JPS61177390A - 部分メツキ装置 - Google Patents

部分メツキ装置

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Publication number
JPS61177390A
JPS61177390A JP60017394A JP1739485A JPS61177390A JP S61177390 A JPS61177390 A JP S61177390A JP 60017394 A JP60017394 A JP 60017394A JP 1739485 A JP1739485 A JP 1739485A JP S61177390 A JPS61177390 A JP S61177390A
Authority
JP
Japan
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hole
plating
plating solution
mask
supply hole
Prior art date
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Granted
Application number
JP60017394A
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English (en)
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JPH0517318B2 (ja
Inventor
Kazuo Maetani
前谷 一男
Keisuke Wada
圭介 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP60017394A priority Critical patent/JPS61177390A/ja
Priority to GB08601963A priority patent/GB2170513B/en
Priority to US06/823,630 priority patent/US4675093A/en
Publication of JPS61177390A publication Critical patent/JPS61177390A/ja
Publication of JPH0517318B2 publication Critical patent/JPH0517318B2/ja
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/022Electroplating of selected surface areas using masking means

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は環状に部分メッキするための装置に関するも
のである。
(従来技術) IC素子を接着剤で接合する形式のリードフレームでは
、第2図に示すようにインナーリード1の先端部にのみ
Au%Ag等のメッキ被膜2を形成する必要がある。
このようなメッキは、従来の部分メッキ装置を改良し、
IC素子搭載部もマスキングできるようにした第3図に
示すような環状部分メッキ装置で行なわれている。第3
図囚は、このメッキ装置の主要部であるマスク部材3、
マスク支持部材4.及び下部部材5の平面図を示し、第
3図(2)は第3図囚のY−Y断面図を示す、この装置
において、マスク部材3はシリコンゴムで構成され、第
2図に示すリードフレームのメッキ被膜2に対応する位
置に環状の開孔6が形成さnている。このマスク部材3
の下にはマスク支持部材4が配置さnlこの部材4には
前記開孔6に沿って環状(この場合は矩形環状)に配列
したスリット状のメッキ液噴射孔7、メッキ液をこの噴
射孔7の側万表流通する溝8及びメッキ液を流出する流
出孔9が形成さnている。また、マスク支持部材4の下
には下部部材5が配置さnlこの部材5には前記メッキ
液噴射孔7ヘメツキ液を導入する供給孔10及び前記流
出孔9からメッキ液を外部へ流出する排出孔11が形成
さnている。また、この部材5には更に不溶性陽極(こ
の場合白金線)12を埋め込むための溝13が形成して
あシ、白金線12は前記メッキ液噴射孔7のト方に位置
するように、この溝13に埋め込まnている。なお、白
金線(不溶性陽極)12をメッキ液噴射孔7の全てに対
応するように設けるのは、環状に配置さnたインナーリ
ードlの先端部のメッキ液JIa2(第2図参照)の厚
さを均一に保つためである。
このような装置を用いてメッキを行なうには、リードフ
レーム14をマスク部材3の上に位置合せして載せ、下
にゴム15を張り付けた抑圧板16でリードフレーム1
4をマスク部材3に押し付け、図示しないポンプによシ
、メッキ液を供給孔10へ送り込むと同時に白金線】2
を陽極とし、一方リードフレーム14を陰極として通電
すれば良い。なお、メッキ液はリードフレーム14に衝
突した後、溝8、流出孔9、排出孔11を通って図示し
ないメッキ液供給タンクへ返送さnる。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、このようなリードフレーム14は極めて
多種類のものがある。例えば1シート当りのリードフレ
ーム個数、IC素子搭載部の寸法、メッキ液pJX2の
エリア寸法もそnぞn少しずつ異なっている。そのため
、各リードフレーム14毎に第3図(2)に示すような
マスク部材3、マスク支持部材4及び下部部材50組会
せを用意する必要があった。
さらにマスク部材3は支持部材4に接着剤で張り付けら
1し、−組のマスク部として使用さnる従来の構成では
、このマスク部もリードフレームの種類の数だけ必要と
なる。ところが下部部材5は必ずしもこのマスク部とセ
ットにする必要は無い。従って下部部材5を全てのマス
ク部に共用できる形式にすnば、保有部品個数の縮少、
コスト低減となる。
この発明の目的は、上記事情に鑑みて為さnたもので、
下部部材を全てのマスク部に共有できるような構造とし
た環状部分メッキ装置を提供することである。
(問題点を解決するための手段) この発明は、上記目的を達成するため、下部部材のメッ
キ液供給孔を噴射孔の下部で連通ずる形状とし、この連
通供給孔の内側上段部に段差を形成し、この段差部に、
マスク部材に設けた開口に対応する位置に透孔を形成し
た不溶性陽極板を嵌め込めるように配置したものである
(作 用) このようにすると、陽極板の取付け、取外しが容易に行
なえるので、メッキを施すべきリードフレームの品種が
変っても、下部部材の本体を取り換えることなく、この
リードフレームに適合する陽極板を取り換えるだけでメ
ッキを行なうことができる。
(実施例) 第1図は、本発明部分メッキ装置の一実施例を示し、第
1図(4)は下部部材17より見た平面図、第1図の)
は同じくメッキ装置の主要部を第1図囚のX−X矢視方
向から見た断面図である。第1図において、下部部材1
7のメッキ液連通供給孔18は噴射孔7の下部を連通す
る形状に形成されておシ、この連通供給孔18の内側上
端に不溶性陽極板20を嵌め込み得る段差部を形成し、
この段差部に、マスク部材4の開孔6に対応する位置に
透孔19を形成した前記陽極板20が配置さnている。
このようにすると陽極板20の取付け、取外しが容易に
行なえるので、メッキを施すぺ 4゜きリードフレーム
140品種が変っても下部部材170本体を取り換える
ことなく、陽極板20をこのリードフレーム14に適合
するものと取り換えるだけで対応させることができる。
なお、不溶性陽極板20として加工の容易な白金又は白
金合金が適当である。また、陽極板20に設ける透孔1
9は、メッキ液の噴射孔7への供給を妨げないように太
き目にしなけnばならないが、余シ透孔19が太き過ぎ
ると給電に不都合を生じるので、噴射孔7の外周に沿っ
た形状、寸法にするのが適当である。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば下部部材は
マスク部と一対で製作する必要がなく、陽極板をマスク
部とセットで保有すnば足りるため、下部部材のコスト
を低減できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明部分メッキ装置の一実施例を示し、その
第1図囚は下部部材より見た平面図、第1図(6)は同
じくメッキ装置の主要部を第1図囚のX−X矢視方向か
ら見た断面図、第2図はリードフレームの構成図、第3
図は従来の部分メッキ装置を示し、その第3図囚はその
一部切欠平面図、第3図(B)は第3図囚のy−y断面
図である。 3・・・マスク部材、4・・・マスク支持部材、6・・
・開孔、7・・・噴射孔、8・・・溝、11・・・排出
孔、14・・・リードフレーム、17・・・下部部材、
18・・・メッキ液連通供給孔、19・・・透孔、20
・・・不溶性陽極板。 特許出願人  住友金属鉱山株式会社 −″i′!

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  複数の環状開孔を有するマスク部材と、こ のマスク部材の下に配置され、各開孔の下方に環状に配
    列したスリット状のメッキ液噴射孔、メッキ液をこの噴
    射孔の側方へ流通する溝及びメッキ液を流出する流出孔
    を備えたマスク支持部材と、この支持部材の下に配置さ
    れ、前記噴射孔へメッキ液を導入する供給孔及び前記流
    出孔からメッキ液を外部へ導出する排出孔を有する下部
    部材とを備えた部分メッキ装置において、下部部材のメ
    ッキ液を導入する供給孔は前記各メッキ液噴射孔の下部
    を連通するメッキ液連通供給孔とすると共に、この連通
    供給孔の内側上端部に段差部を形成し、この段差部に前
    記各開孔に対応する位置に透孔を形成した不溶性陽極板
    を配置するようにしたことを特徴とする部分メッキ装置
JP60017394A 1985-01-31 1985-01-31 部分メツキ装置 Granted JPS61177390A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60017394A JPS61177390A (ja) 1985-01-31 1985-01-31 部分メツキ装置
GB08601963A GB2170513B (en) 1985-01-31 1986-01-28 Selectively plating apparatus for forming an annular coated area
US06/823,630 US4675093A (en) 1985-01-31 1986-01-29 Selectively plating apparatus for forming an annular coated area

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60017394A JPS61177390A (ja) 1985-01-31 1985-01-31 部分メツキ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61177390A true JPS61177390A (ja) 1986-08-09
JPH0517318B2 JPH0517318B2 (ja) 1993-03-08

Family

ID=11942782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60017394A Granted JPS61177390A (ja) 1985-01-31 1985-01-31 部分メツキ装置

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JP (1) JPS61177390A (ja)

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