JPS61118345A - シクロヘキセン誘導体 - Google Patents

シクロヘキセン誘導体

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JPS61118345A
JPS61118345A JP23989584A JP23989584A JPS61118345A JP S61118345 A JPS61118345 A JP S61118345A JP 23989584 A JP23989584 A JP 23989584A JP 23989584 A JP23989584 A JP 23989584A JP S61118345 A JPS61118345 A JP S61118345A
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Yasumitsu Tamura
田村 恭光
Manabu Sasho
学 佐生
Hiroko Oe
大江 寛子
Shuji Akai
周司 赤井
Yasuyuki Kita
泰行 北
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 f)71υL訪 本発明は、新規なシフ0へ辛セン誘導体に関する。
従来の技術 従来、ダウノマイy) y (Ikmmamytin 
)、11−デオ牛シダウノマイシy (l l −De
azydaazmmmyein Qアトリアマイ!/ 
y (Adrimmfgin )  及び11−ヂオ牛
317’ドリフ?イ!/ ン(l l −Dtezyg
driayptytipt)の合成中間体〔下記一般式
(1)で表わされる化合物〕は、D、N、Gmpza等
1.t S9Kgrdt等及び1.P。
Gezzem 等によシ報告されて−る( J、 Ch
ews、 Set。
Perkin 1. l 9g l、 6739 ; 
l、As、Chews、Set、。
98、   J967(1976)  :J、(Jsz
wg、Set、CkgqCawwxwm、、1982.
421 + J、Og、CAem、、 4(5゜279
9(1981)参照)。・。
〔式中R″は水素原子又は水酸基を示す0〕しかしなが
ら、上記文献に記載の方法では、−般式(1)の化合物
を収率よ〈製造し得す、工業的に満足できるものではな
い。
履点を解決するための手段 本発明者等は、11−デオ十シタウノマイシン及びII
−デオ牛シアドリアマイシンの合成中間体〔即ちR4が
水素原子である一般式(1)の化合物、以下「化合物(
1m)Jと−う〕を収率よく製造すべく鋭意研究を重ね
た結果、下記一般式(2)で表わされるシフ0へ牛セン
誘導体を経由する場合に本発明の所期の目的を達成し得
ることを見い出した。
本発明は斯かる知見く基づき完成されたものであるO 本発明のシフ0へ中tシ誘導体は、文献未載の新規化合
物であって、下記一般式(2)で表わされん(式中R1
及びR2は各々水素原子又は低級アル牛ル基を、R3は
トリ(低級アル+ル)シリルこともできる。〕 本明細書くお−て、低級アル中ル基としては例えばメチ
ル、エチル・躍−プロビル、イソプロピル、胃−ブチル
、tart  −ブチル、震−ペンチル、n−へ牛シル
基等の炭素数1〜6の直鎮又は分枝鎖状アル牛ル基を挙
げることができる。
上記一般式(2)で表わされる本発明化合物は、例えば
反応行程式−1に示す方法によ〕製造できムく反応行程
式−1〉 (3)              (>)(2#) 
          (2g>〔式中、R1′及びR′
は各々低級アル十ル基を示すOR3は前記に同じ。〕 反応行程式−!によれば、公知の一般式(3)で表わさ
れる化合物に公知の一般式(4)で表わされる化合物を
反応させることにより一般式(2a)  で表わされる
化合物が製造され、次−で該化合物(2m)を加水分解
反応及び/又は脱シリレージヨシ反応させることによシ
一般式(2−)  で表わされる化合物が製造され、更
に該化合物(2リ を閉環反応させることによシ一般式
(2C)  で表わされる化合物が製造される。
更に詳しくは、化合物(3)と化合物(4)との反応は
、適当な不活性溶媒中、強塩基性化合物及び塩化第一1
リウ乙の存在下、反応温度−80℃〜宣温程室温反応時
間5分〜8時間程度で実施される。使用される不活性溶
媒としては、例えばテトラヒト。ワラ、(THF )、
ジオ中サン・ジエチルエーテル等のエーテル類、へ牛す
シーシク0へ牛サン等の飽和炭化水素類等を例示でき、
また強塩基性化合物としては、例えばN−ブチルリチウ
ム等の低級アル牛ルリチウム、リチウム、ナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属、水素化ナトリウム等の水素
化アルカリ金属、リチウムシイツブ0ピルアニド等を挙
げることができる。使用される化合物(4)の量として
は、化合物(3)に対して通常少なくとも等亡ル量程度
、好ましくは等℃ルー2倍℃ル量とするのがよく、を九
強塩基性化合物の社としては、化合物(3)に対して通
常少なくとも等℃ル量程度、好ましくは等℃ルー1.5
倍℃ル鳳とするのがよく、更に塩化第一リチウムの鯰と
しては、化合物(3)に対して通常少なくとも等七ルf
fl程度、好ましくは1〜3倍℃ル愈とするのがよ−。
上記反応の好ましい一実施態様を示せば、化合物(2つ
 は、まず適当な不活性溶媒中化合物(4)に強塩基性
化合物を−30〜−50°C程度にて5分子HJ〜1時
間程度反応させ、次いで得られる反応液に塩化第一七リ
ウムを加えて一り0℃〜−50℃程度にて30分間〜2
時間反応させ、更に得られる反応液に化合物(3)を加
えて一80°C〜室温程度にて30分間〜5時間程度屓
応させること−よシ製造される。
化合物(24)  の加水分解反応及び/又は脱シリレ
ーション反応は、適当な不活性溶媒中、アルカリ触媒の
存在下に反応温度50〜120°C程度、好ましくは7
0〜100℃、反応時間3〜15時間程度で実施されろ
。使用される不活性溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、庫−フロパノール等の低級アルコール類、
ジオ牛サン、THF等のエーテル類、ジメチルホルムア
ニド、ジメチルスルホ牛シト等を例示できる。またアル
カリ触媒としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム等の無41塩基性化合物を挙
げることができる。
化合物(2−)  の閉環反応は、適当な不活性溶媒中
、一般式(5) %式%(5) 〔〈中、R5は低級アル中ル基を、R6はトリ(低級ア
ル牛ル)シリル基又は水素原子を示す。〕で表わされる
化合物の存在下、反応温度0〜80℃程度、好ましくは
室温付近、反応時間lO分間〜6時間程度で実施される
。使用される不活性溶媒としては、例えばり00ホルム
、塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等のハロゲン
化飽和炭化水素類、THF、ジオ牛サン、ジエチルエー
テル等のエーテル類、ベシせン等の芳香族炭化水素類、
アtトニト9ル等のニトリル類、へ+サン、シクロへ牛
サン等の飽和炭化水素類等を例示できる。
使用される化合物(5)の量としては、化合物(2りに
対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは1.5
〜2.5−倍Cル量とするのがよh0斯くして製造され
た本発明化合物は、下記反応行程式−2に示す方法によ
シ化合物(1a)  に誘導される。
く反応行程式−2〉 〔式中XはjJI素原子、臭素原子、沃素原子等のハロ
ゲン原子又は水素原子を示す。〕 公知の化合物(6)と化合物(2e)  との反応は、
適当な不活性溶媒中、強塩基性化合物の存在下、反応温
度−80〜50°C程度、好ましくは−lO°C〜室温
付近、屓応時間10分〜6時間程度で実施 −される。
使用される不活性溶媒としては、例えば1M!’%ジオ
牛サン、ジエチルエーテル等のニーデル類、へ十サン、
シフOへ士サン等の飽和炭化水素類、ベンゼン等の芳香
族炭化水素類等を例示でき、強塩基性化合物としては、
例えば8−ブチルリチウム等の低級アル辛ルリチウム、
ナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属、水
素化ナトリウム、水素化カリ゛ウム、水素化リチウム等
の水素化アルカリ金属、リチウムシイツブ0ごルアニド
等を例示できる。化合物(2r)  の使用量としては
、化合物(6)に対して通常少なくとも等℃ル量程度、
好ましくは等℃ルー1.5倍℃ル駄、また強塩基性化合
物の量としては、化合物(2C)  に“対して通常少
なくとも等℃ル量程度、好ましくは2〜3倍亡ル鰍とす
るのがよ−〇 上記で製造される本発明化合物及び化合物(+4i) 
 は、通常の分離手段、例えば再結晶法、蒸留法、カラ
ムク0マドクラフイー等により反応混合物から容易に単
離することができる。
発明の効果 本発明の化合物は、上記化合物(1m)  を合成する
ための中間体として有用な化合物である0木発明の化合
物を経由すれば、化合物(1d)  を収率よくしかも
高純度で製造し得る。
遺−IJL 以下に実施例及び参考例を掲げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
実施例 1 1−)リメチルシリルアセチレン0.2sg(1,4m
mm1  )の乾燥THF5@l溶液に、窒素気流下−
35〜40℃で8−ブチルリチウム0.851d(1,
36門ml、l、6M溶液)を滴下した。次にこの溶液
を、窒素気流下−78°CKて乾燥塩化第−tツリウム
401’IC2,6npnal )  の乾燥T II
 F1011/溶液に滴下した。1時間後、窒素気流下
−78°Cにて更にエチル 2−カルボエト+シー5−
オ中ソー1−シクロへ中シリデシアセテート230q(
0,91metal )の乾燥T H15ml溶液を滴
下した。−78“Cで2時間攪拌後、徐々に室温に戻し
、30分間攪拌した。飽和NH,C4水511tを加え
、次いで水10mを加え、10%塩酸水溶液にて酸性に
し、ベン1!ンで抽出した(15*tX3回)。抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した
。残渣をシリカゲルカラムク0マドクラフイー(#−へ
牛サン:酢酸エチル−3:I)Kて精製してエチル 2
−カルボエト牛シーラーヒト0牛シー5−トリメチルシ
リルエチニル−l−シフ0へ中シリデシアセテート22
7MI(収率71%)を得た。
3−H−NMR(CnC13) s Jo、 17 (
j、 9H,Si (CH3)3)1、31 (1,6
H,/−THE、 2×C02CC02C)1.95〜
2.20(#’、4M、2×CH2)3.10〜3 、
4 Q (fR,3H,CH2,CM )、)、 l7
(q、 4H,J−7Hz、 2xC02CM2CM3
)5、81(#r、z、 IN、 −CM−’)/ R
(CHCJ s ) tx−” 3000.2950.1725 M5  計算値(C工aHa aOsS Jとして):
 352.1703実測値            :
352.1696実施例 2 エチル 2−カルボエト中シー5−しドロ中シー5−ト
リメチルシリルエチニル−1−シクロへ中シリデシアセ
テート+ 96jlF(0,557m5#j)、1.7
%水酸化カリウム水溶液5 zt及びエタノールグーの
混合物を8時間還流した。冷却後エタノールを留去し、
エーテル5−で洗浄した。次にニーデルIC)xlを加
え、濃塩酸で戸H=3にし、更に “食塩水を加え、エ
ーテルで抽出した(15g/X4回)。抽出液を芒硝に
て乾燥後、溶媒を留去して2−カルボ中シー5−エチニ
ルー5−七ド0牛ジシクロへ中シニル酢陵を走置的に得
た。
iIINMB (ア七トン−d6 ): δ1、80〜
2.10(m、 2H,CH2)2.45〜2.70(
jFl、 4H,CM2X2 )2、84(t、 7N
、 −CwmCH)3、51(j、 2H,CM:a) 1B(ニート)α−1 3400〜2850.1720〜l640実施例 3 2−カルボ中シー5−エチニル−5−しド0牛シシク0
へ牛セニル酢酸91M1(0,41−ml )の乾燥ジ
グ0ルメタン7 mlに、窒素気流中0℃にてl−エト
牛シー2−トリメ゛チルシリルアセチレン12811g
(0,90Iw#101 )を滴下し、その後室温にて
4時間攪拌した。不溶物を戸数し、p液を減圧下に濃縮
した後、高真空下で1時間乾燥して黒褐色オイルの6−
ニチニルー6−しドO牛シー5,6゜7,8−テトラし
ドo−IH−2−ペンリじラン−1,3(4#)−ジオ
ンを78ダ(収率92%)得たOLH,、−NMR(C
DCI、) :δ1、80〜2.10(m、 211.
 CH2)2、39(j、 IH,−CmCH) 2.45〜2.60(Ill、 4M、 CM2×2 
)’ 、29 (” −’ 、2H1CM 2)I R
(CDCl5) cm−” 3300.3025,2950,1800jA、+74
0参考例 水素化ナトリウム(60%油性) 33 # (0,8
25#l#Iel )  の乾燥THF31d@液に、
窒素気流下、0℃にて6−エチニル−6−ヒドロ牛シー
5.6.7゜8−テトラしドo−1#−2−ベシリピラ
ン−1,3(4ff)−ジオシロ8岬(0,33馴−l
)の乾燥T HF 31.11溶液を滴下した。5分後
更に窒素気流下、0°Cにて3−プロ!−5−メト+シ
ー1.4−ナフト’F / :/ 88 ”f (0,
33””’  ) CI乾燥7”1lF5zlWi液を
滴下し、20分後室温にて2時間攪拌した。次に飽和N
H,(4水5 mlを加え、次−で水5dを加え、10
%塩酸水溶液で酸性くし、ジクロルメタンで抽出した(
15mX3回)。抽出液を飽和食塩水10mで洗浄し、
芒硝にて乾燥後溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムク0マドタラフイー(ジクロルメタン:エーテル−3
0:1〜ton)にて精製して6,9−ジしドロ中シー
9−エチニルー4−メト牛シー7、8.9.10 −テ
トラしドロナフタt:/−5.12−ジオン48ダ(収
率42%)を得九。
鱈7250〜252℃(再結晶溶#&:ジク0ルメタン
ーメタノール) 111NMR(CDCら):δ 2−17 (’+ 2’+ ’−6−5H1+ CH2
)2.31(ffi、1#、0R) 2、47 (z 、 l II、 −CmCH)3、Q
3(1,2H,J、6.5Rg、CH2)3 、20 
(d 、 2M、 / 〜4.3Hz 、 CHa )
4、07(1,3M、OCH,) 7.35(d〆、 1M、 /−7,5,1,5Hz、
 At−H)7、5Q(j、 l//、 Ar −H)
7、72(t、 l/f、 /−7,5Hz、Ar −
H)7.9f)(dd、 )H,/−7,5、l、 5
Hz、 Ar−H)13.39(J、IH,At−0R
) IR(KCI): cat−” 3460.3260,1660,1620.1580k
fs  計算値(C2□H工6’5として’): 34
8.0998実測値           :348.
1008(以 上)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1及びR^2は各々水素原子又は低級アルキ
    ル基を、R^3はトリ(低級アルキル)シリル基又は水
    素原子を示す。また式中基 ▲数式、化学式、表等があります▼は閉環して基▲数式
    、化学式、表等があります▼を形成す ることもできる。〕 で表わされるシクロヘキセン誘導体。
JP23989584A 1984-11-14 1984-11-14 シクロヘキセン誘導体 Granted JPS61118345A (ja)

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