるから、カウン
タ１１は急速にカウント数を増大しプリセツトに
達すると信号を出力し、反対に加工状態が良いと
悪い放電数が少なくなるからカウンタ１１はプリ
セツトまでカウントする時間が増大する。カウン
タ１１の出力によつて回路１２よりレシプロ信号
が出力し、駆動装置９を制御して電極１にレシプ
ロ運動させる。レシプロ制御は電極１を被加工体
２から後退離隔させて間隔を広げ、周りから加工
液を流入させて堆積する加工屑を撹拌させ、反転
して電極１を被加工体２に近接させて間隙を狭め
ることにより、前記加工液を間隙外に排除させ、
加工屑も液流に伴なわせて排除するポンプ作用を
行なわせる。このポンプ作用によつて間隙は洗浄
され、次の放電を安定させる作用を行なうが、前
記の電極１の移動を反転して被加工体２に近接さ
せるとき、前記単位パルス列の中断間隔を定常状
態の設定値よりも長く制御して、加工間隙に加工
屑が尚遍在したりしていて生じる短絡によるアー
ク放電状態を判別回路１０で判別し、短絡があれ
ば再び間隙の洗浄を行ない、短絡が無ければτ
off若しくはτonを元の設定値に戻し、加工再開
を安定させるよう制御する。
し、例えば放電電圧をあるレベルで判別してアー
ク・短絡等の前記レベル以下となる悪い放電を判
別し、判別毎に出力を発生する。判別出力はカウ
ンタ１１でカウントされるが、カウンタ１１はカ
ウンタ数がプリセツトされる。プリセツトは悪い
放電数をカウントするとき、レシプロ運動の制御
間隔を決めるもので、安定加工が行なえる最大の
範囲に設定される。加工間隙の状態が悪い時は全
体の放電中の悪い放電数が多くなるから、カウン
タ１１は急速にカウント数を増大しプリセツトに
達すると信号を出力し、反対に加工状態が良いと
悪い放電数が少なくなるからカウンタ１１はプリ
セツトまでカウントする時間が増大する。カウン
タ１１の出力によつて回路１２よりレシプロ信号
が出力し、駆動装置９を制御して電極１にレシプ
ロ運動させる。レシプロ制御は電極１を被加工体
２から後退離隔させて間隔を広げ、周りから加工
液を流入させて堆積する加工屑を撹拌させ、反転
して電極１を被加工体２に近接させて間隙を狭め
ることにより、前記加工液を間隙外に排除させ、
加工屑も液流に伴なわせて排除するポンプ作用を
行なわせる。このポンプ作用によつて間隙は洗浄
され、次の放電を安定させる作用を行なうが、前
記の電極１の移動を反転して被加工体２に近接さ
せるとき、前記単位パルス列の中断間隔を定常状
態の設定値よりも長く制御して、加工間隙に加工
屑が尚遍在したりしていて生じる短絡によるアー
ク放電状態を判別回路１０で判別し、短絡があれ
ば再び間隙の洗浄を行ない、短絡が無ければτ
off若しくはτonを元の設定値に戻し、加工再開
を安定させるよう制御する。
レシプロ運動の一旦広がつた間隙を狭める送り
信号は制御回路１２から検出され、このときの同
期信号を回路１３から出力し、カウンタ１４に入
力する。カウンタ１４のｃ点は制御装置８がレシ
プロ制御を行なう前の元の設定値となる信号を発
生するように設定されていて、その設定は広がつ
た間隙を狭める信号が回路１３からカウンタ１４
に入力したときにクリアされる。一方カウンタ１
４の左側にあるアンド回路１６につながるａ点，
ｂ点，ｃ点に対応する３本の回路a′，b′，c′の
中、ａ点，ｂ点、に対応する回路a′，b′は夫々１
で通じており、ｃ点に対応する回路c′が、前記ク
リア信号で０から１に変つてアンド回路１６は始
めて信号を発するようになる。
信号は制御回路１２から検出され、このときの同
期信号を回路１３から出力し、カウンタ１４に入
力する。カウンタ１４のｃ点は制御装置８がレシ
プロ制御を行なう前の元の設定値となる信号を発
生するように設定されていて、その設定は広がつ
た間隙を狭める信号が回路１３からカウンタ１４
に入力したときにクリアされる。一方カウンタ１
４の左側にあるアンド回路１６につながるａ点，
ｂ点，ｃ点に対応する３本の回路a′，b′，c′の
中、ａ点，ｂ点、に対応する回路a′，b′は夫々１
で通じており、ｃ点に対応する回路c′が、前記ク
リア信号で０から１に変つてアンド回路１６は始
めて信号を発するようになる。
この信号がカウンタ１４の右側のアンド回路１
７に通じ、そのアンド回路１７はクロツクパルス
発振器１５のクロツクパルスをカウンタ１４に送
り、カウンタ１４はそのクロツクパルスをカウン
トして、先ずａ点で信号を発生して制御装置８に
信号を加える。このａ点からの信号によつて制御
装置８は発振器６のτoffを最大に制御する。次
にカウントが進むにしたがつてｂ点で信号を発生
し制御装置８に加えてτoffを少し減少する制御
をする。最後にｃ点になつたところで、制御装置
８は元の設定値信号を発振器６へ送るようにな
り、それと同時にカウンタ１４の左側に送るｃ点
に対応するc′が１から０に変ることにより、アン
ド回路１６の出力は停止し、この停止に伴つてカ
ウンタ１４の右側のアンド回路１７はクロツクパ
ルス発振器１５からカウンタ１４への出力を断
つ。このようにしてカウンタ１４のｃ点から信号
が加わる制御装置８はτoffをレシプロ制御を行
なう前の元の設定値に戻すよう中断制御パルス発
振器６を制御するものであり、このときは加工間
隙が所定の安定加工中の微小間隙になつているよ
う前記カウンタ１４の出力選択を行なつておく。
このように広がつた間隙を狭めて放電を再開させ
るとき、単位パルス列の中断制御間隔を始めに増
大して平均電流密度を低下させた状態から放電を
始め次第に前記間隔を減少して元の設定値に戻す
よう制御することによつて、仮に間隙洗浄後も加
工屑が遍在していて短絡状態であつても、再び間
隙洗浄を行なう等して安定に加工の再開を行なう
ことができる。
７に通じ、そのアンド回路１７はクロツクパルス
発振器１５のクロツクパルスをカウンタ１４に送
り、カウンタ１４はそのクロツクパルスをカウン
トして、先ずａ点で信号を発生して制御装置８に
信号を加える。このａ点からの信号によつて制御
装置８は発振器６のτoffを最大に制御する。次
にカウントが進むにしたがつてｂ点で信号を発生
し制御装置８に加えてτoffを少し減少する制御
をする。最後にｃ点になつたところで、制御装置
８は元の設定値信号を発振器６へ送るようにな
り、それと同時にカウンタ１４の左側に送るｃ点
に対応するc′が１から０に変ることにより、アン
ド回路１６の出力は停止し、この停止に伴つてカ
ウンタ１４の右側のアンド回路１７はクロツクパ
ルス発振器１５からカウンタ１４への出力を断
つ。このようにしてカウンタ１４のｃ点から信号
が加わる制御装置８はτoffをレシプロ制御を行
なう前の元の設定値に戻すよう中断制御パルス発
振器６を制御するものであり、このときは加工間
隙が所定の安定加工中の微小間隙になつているよ
う前記カウンタ１４の出力選択を行なつておく。
このように広がつた間隙を狭めて放電を再開させ
るとき、単位パルス列の中断制御間隔を始めに増
大して平均電流密度を低下させた状態から放電を
始め次第に前記間隔を減少して元の設定値に戻す
よう制御することによつて、仮に間隙洗浄後も加
工屑が遍在していて短絡状態であつても、再び間
隙洗浄を行なう等して安定に加工の再開を行なう
ことができる。
勿論加工再開時に発振器６のτonを減少制御
しても又τonとτoffとを同時に制御してもよく
加工再開時に電流密度を制御することによつて安
定に加工開始をすることができる。又前記τ
off，τonの制御は前記のように２段階以上の制
御を行なわなくても１段の減少若しくは増大制御
でも効果はある。そして変更制御されたτon又
はτoffを元の設定値に戻すには前記のように時
間的に正常状態に戻る時期を設定して置かなくて
も、加工間隙の放電状態を検出して正常復帰を検
出し、設定値に戻す制御行なうようにしてもよ
い。何れにしても正常復帰後に設定値に切換える
ことにより以後安定した加工を行なうことができ
る。
しても又τonとτoffとを同時に制御してもよく
加工再開時に電流密度を制御することによつて安
定に加工開始をすることができる。又前記τ
off，τonの制御は前記のように２段階以上の制
御を行なわなくても１段の減少若しくは増大制御
でも効果はある。そして変更制御されたτon又
はτoffを元の設定値に戻すには前記のように時
間的に正常状態に戻る時期を設定して置かなくて
も、加工間隙の放電状態を検出して正常復帰を検
出し、設定値に戻す制御行なうようにしてもよ
い。何れにしても正常復帰後に設定値に切換える
ことにより以後安定した加工を行なうことができ
る。
又前記レシプロ制御は加工間隙の放電を検出判
別し、それをカウンタで積分することによりレシ
プロ制御信号を発生して制御するようにしたが、
レシプロ制御は一定の時間間隔で行なう場合もよ
く、間隙の電圧、電流、インピーダンス等の変化
を信号として行なうことでもよい。
別し、それをカウンタで積分することによりレシ
プロ制御信号を発生して制御するようにしたが、
レシプロ制御は一定の時間間隔で行なう場合もよ
く、間隙の電圧、電流、インピーダンス等の変化
を信号として行なうことでもよい。
又加工間隙はレシプロ制御される他に、サーボ
制御される加工間隙がアーク・短絡等により間隙
が大きく広がり、間隙が広がることによつて短絡
が解消されると、今度は反転して間隙は急速に狭
められるようサーボされるが、又加工途中手動に
より加工中止し、間隙を広げて内部の様子を観察
た後、再び電源をオンして間隙を狭めて放電加工
を始める等の通常の加工操作上行なわれる間隙制
御に於ても、その運動によつて一旦広がつた間隙
を急速に狭めるとき、前記パルス集団の幅τ
on、中断制御の間隔τoffの一方又は両方を制御
し、電流密度を低減した状態で加工開始させるこ
とにより、より安定して加工開始制御をすること
ができる。
制御される加工間隙がアーク・短絡等により間隙
が大きく広がり、間隙が広がることによつて短絡
が解消されると、今度は反転して間隙は急速に狭
められるようサーボされるが、又加工途中手動に
より加工中止し、間隙を広げて内部の様子を観察
た後、再び電源をオンして間隙を狭めて放電加工
を始める等の通常の加工操作上行なわれる間隙制
御に於ても、その運動によつて一旦広がつた間隙
を急速に狭めるとき、前記パルス集団の幅τ
on、中断制御の間隔τoffの一方又は両方を制御
し、電流密度を低減した状態で加工開始させるこ
とにより、より安定して加工開始制御をすること
ができる。
正常間隙に於ける加工は加工条件等によつて設
定される単位パルスの列を所定に設定されたパル
スの無い間隔で中断することにより、この中断中
に間隙の加工屑等の排除作用を行なわせこの中断
制御によつて分離されたパルス集団を繰返し加工
することによつて安定した加工を行なうことがで
き、そして間隙が一旦広がつて後、間隙を狭めて
加工を再開するときは、前記パルス集団の幅又は
中断制御の間隔の一方若しくは両方を変更制御
し、幅τonは小さく、間隙τoffは大きく制御
し、正常状態になつたとき、元の設定値に戻すよ
う制御することにより、尚、加工間隙の加工屑等
の排除が滞つた場合でも、通常の加工を行なう前
に再び排除作業を行なうことができる等安定した
加工の開始制御ができ、従つて加工始め、加工再
開、加工抜口等の加工が安定してでき、加工速度
が増大し、加工能率が極めて向上した放電加工が
行なえる効果がある。
定される単位パルスの列を所定に設定されたパル
スの無い間隔で中断することにより、この中断中
に間隙の加工屑等の排除作用を行なわせこの中断
制御によつて分離されたパルス集団を繰返し加工
することによつて安定した加工を行なうことがで
き、そして間隙が一旦広がつて後、間隙を狭めて
加工を再開するときは、前記パルス集団の幅又は
中断制御の間隔の一方若しくは両方を変更制御
し、幅τonは小さく、間隙τoffは大きく制御
し、正常状態になつたとき、元の設定値に戻すよ
う制御することにより、尚、加工間隙の加工屑等
の排除が滞つた場合でも、通常の加工を行なう前
に再び排除作業を行なうことができる等安定した
加工の開始制御ができ、従つて加工始め、加工再
開、加工抜口等の加工が安定してでき、加工速度
が増大し、加工能率が極めて向上した放電加工が
行なえる効果がある。
又前記加工開始の制御は、加工条件によつて設
定した加工用の単位パルスはそのままに、パルス
集団の幅又は間隔を制御するものであるから、こ
の制御によつても加工面粗さ、加工拡大代等を変
化させず加工することができ、精度の良い加工を
行なうことができる。ワイヤカツト放電加工、３
軸制御の放電加工、抜き型放電加工等に於て効果
が大きい。
定した加工用の単位パルスはそのままに、パルス
集団の幅又は間隔を制御するものであるから、こ
の制御によつても加工面粗さ、加工拡大代等を変
化させず加工することができ、精度の良い加工を
行なうことができる。ワイヤカツト放電加工、３
軸制御の放電加工、抜き型放電加工等に於て効果
が大きい。
第１図は本発明を説明するパルス波形説明図、
第２図は本発明の一実施例回路構成図である。 １…電極、２…被加工体、３…電源、４…スイ
ツチ、５…単位パルス発振器、６…中断制御パル
ス発振器、８…制御装置、９…レシプロ駆動装
置、１０…放電判別回路、１１…プリセツトカウ
ンタ、１２…レシプロ制御回路、１４…カウン
タ、１５…クロツクパルス発振器。
第２図は本発明の一実施例回路構成図である。 １…電極、２…被加工体、３…電源、４…スイ
ツチ、５…単位パルス発振器、６…中断制御パル
ス発振器、８…制御装置、９…レシプロ駆動装
置、１０…放電判別回路、１１…プリセツトカウ
ンタ、１２…レシプロ制御回路、１４…カウン
タ、１５…クロツクパルス発振器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 短い加工単位のパルス幅と間隔を持つた単位
パルス列をパルスの無い間隔によつて中断させる
ことにより単位パルスの集団とパルスの無い間隔
とを繰返すパルスを電極、被加工体の加工間隙に
供給して加工する放電加工に於て、電極レシプロ
運動を与えるレシプロ駆動装置とレシプロ制御回
路とを備え、このレシプロ駆動装置で前記加工間
隙が所定間隙より広がつた後、その広がつた間隙
を狭めて放電を開始するとき、レシプロ制御回路
の信号に基づいて前記パルス集団の幅、又は中断
間隔の一方若しくは両方を制御し、パルス集団の
幅は小さく、中断間隔は大きく制御し、その後元
の設定値に戻すよう制御することをレシプロ駆動
装置が作動する毎に同期して繰返すことを特徴と
する放電加工方法。 ２ パルス集団の幅又は中断間隔の変更制御は１
段階若しくは２段階以上に制御し、それを時間経
過にしたがつて制御することを特徴とする特許請
求の範囲第１項に記載の放電加工方法。 ３ 所要の時間が経過したときパルス集団の幅又
は中断間隔を設定値に戻すことを特徴とする特許
請求の範囲第１項に記載の放電加工方法。 ４ 加工間隙の短絡によるアーク放電状態等を検
出して異常が無いときにパルス集団の幅又は中断
間隔を設定値に戻すことを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載の放電加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1069578A JPS54104097A (en) | 1978-02-01 | 1978-02-01 | Electrospark machining |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1069578A JPS54104097A (en) | 1978-02-01 | 1978-02-01 | Electrospark machining |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54104097A JPS54104097A (en) | 1979-08-15 |
| JPS6236807B2 true JPS6236807B2 (ja) | 1987-08-10 |
Family
ID=11757410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1069578A Granted JPS54104097A (en) | 1978-02-01 | 1978-02-01 | Electrospark machining |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54104097A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02109636A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-23 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電解仕上げ加工方法 |
| JP2578397B2 (ja) * | 1994-01-10 | 1997-02-05 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置の電極制御方法及び装置 |
-
1978
- 1978-02-01 JP JP1069578A patent/JPS54104097A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54104097A (en) | 1979-08-15 |
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