JPH0455463B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は、安定化された高分子材料組成物、詳
しくは、ヒンダードアミン系光安定剤及び特定の
セミカルバジド化合物を有し、光安定性の改善さ
れた高分子材料組成物に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対し
て敏感であり、その作用により色の悪化、機械的
強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えな
いことが知られている。 これらの害作用を防止するために、これまでに
ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系、ベン
ゾエート系、ピペリジン系等の化合物が用いられ
てきたが、これらの化合物は樹脂に着色を与える
ものが多く、またその効果も不充分であり、更に
改良が望まれていた。 これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物
は非着色性であり、また光安定化効果も比較的大
きいので近年特に注目されている。 しかしながら、ピペリジン系化合物に代表され
るヒンダードアミン化合物は比較的優れた光安定
剤であるが、単独使用による効果は未だ不充分な
ものであつた。このため、ピペリジン系の化合物
と、ベンゾトリアゾール系、フエニルサリシレー
ト系、シユウ酸ジアミド系等の紫外線吸収剤と併
用することが提案されているが、これらの併用に
よる効果は相加的なものに過ぎず、実用上は満足
し得るものではなかつた。 また、置換セミカルバジド類をポリアミノアク
リレートの着色防止剤として使用することも特開
昭53−144949号公報に提案されているが、その効
果は不充分であり、満足し得るものではなかつ
た。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、斯る現状に鑑み、鋭意検討を重
ねた結果、ヒンダードアミン系光安定剤と特定の
セミカルバジド化合物を併用して高分子材料に配
合すると、それらをそれぞれ単独使用した場合よ
りもその効果が著しく優れていることを見い出
し、本発明に到達した。 即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、(a)
ヒンダートアミン系光安定剤の少なくとも一種
0.001〜５重量部及び(b)次の一般式（）で表さ
れるセミカルバジド化合物の少なくとも一種
0.001〜５重量部を配合してなる、耐光性の改善
された高分子材料組成物を提供するものである。 （式中、Ｒはメチル基、エチル基又はフエニル
基を示し、R₁は二価の炭化水素基を示す。） 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述
する。 本発明で用いられるヒンダードアミン系光安定
剤は、基

【式】を有する化合物であ り、具体的には次に示すようなものがあげられ
る。 No.１ ４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６，
−テトラメチルピペリジン No.２ １−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフエニルプロピオニルオキシエチ
ル）−４−（３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオニルオキシ）
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン No.３ ４−（β−3′，5′−ジ−第３ブチル−4′−オ
キシフエニル−プロピオニルオキシ）−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン No.４ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ビペリジル）セバセート No.５ ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）セバセート No.６ ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）マロネート No.７ ビス（１−アクリロイル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−２，
２−ビス（３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）マロネート No.８ ビス（９−アザ−８，８，10，10−テトラ
メチル−３−エチル−１，５−ジオキサス
ピロ〔５，５〕−３−ウンデシルメチル）
メチルイミノジアセテート No.９ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル−１−オキシル）セバセート No.10 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）シトレート No.11 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート No.12 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ブタントリカルボキシレ
ート No.13 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）トリメリテート No.14 テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロメリテート No.15 テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，３−ビス（アミノ
メチル）シクロヘキサンテトラアセテート No.16 テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート No.17 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）・モノ（イソトリデシル）
−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート No.18 テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−1.2.3.4−ブタンテ
トラカルボキシレート No.19 トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）・モノ（イソトリデ
シル）−１，２，３，４−ブタンテトラカ
ルボキシレート No.20 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシ
レート No.21 ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト No.22 ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１
−オキシル−４−ピペリジル）・ジ（トリ
デシル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート No.23 モノ（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）・モノメチルセバケー
ト No.24 ３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−
〔トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニル）ブチ
ルカルボニルオキシ〕エチル〕−２，４，
８，10−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウ
ンデカン No.25 ３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−
〔トリス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
ブチルカルボニルオキシ〕エチル〕−２，
４，８，10−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン No.26 ２，４，６−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルオキシ）−ｓ−トリ
アジン No.27 ２−ブチルアミノ−４，６−ビス（９−ア
ザ−8.8.10，10−テトラメチル−３−エチ
ル−１，５−ジオキサスピロ〔５，５〕−
３−ウンデシルメトキシ）−ｓ−トリアジ
ン No.28 Ｎ，N′−ビス〔４，６−ビス（９−アザ
−8.8.10，10−テトラメチル−３−エチル
−１，５−ジオキサスピロ〔５，５〕−３
−ウンデシルメトキシ）−ｓ−トリアジン
−２−イル〕ピペラジン No.29 １，５，８，12−テトラキス〔４，６−ビ
ス〔Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ブチルリアミノ〕−１，
３，５−トリアジン−２−イル〕１，５，
８，12−テトラアザドデカン No.30 ビス（９−アザ−8.8.10，10−テトラメチ
ル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
〔５，５〕−３−ウンデシルメチル）カーボ
ネート No.31 ビス（９−アザ−8.8.10，10−テトラメチ
ル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
〔５，５〕−３−ウンデシルメチル）・水添
ビスフエノールＡ・ジカーボネート No.32 ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）・ペンタエリスリトール・
ジホスフアイト No.33 ビス（９−アザ−8.8.10，10−テトラメチ
ル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
〔５，５〕−３−ウンデシルメ）・ペンタエ
リスリトール・ジホスフアイト No.34 テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）・ビスフエノールＡ・ジ
ホスフアイト No.35 ３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ホスホネート No.36 １−（２−ヒドロキシエチル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジノール／
コハク酸ジメチル重縮合物 No.37 ２−第３オクチルアミノ−４，６−ジクロ
ロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，N′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン重縮合物 No.38 １，６−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／
ジブロムエタン重縮合物 No.39 ビス（９−アザ−8.8.10，10−テトラメチ
ル−３−ヒドロキシメチル−１，５−ジオ
キサスピロ〔５，５〕−３−ウンデシルメ
チル）エーテル No.40 ３−グリシジル−８−メチル−７，７，
９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザスピロ〔４，５〕デカン−２，４−ジ
オン No.41 ３−ドデシル−８−アセチル−７，７，
９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザスピロ〔４，５〕デカン−２，４−ジ
オン No.42 ３−オクチル−７，７，９，９−テトラメ
チル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，
５〕デカン−２，４−ジオン No.43 ２，２，４，４−テトラメチル−７−オキ
サ−３，20−ジアザジスピロ〔５，１，
11，２〕ヘキエイコサン−21−オン No.44 ３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−2.5−ピロ
リジンジオン 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
るセミカルバジド化合物は、ジメチル（又はジエ
チル）ヒドラジン又はチメル・フエニルヒドラジ
ンと２，４−トリレンジイソシアネート、２，６
−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフエニ
ルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、１，５−
ナフチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、トリフエニルメタンジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、ダイマージイソシアネート、フ
エニレンジイソシアネート、ジフエニルエーテル
ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネー
ト、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサ
ン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートな
どのポリイソシアネートとを反応させることによ
り容易に製造できる。 従つて、本発明で用いられる前記一般式（）
で表されるセミカルバジド化合物としては、例え
ば次に示す化合物があげられる。 SC−１ ヘキサメチレンビス（ジメチルセミカ
ルバジド） SC−２ ヘキサメチレンビス（ジエチルセミカ
ルバジド） SC−３ ヘキサメチレンビス（メチル・フエニ
ルセミカルバジド） SC−４ トリレンビス（ジメチルセミカルバジ
ド） SC−５ キシリレンビス（ジメチルセミカルバ
ジド） SC−６ メチレン−ジ−Ｐ−フエニレンビス
（ジメチルセミカルバジド） SC−７ メチレン−ジ−Ｐ−シクロヘキシレン
ビス（ジメチルセミカルバジド） SC−８ イソホロンビス（ジメチルセミカルバ
ジド） 前記一般式（）で表されるセミカルバジド化
合物の添加量は、高分子材料100重量部に対し
0.001〜５重量部、好ましくは0.01〜３重量部で
ある。 本発明における安定性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン等
のα−オレフイン重合体又はエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等の
ポリオレフイン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツ化ビニルデン、臭素化
ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩
化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−ス
チレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重
合体、塩化ビニル−ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−スチレン−無水マレイン酸三餅元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素
化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニト
リル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の含
ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポ
リアクリロニトリル、スチレンと他の単量体（例
えば無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニト
リル等）との共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ
メチルメタクリレート等のメタクリレート樹脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリ
フエニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネ
ート、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、或いはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂の
ブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物或いは放射線等によつて架橋さ
せた架橋ポリエチレン等の架橋重合体、及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物に更に周知のフエノール系の抗
酸化剤を添加することによつてその酸化安定性を
一層改善することができる。このフエノール系抗
酸化剤としては例えば、２，６−ジ−第３ブチル
−ｐ−クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オ
クトキシフエノール、ステアリル−（３，５−ジ
−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、
ジステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、２，４，６−ト
リス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルチオ）１，３，５−トリアジン、ジステ
アリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアンド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチルデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアシン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフエノ
ール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブ
チル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10等）の多価フエノール炭酸オリゴエス
テル類があげられる。 本発明の組成物に浚いに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラ
ウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−等の
ジアルキルチオジプロピオネート及びブチル−、
オクチル−、ラウリル−、ステアリル−等のアル
キルチオプロピオン酸の多価アルコール（例えば
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル
（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチ
オプロピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、更にホスフアイト等の含リ
ン化合物を添加することによつてその耐光性及び
耐熱性を一層改善することができる。この含リン
化合物としては、例えば、トリオクチルホスフア
イト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルリ
ホスフアイト、オクチル−ジフエニルホスフアイ
ト、トリス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）
ホスフアイト、トリフエニルホスフアイト、トリ
ス（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノ
ニルフエニル）ホスフアイト、ジステアリンペン
タエリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリ
デシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５
−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタン
ジホスフアイト、テトラ（C₁₂〜₁₅混合アルキル）
−４，4′−イソプロピリンデンジフエニルジホス
フアイト、テトラ（トリデシル）−4.4′−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トルス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化−４，4′−イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・１，６−
ヘキサンジオールホスフアイト、フエニル・４，
4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタエリ
スリトールジホスフアイト、ビス（２，４−ジ−
第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホ
スフアイト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル−４
−メチルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス〔４，4′−イソプロピリデンビ
ス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフアイト、
フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ（ノニ
ルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフアイ
ト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイ
ソプロピル）ホスフアイト、４，4′−イソプロピ
リデンビス（２−第３ブチルフエノール）・ジ
（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，10−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフアフエナン
スレン−10−オキサイド、テトラキス（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）−４，4′ビフエニレン
ジホスホナイト等があげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性を一層改善することができ
る。この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２，
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−アミルフ
エニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチル
フエニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル
フエニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、等の
ベンゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−オ
クチルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス
（４−ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチル
アミンNi、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステル
Ni塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−
メチル−β−（ｐ−トメキシフエニル）アクリル
類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２
−エチルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第
３ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エ
チルフエニル−N′−２−エトキシフエニルシユ
ウ酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があげら
れる。 その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。 本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えばフイルム、繊維、テープ、
シート、各種成型品として使用でき、また、塗料
ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料に
おける基剤としても用いることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ＜配 合＞ ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ
−第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピ
オネート） 0.1 ヘキサメチレン−ビス（ジメチルセミカルバジ
ド）（SC−１化合物） 0.1 ヒンダードアミン系光安定剤 0.1 （表−１参照） 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、このシートについて高圧水銀ランプを用いて
の耐光性試験を行つた。その結果を表−１に示
す。

【表】 実施例 ２ ＜配 合＞ ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔チメレン−３−（３，５−ジ−第
３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテ
トラカルボキシレート（No.16化合物）
0.05 セミカルバジド化合物 0.1 （表−２参照） 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−２に示す。

【表】 実施例 ３ ＜配 合＞ ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2 Ca−ステアレート 1.0 Zn−ステアレート 0.1 ヘキサメチレン−ビス（ジメチルセミカルバジ
ド）（SC−１化合物） 0.1 ヒンダードアミン系光安定剤 0.1 （表−３参照） 上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さ１mm
のシートを作成した。このシートを用いたウエザ
オメーター中での耐光性試験を行つた。その結果
を表−３に示す。

【表】 実施例 ４ ＜配 合＞ ABS樹脂 100重量部 ４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ
−クレゾール） 0.1 ヘキサメチレン−ビス（ジメチルセミカルバジ
ド）（SC−１化合物） 0.1 ヒンダードアミン系光安定剤 0.15 （表−４参照） 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−４に示す。

【表】

【表】 実施例 ５ ＜配 合＞ ポリウレタン樹脂 100重量部 （旭電化製Ｕ−100） Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 ヘキサメチレン−ビス（ジメチルセミカルバジ
ド） （SC−１化合物） 0.3 ヒンダードアミン系光安定剤 0.2 （表−５参照） 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いフエードメーターにて
50時間照射後の伸び残率を測定した。その結果を
表−５に示す。

【表】 実施例 ６ 本発明の化合物（安定剤成分）は塗料用の光安
定剤としても有用である。本実施例においては金
属顔料を含有するベースコート及び透明なトツプ
コートからなる二層金属光沢塗料についてその効
果をみた。 ａ ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−ブ
チル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル
30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−
ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱攪拌しなが
らアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメ
ルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−ブタノ
ール20ｇからなる溶液を３時間で滴下した。その
後同温度で２時間攪拌し、樹脂固形分50％のアク
リル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固形分60％）、2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチル
溶液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋アルミ
ニウム社製；アルペースト1123N）5.5重量部、
キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フ
タロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコー
ト塗料とした。 ｂ トツプコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン10重量部、キシレン10重量部、
ブチルグリコールアセテート４重量部、SC−１
化合物0.1重量部及びヒンダードアミン系光安定
剤（表−６参照）0.05重量部をとり、トツプコー
ト塗料とした。 プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を
乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10分間
放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μになる
ようにスプレーした。15分間放置後140℃で30分
間焼付し試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレ
の発生するまでの時間を測定した。その結果を表
−６に示す。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 高分子材料100重量部に、(a)ヒンダードアミ
   ン系光安定剤の少なくとも一種0.001〜５重量部
   及び(b)次の一般式（）で表されるセミカルバジ
   ド化合物の少なくとも一種0.001〜５重量部を配
   合してなる、耐光性の改善された高分子材料組成
   物。 （式中、Ｒはメチル基、エチル基又はフエニル
   基を示し、R₁は二価の炭化水素基を示す。）