JPS6113455A - 情報記録担体とその製造方法 - Google Patents
情報記録担体とその製造方法Info
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- JPS6113455A JPS6113455A JP59134206A JP13420684A JPS6113455A JP S6113455 A JPS6113455 A JP S6113455A JP 59134206 A JP59134206 A JP 59134206A JP 13420684 A JP13420684 A JP 13420684A JP S6113455 A JPS6113455 A JP S6113455A
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- Japan
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
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-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/2534—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins polycarbonates [PC]
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- G—PHYSICS
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光学的記録あるいは再生方式に使用される円盤
上の情報記録担体に関するものである。
上の情報記録担体に関するものである。
従来例の構成とその問題点
光学的記録再生方式においては、回転駆動される円盤状
情報記録担体（以下ディスクと呼ぶ）の光記録層に、清
報信号に対応したレーザ光を照射することにより、光記
録層に光学的な濃淡あるいは凹凸を設けて、情報の記録
・再生を行うもので数μｍの微小信号を記録することが
でき、原理的には光の波長程度の高密度記録が可能な方
式である。
情報記録担体（以下ディスクと呼ぶ）の光記録層に、清
報信号に対応したレーザ光を照射することにより、光記
録層に光学的な濃淡あるいは凹凸を設けて、情報の記録
・再生を行うもので数μｍの微小信号を記録することが
でき、原理的には光の波長程度の高密度記録が可能な方
式である。
取返では、情報化社会の中にあって、オフィスオートメ
ーションやラボラトリ−オートメーション等の合理化が
重要視されてきておシ、こうした要望に応えるものとし
て、ユーザーが自由に記録再生のできる追加記憶形ディ
スクは最適である。
ーションやラボラトリ−オートメーション等の合理化が
重要視されてきておシ、こうした要望に応えるものとし
て、ユーザーが自由に記録再生のできる追加記憶形ディ
スクは最適である。
それと同時に高感度の記録媒体を始めとし、高性能な部
品材料が必要であシ、外部環境の変化による記録媒体の
劣化を生じないディスク構造が要求される。
品材料が必要であシ、外部環境の変化による記録媒体の
劣化を生じないディスク構造が要求される。
ここで、従来から使われているディスクの記録膜劣化の
一例を図面とともに説明する。第１図はポリカーボネー
ト樹脂からなるディスク基材１に光案内用の溝２が設け
られており、その上に記録膜３が蒸着されている。さら
にこれらの外表面全体が紫外線硬化樹脂からなる保護膜
４で覆われている。
一例を図面とともに説明する。第１図はポリカーボネー
ト樹脂からなるディスク基材１に光案内用の溝２が設け
られており、その上に記録膜３が蒸着されている。さら
にこれらの外表面全体が紫外線硬化樹脂からなる保護膜
４で覆われている。
このような構造のディスク基材１、記録膜３、保護膜４
の線膨張係数は様々の場合が多く、高温高湿な環境下に
置かれた時や、この環境と室温雰囲気とのサイクル条件
下の時には熱膨張の度合が異なるためそれぞれの境界面
で内部応力を発生することが多い。各境界面での接着力
がこの内部応力に耐えられない時は、例えば第２図ｆａ
）、（ｂ）に示されるように、ディスク基材１と記録膜
３の間、もしくは記録膜３と保−膜４との間に微小な剥
離ｓａ、ｓｂを発生することがある。実験によれば、微
小な剥離は第２図（ａ）の場合が非常に多く、これは、
ディスク基材１の表面の薄層状の汚れやディスク基材成
形時の表層変質層が原因と考えられ、洗浄液による一般
的な洗浄法では解決し難いものである。
の線膨張係数は様々の場合が多く、高温高湿な環境下に
置かれた時や、この環境と室温雰囲気とのサイクル条件
下の時には熱膨張の度合が異なるためそれぞれの境界面
で内部応力を発生することが多い。各境界面での接着力
がこの内部応力に耐えられない時は、例えば第２図ｆａ
）、（ｂ）に示されるように、ディスク基材１と記録膜
３の間、もしくは記録膜３と保−膜４との間に微小な剥
離ｓａ、ｓｂを発生することがある。実験によれば、微
小な剥離は第２図（ａ）の場合が非常に多く、これは、
ディスク基材１の表面の薄層状の汚れやディスク基材成
形時の表層変質層が原因と考えられ、洗浄液による一般
的な洗浄法では解決し難いものである。
微小剥離は一度発生すると、その後の剥離が助長され易
く、周囲に拡大する可能性を十分もっている。これは初
期の剥離を発生させる応力と、剥離の存在しているもの
を押し開く応力とではメカニズムが異なシ、後者の方が
よシ小さい力で発生させることができるからである。
く、周囲に拡大する可能性を十分もっている。これは初
期の剥離を発生させる応力と、剥離の存在しているもの
を押し開く応力とではメカニズムが異なシ、後者の方が
よシ小さい力で発生させることができるからである。
このような微小剥離は、初期は真空状態であるため、デ
ィスクの外気に触れている部分との通気が生じると、−
瞬にして剥離部内に外気を取シ入れることになる。した
がって、外気の環境が高温高湿な条件下であると、湿度
の影響を受は易い材料の場合には、酸化をし劣化が促進
されることが考えられる。また剥離部の外気との通気が
瞬時に発生しなくても、一度剥離を生じた箇所は接着力
が弱まっておシ、その後ディスク基材や保護膜を徐々に
浸透してきた水分によって影響を受ける可能性は十分あ
り記録膜の劣化はまぬかれない。
ィスクの外気に触れている部分との通気が生じると、−
瞬にして剥離部内に外気を取シ入れることになる。した
がって、外気の環境が高温高湿な条件下であると、湿度
の影響を受は易い材料の場合には、酸化をし劣化が促進
されることが考えられる。また剥離部の外気との通気が
瞬時に発生しなくても、一度剥離を生じた箇所は接着力
が弱まっておシ、その後ディスク基材や保護膜を徐々に
浸透してきた水分によって影響を受ける可能性は十分あ
り記録膜の劣化はまぬかれない。
以上は、記録膜が比較的透水性の小さいポリカーボネー
ト樹脂やこれと等価な保護膜で外気から迦断保譲されて
いても、剥離を生じた場合にはその効果は消滅し、ディ
スクの信頼性の点で重大な問題となる。もし、剥離の状
態が拡大せず微小剥離のままでめったとしても、記録、
再生時のレーザ光の照射に対してはその影響をまぬかれ
ず、特性の低下からディスクとしての信頼性を失うこと
になる。
ト樹脂やこれと等価な保護膜で外気から迦断保譲されて
いても、剥離を生じた場合にはその効果は消滅し、ディ
スクの信頼性の点で重大な問題となる。もし、剥離の状
態が拡大せず微小剥離のままでめったとしても、記録、
再生時のレーザ光の照射に対してはその影響をまぬかれ
ず、特性の低下からディスクとしての信頼性を失うこと
になる。
発明の目的
本発明は以上のような欠点を除去し、高温高湿り磯倍Ｔ
に置かれても剥離を廃止せず、記録膜の劣化を最小限に
押さえる信頼性の高いｔｒｔ報記録担体とその製造方法
を提供するものである。
に置かれても剥離を廃止せず、記録膜の劣化を最小限に
押さえる信頼性の高いｔｒｔ報記録担体とその製造方法
を提供するものである。
発明の構成
本発明は光案内用の溝を形成したディスク基材の溝形成
面全体に、遠紫外線を照射して洗浄効果をもたせ、光記
録膜との接着性を強化するものである。これにより、光
記録膜のディスク基材からの剥離を防止するとともに、
寿命の長い信頼性の高いディスクの製作を可能にするも
のである。・実施例の説明 。
面全体に、遠紫外線を照射して洗浄効果をもたせ、光記
録膜との接着性を強化するものである。これにより、光
記録膜のディスク基材からの剥離を防止するとともに、
寿命の長い信頼性の高いディスクの製作を可能にするも
のである。・実施例の説明 。
以下、本発明の実施例を図面とともに説明する。
第３図において、第１図、第２図と同一物は同一番号を
付して説明する。第３図において、ポリカーボネート樹
脂からなるディスク基材１に光案内用の溝２が設けてあ
り、この溝形成面全体に対して第３図のととく遠紫外線
６を照射する。こうして照射された紫外線励起物理的、
化学的活性層７は、薄膜状の汚れや不均一な表層変質層
も除去する効果があシ、光学的に均一な基材表面か得ら
れる。
付して説明する。第３図において、ポリカーボネート樹
脂からなるディスク基材１に光案内用の溝２が設けてあ
り、この溝形成面全体に対して第３図のととく遠紫外線
６を照射する。こうして照射された紫外線励起物理的、
化学的活性層７は、薄膜状の汚れや不均一な表層変質層
も除去する効果があシ、光学的に均一な基材表面か得ら
れる。
紫外線励起物理的、化学的活性層７を形成後は屑浄な状
態を保ちながら、短時間のうちに第４図のごとく、活性
層７の上に記録膜３を蒸着法またはスパッタ法により形
成する。さらにこれらのディスク基板８の全外表面を紫
外線硬化樹脂からなる保護膜４で傑っている。
態を保ちながら、短時間のうちに第４図のごとく、活性
層７の上に記録膜３を蒸着法またはスパッタ法により形
成する。さらにこれらのディスク基板８の全外表面を紫
外線硬化樹脂からなる保護膜４で傑っている。
このように遠紫外線を基材表面に照射したものは、記録
膜の基材に対する接着力が非常に強化され、例えば７０
°Ｃ９０％Ｒ，Ｈ，のような苛酷な環境下での寿命試験
をした場合でも、微小な剥離の発生は全くなく、寿命の
点からしても、処理しない基板の数倍の寿命をもつとい
う結果が得られたこの原因の一つとしては遠紫外線の照
射によってオゾンが発生し、この影響を受けて基材表面
が酸化をされ−Ｃ極性基が生じ、接着力が強化されるこ
とが考えられる。１だ酸素プラズマによる基材表ｍｌの
改質処理の場合のように極めて微小な凹凸が発生するこ
とによって接着力が強化されることも一つの原因と考え
られる。こうした現象は遠紫外線励起による物理的、化
学的に活性化された層が基材表面に発生するということ
もできる。同時に、薄層状の汚れや不均一な表層変質層
を均一化する点においては基材表面の洗浄効果をもつこ
とも考えられる。
膜の基材に対する接着力が非常に強化され、例えば７０
°Ｃ９０％Ｒ，Ｈ，のような苛酷な環境下での寿命試験
をした場合でも、微小な剥離の発生は全くなく、寿命の
点からしても、処理しない基板の数倍の寿命をもつとい
う結果が得られたこの原因の一つとしては遠紫外線の照
射によってオゾンが発生し、この影響を受けて基材表面
が酸化をされ−Ｃ極性基が生じ、接着力が強化されるこ
とが考えられる。１だ酸素プラズマによる基材表ｍｌの
改質処理の場合のように極めて微小な凹凸が発生するこ
とによって接着力が強化されることも一つの原因と考え
られる。こうした現象は遠紫外線励起による物理的、化
学的に活性化された層が基材表面に発生するということ
もできる。同時に、薄層状の汚れや不均一な表層変質層
を均一化する点においては基材表面の洗浄効果をもつこ
とも考えられる。
微小な凹凸を発生した場合のＣ／へ、ｈＦ振幅等の再生
信号への影響はほとんどなく、遠紫外線の照射条件の選
択によって最適値を選ぶことが可能である。
信号への影響はほとんどなく、遠紫外線の照射条件の選
択によって最適値を選ぶことが可能である。
、実験においては、遠紫外線の波長は２５３７八を主波
長とした１８４９人を含む混合波を用い、照射パワーと
しては２ 、６１ ｍＷ／ｃＶ稙程度を使用した。
長とした１８４９人を含む混合波を用い、照射パワーと
しては２ 、６１ ｍＷ／ｃＶ稙程度を使用した。
このときの照射時間は５分〜３０分を実験で行ったが、
いずれの場合も同程度の効果か得られた。
いずれの場合も同程度の効果か得られた。
厳密に言えば、１５分程度のものが比較的良い結果であ
ったが、量産化を考えると照射時間は短い方が好ましい
。逆に長すぎる場合は、基材表面の変質化が進行するた
め、ディスク化した後のＣ／ＩＩＱの低下や、ドロップ
アウトの増加等膜特性に影響を及ぼすことが十分考えら
れる。
ったが、量産化を考えると照射時間は短い方が好ましい
。逆に長すぎる場合は、基材表面の変質化が進行するた
め、ディスク化した後のＣ／ＩＩＱの低下や、ドロップ
アウトの増加等膜特性に影響を及ぼすことが十分考えら
れる。
遠紫外線の照射をした基材の表面には予め形成しである
光案内用の溝が存在するが、この溝の深さは７００Ａ前
後であシ、照射によってこのｉさに大きく影響を与える
程度のものであってはならない。しかしながら、本実施
例の条件下で処理を施したものは、溝のトラッキングや
、フォーカスの制御、記録膜の反射率、ドロップアウト
等に特に影響を与えるものではないことが実験的に確か
められた。
光案内用の溝が存在するが、この溝の深さは７００Ａ前
後であシ、照射によってこのｉさに大きく影響を与える
程度のものであってはならない。しかしながら、本実施
例の条件下で処理を施したものは、溝のトラッキングや
、フォーカスの制御、記録膜の反射率、ドロップアウト
等に特に影響を与えるものではないことが実験的に確か
められた。
次に本発明の第２の実施例を図面とともに説明する。第
６図において、光案内用の溝２が形成されたポリカーボ
ネート樹脂からなるディスク基材１の辱形成面に、遠紫
外線を照射して遠紫外線励起物理的、化学的活性層７を
設け、その上に記録膜３を蒸着したものを第１のディス
ク基板８とする。これと同様の光案内用の＠２８．遠紫
外線励起物理的、化学的活性層７ａをもつディスク基材
１ａに記録膜３ａを蒸着した第２のディスク基板８ａが
接着剤９によって全面接合されている。
６図において、光案内用の溝２が形成されたポリカーボ
ネート樹脂からなるディスク基材１の辱形成面に、遠紫
外線を照射して遠紫外線励起物理的、化学的活性層７を
設け、その上に記録膜３を蒸着したものを第１のディス
ク基板８とする。これと同様の光案内用の＠２８．遠紫
外線励起物理的、化学的活性層７ａをもつディスク基材
１ａに記録膜３ａを蒸着した第２のディスク基板８ａが
接着剤９によって全面接合されている。
このような構成から゛なるディスクは、記録膜が；４奈
を透過しないため接着剤として光硬化性の樹脂は使えな
いが、常温硬化型あるいは熱硬化型の接着剤や、ホット
メルト系の接着剤を用いれば特に間組はない。この実施
例においても、記録膜はいずれも遠紫外線で表面処理さ
れた面に蒸着されているため、接着力が強化され、高幌
高湿な環境に隨かれた場合や室温とのサイクル条件下で
も６己録膜の剥離は発生せず、寿命の長い１ゴ頼性の商
いディスクが得られた。
を透過しないため接着剤として光硬化性の樹脂は使えな
いが、常温硬化型あるいは熱硬化型の接着剤や、ホット
メルト系の接着剤を用いれば特に間組はない。この実施
例においても、記録膜はいずれも遠紫外線で表面処理さ
れた面に蒸着されているため、接着力が強化され、高幌
高湿な環境に隨かれた場合や室温とのサイクル条件下で
も６己録膜の剥離は発生せず、寿命の長い１ゴ頼性の商
いディスクが得られた。
また遠紫外線による表面処理法は一度に多量の基材を処
理することが可能で、装置としても市価なものではなく
、コスト的にも有利な量産性に適した方法といえる。
理することが可能で、装置としても市価なものではなく
、コスト的にも有利な量産性に適した方法といえる。
以上の構成による情報記録担体は、その材質か有機高分
子からなる場合に特に有効であり、その−例としてはポ
リカーボネート、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）の他に、塩
化ビニル、ポリスチレン。
子からなる場合に特に有効であり、その−例としてはポ
リカーボネート、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）の他に、塩
化ビニル、ポリスチレン。
ポリエチレン、ポリエステル、アセテート等かある。
なお、本発明における光記録膜の材料は、レーザー九の
照射によ）光吸収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両
方が変化するものが必要であり、その−例として、Ｔｏ
ｏｘ（ｘ中１−０ ） （Ｔ ｅｒ２とＴｅとの混合物
）を主成分とする薄膜を設けたものがある。
照射によ）光吸収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両
方が変化するものが必要であり、その−例として、Ｔｏ
ｏｘ（ｘ中１−０ ） （Ｔ ｅｒ２とＴｅとの混合物
）を主成分とする薄膜を設けたものがある。
これらのＳ膜としては、Ｇｅ、６Ｔｅ８１Ｓｂ２Ｓ２゜
Ａｓ２Ｓ３等のアモルファス薄膜が使われる。
Ａｓ２Ｓ３等のアモルファス薄膜が使われる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、簡単な構成と製造方法に
より、外部環境の変化に対しても記録膜の剥離がなく、
安価で長期間画像品質の保証ができる信頼性の高い情報
記録担体を得るために大きな効果を有するものである。
より、外部環境の変化に対しても記録膜の剥離がなく、
安価で長期間画像品質の保証ができる信頼性の高い情報
記録担体を得るために大きな効果を有するものである。
第１図は従来例における情報記録担体の断正面図、第２
図（ａ） 、 （ｂ）は従来例における情報記録担体が
剥離を発生した状態を示す断正面図、第３図は本発明の
第１の実施例の製造方法を示す説明図、第４図は本発明
の第」の実施例における情報記録担体の断正面図、第６
図は本発明の第２の実施例における情報記録担体の断正
面図である。 １・・・・・・ディスク基材、２・・・・・・光案内用
の溝、３・・・・・・記録膜、７・・・・・・洗浄面。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 １−さ、 〇 二４図 ５図
図（ａ） 、 （ｂ）は従来例における情報記録担体が
剥離を発生した状態を示す断正面図、第３図は本発明の
第１の実施例の製造方法を示す説明図、第４図は本発明
の第」の実施例における情報記録担体の断正面図、第６
図は本発明の第２の実施例における情報記録担体の断正
面図である。 １・・・・・・ディスク基材、２・・・・・・光案内用
の溝、３・・・・・・記録膜、７・・・・・・洗浄面。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 １−さ、 〇 二４図 ５図
Claims (5)
- （１）光案内用の溝形成面および光吸収性の半透明膜か
らなる情報記録面を有する樹脂基材の前記溝形成面に遠
紫外線励起物理的、化学的活性層を設け、その上に酸素
を含む記録層を設けた情報記録担体。 - （２）情報記録面として、レーザー光の照射により光吸
収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両方が変化する材
料を用いた特許請求の範囲第１項記載の情報記録担体。 - （３）少くとも一方に光案内用の溝形成面とこの溝形成
面に設けた遠紫外線励起物理的、化学的活性層と光吸収
性の半透明膜からなる情報記録面を有する２つの樹脂基
材を設け、前記情報記録面を内側にして前記両樹脂基材
を全面接合した情報記録担体。 - （４）情報記録面として、レーザー光の照射により光吸
収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両方が変化する材
料を用いた特許請求の範囲第３項記載の情報記録担体。 - （５）光案内用の溝形成面を有するディスク基板を設け
、このディスク基板の前記溝形成面に遠紫外線を照射し
た後に、その上に半透明膜を設けることを特徴とする情
報記録担体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59134206A JPS6113455A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 情報記録担体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59134206A JPS6113455A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 情報記録担体とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6113455A true JPS6113455A (ja) | 1986-01-21 |
| JPH0422288B2 JPH0422288B2 (ja) | 1992-04-16 |
Family
ID=15122896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59134206A Granted JPS6113455A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 情報記録担体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6113455A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01271935A (ja) * | 1988-04-21 | 1989-10-31 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
| US5707561A (en) * | 1996-07-18 | 1998-01-13 | Walbro Corporation | Tamper resistant carburetor needle valve adjustment limiter |
| JP2010034075A (ja) * | 2009-11-09 | 2010-02-12 | Kyocera Corp | 光学要素組立体の組立方法 |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP59134206A patent/JPS6113455A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01271935A (ja) * | 1988-04-21 | 1989-10-31 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
| US5707561A (en) * | 1996-07-18 | 1998-01-13 | Walbro Corporation | Tamper resistant carburetor needle valve adjustment limiter |
| JP2010034075A (ja) * | 2009-11-09 | 2010-02-12 | Kyocera Corp | 光学要素組立体の組立方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0422288B2 (ja) | 1992-04-16 |
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