JPS61193155A - 乾式オフセツト印刷版の製造法 - Google Patents

乾式オフセツト印刷版の製造法

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JPS61193155A
JPS61193155A JP60033963A JP3396385A JPS61193155A JP S61193155 A JPS61193155 A JP S61193155A JP 60033963 A JP60033963 A JP 60033963A JP 3396385 A JP3396385 A JP 3396385A JP S61193155 A JPS61193155 A JP S61193155A
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JP
Japan
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capsules
contents
support
microcapsules
exposed
Prior art date
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Pending
Application number
JP60033963A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunichi Ishikawa
俊一 石川
Fumiaki Shinozaki
文明 篠崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to DE19863605120 priority patent/DE3605120A1/de
Publication of JPS61193155A publication Critical patent/JPS61193155A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は湿し水を用いない、いわゆゐ乾式オフセット印
刷版の製造法に関するものであシ、特に乾式処11によ
る印刷版の製造方法に関するものである。
「従来の技術」 軽印刷として知られている分野では種々の印刷法が用い
られているが、画像品質、耐刷性等の面で優れているオ
フセット印刷方式が広く用いられるようになってtまた
。従来オフセット印刷では湿し水と油性インキを版面に
交互に供給して、親水性の非画線部には湿し水を、′t
た親油性の画線部にはインキを供給して印刷を行ってい
る。この方法では湿し水が印刷中に流れるのを抑える等
、その制御に高度の熟練を要する。
上記の欠点を克服することを目的に、特開昭!!−32
参14、特開昭11−/10コ参り号公報等に種々の湿
し水不要オフセット印刷版が提案されているが、それら
の多くは湿式の現像処理を伴うものであシ、機器の大盤
化、現像液の管理が面倒など、好ましくない点を含む。
また湿し水不要のオフセット印刷版に関するものではな
いが湿式処理の複雑な工程を廃止する方法として光硬化
盤カプセルを用いる方法が特開昭I!−−−事7!コ号
公報に開示されている。この方法は光硬化型マイクロカ
プセルを含有する層を塗布し、この塗層面にパターン露
光を施し友のち加圧し、再び露光するととkよってオフ
セット印刷版を得るものであり湿式処理を伴わない。し
かしこの方法はマイクロカプセル壁膜の親水性と光硬化
型樹脂の親油性を利用し次ものであり、印刷に際しては
湿し水が必要であるし、マイクロカプセル壁膜が親水性
である必要がある。従ってマイクロカプセルの壁材を選
択するうえで制約を受ける。ま九マイクロカプセルの壁
膜が親水性であっても、光硬化型樹脂の親油性の性質が
近い場合は、印刷の際湿し水と油性インキが混シあって
印刷画像が不鮮明になることがらゐ。
「発明が解決しようとする問題点」 従って、解決すべき問題点は乾式処理による部品な工程
で、湿し水を用いない乾式オフセット印刷版を製造する
方法を提供することである。
「問題点を解決する几めの手段」 本発明は上述の問題点を解決できる乾式オフセット印刷
版の製造法に関するものであシ、そのステップは、支持
体上に光重合性モノマーを含有するマイクロカプセルを
塗布し、該塗層面に画像露光を施し、露光部のカプセル
を硬化後、表面にシリコーン樹脂層を有する基板と重ね
て加圧し、未露光部のカプセルの内容物を該基板に転写
し、転写され九基板を全面露光することよシなる。
本発明に用いる光重合性モノマー含有マイクロカプセル
は、光によって圧力破壊が制御できるマイクロカプセル
で、内容物をとシ出したい時は、通常のマイクロカプセ
ルと同様に外部よ〕圧力等を加えることによりマイクロ
カプセル壁を破壊し、内容物を放出させることができる
。17t、内容物をそのままマイクロカプセル内に包み
込んでおき九い時は、マイクロカプセルに光を当て、必
要ならば加熱その他の工程を経て内容物を硬化させる。
従って光硬化後のマイクロカプセルは通常の圧力では破
壊されず、内容物の放出は起こらない。このような感光
性マイクロカプセルを支持体に塗布し、画像露光を施し
、露光部のカプセルを硬化後、表面にシリコーン樹脂層
を有する基板と重ねて加圧すると未露光部のカプセルの
内容物が該基板に転写される。ついで転写され次基板に
全面露光を施すと、撥油性のシリコーン樹脂表面を有す
る基板上に重合性モノマーが光重合して親油性の画像が
得られ、この基板を乾式オフセット印刷版として使うこ
とができる。
本発明に用いらnる光重合性モノマーは例えば、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、不
飽和ポリエステル基、ビニルオキシ基、アクリルアミド
基、マレイン酸残基などを有する化合物があげられる。
最も代表的なものは、ポリオール、ポリアミン又はアミ
ノアルコール等と不飽和カルボン酸との反応物、ヒドロ
キシル基をもつアクリレート又はメタクリレートとポリ
イソシアネートとの反応物などである。
これらのモノマーは、通常Joanm以下の紫外部に吸
収を有するので、紫外〜可視光源に対し感光性を付与す
るために紫外〜可視光を吸収し、七ツマ−を重分させる
ような感光性物質を併用するのが望ましい。その例とし
ては一般に光重合開始剤として知られているものかあり
、例えば芳香族ケトン、キノン化合物、ヘキサアリール
ビイミタソール等が挙げられる。特に特願昭jターlコ
1431号明細書く記載した光重合開始剤は感度が高く
好ましい。
また、モノマー重合体のシリコーン樹脂層への接着を強
固にする九め、接着剤を併用して4良い。
その例としては接着用シリフーン樹脂、酢酸ビニルある
いはその共重合体、アクリル樹脂、ゴム系物質等がある
その他、公知の熱重合防止剤や、特願昭zy−/2/l
Jr号明細書く記載した発色反応を起こス成分をマイク
ロカプセル中に含有することができる。
以上のエチレン性不飽和化合物、光重合開始剤等をカプ
セル化するに際しては、溶剤を併用することができる。
溶剤としては、天然または合成油を単独ま几は併用して
用いることができる。溶剤の例としては、綿実油、灯油
、脂肪族ケトンJ脂肪族エステル、/lラフイン、ナフ
テン油、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニ
ル、塩素化パラフィン、アルキル化ナフタレン、および
!−フェニル−7−キシリルエタン、l−フェニル−/
−D−エチルフェニルエタン、/、/’−ジトリルエタ
ン等のごときジアリールエタンなどを挙げることができ
る。
これらの化合物をカプセル化する方法としては、公知の
カプセル化法が適用できる。例えばカプセルの製造方法
としては、米国特許コ、too、tj7号、同コ、10
0 、嬰sr号にみられるコアセルベーションを利用し
た方法、英国特許タタ0゜4A4A3号、米国特許3.
−17,118号にみられる界面重合法による方法、米
国特許J、A/I。
210号、同!、440.JO棋号にみられるポリマー
の析出による方法、米国特許!、72t。
10亭号、米国特許7.7PJ、472号にみられる油
滴内部からのりアクタントの重合等がある。
41にポリマーの析出による方法及び油滴内部からのり
アクタントの重合によるカプセル化法を使用し几場合、
その効果が大きい。即ち、短時間に1均一な粒径をもつ
感光材料として好ましいカプセルを得ることができる。
カプセルの粒径は20μ以下特に保存時の取〕扱い性の
点から7θμ以下が好しい。
支持体としては、プラスチックフィルム、合成紙、アル
ミもしくは鉄等の金属、紙あるいはこnらの複合体など
が使用される。
支持体に塗布するに際しては、PVA又はラテックスの
如きバインダーデンプンの如き保護剤などが用いらnる
。又、従来よシ記録系に用いられる種々の添加剤、バイ
ンダー、酸化防止剤、スマツジ防止剤、界面活性剤や塗
布方法、使用方法等についてはよく知られてお夛、米国
特許λ、71/、37!、同J、4コ!、73遥、英国
特許l。
コ3コ、Jg7、特開昭J−04!4!、0/λ号、同
!θ−10,11コ号、同10−/コア、71遥号、同
!0−J0.4/!号、米国特許J、IJt、313号
、同J、Ir4L4.JJ/号などに開示があシ、それ
らの手法を利用できる。
本発明に用いるシリコーン樹脂層を有する基板としては
、例えば特開昭!コーコデ30j号、特開昭J−4−4
ココ!3号会報に記載されているにオルガノポリシロキ
サン含有層を基板上に設ければよく、通常オルガノポリ
シロキサンとして末端水酸基を有するものを用い、アル
コキシシラン等の橋かけ剤を存在させて、塗布乾燥後熱
処理によシ橋かけし、シリコーン樹脂層を形成する。
基板は、紙、プラスチックフィルム、金属シート、合成
紙、ゴム状シートおよびこれらの材料の複合体等である
シリコン樹脂層の転属の厚さはionμ以下、好ましく
は0.1,10μである、熱処理の温度は室温ないし3
10°C以下の範囲で、好ましくは!0,100°C%
さらに好ましくは100〜コj0°Cである。
ま比熱処理の時間は0.1〜10分、好ましくは7〜3
0分である。
本発明のオフセット印刷版の製造方法は、マイクロカプ
セルの含有層に1タングステンランプ、ハロゲンランプ
、キセノンランプ、水銀灯等の光源を用いて画偉露光し
、次にマイクロカプセルの含有層とシリコーン樹脂層を
接触させてロール等で加圧し、更にシリコーン樹脂層に
対して、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノ
ンランプ、水銀灯の光源を用いて全面露光すればよい。
「実施例」 以下本発明の実施例を示すが、本発明はこnに限定され
るものではない。
実施例1 (1)感光性マイクロカプセルを以下の如く作製した。
トリメチロールプロ/Rントリアクリレートー!tへ4
C、4c/−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンo
、ztおよびコーメルカプトー!−メチルチオ−/、!
、4A−チアジアゾール0.!fを溶解させる。またλ
、J′−ビス(0−クロ6フエニル1−g、l  、z
、z’−テトラフェニルビイミダゾール1.Ifを11
の塩化メチレンに溶解し、先のモノマーに混合し、オイ
ル相とし比。
一方70%アラビアガム水溶液17.If%lコーイソ
プチレン/無水マレイン酸水溶液lr。
If、蒸留水−A、tfの混合物を、硫酸でpH3、!
に調整し、更に尿素1.≦t、レゾルシンo、ttt−
加え、この溶液に先のオイル相を乳化分散した。ついで
JA%ホルマリンlコ、りf5f加え攪拌しつつto’
cまで昇温し、1時間後に!チ硫酸アンモニウム水溶液
2ft−加え、更KA0°C1C保ちつつ1時間攪拌後
冷却し友。その後Na0HVcよCpHを2.Oとし友
(2)こうして得tカプセル液jfVc/1%PVA水
溶液1.jJf、蒸留水!、4A7f、−1::んぶん
0.j7fを加え塗布液とした。これをコーティングロ
ッド#1O1−用いてアート紙に塗布し、/DO°Cで
2分間乾燥させ、感光シートを得友。
(3)/r0W超高圧水銀灯、レンズ、ミラーよシなる
露光装置にニジ、反射原稿の像を上述の感光シートに焼
き付けt後、表面に東しシリコーンf3p、JOtjを
塗布乾燥してなるアルミニウム板と、カプセル塗層側と
シリコーン樹脂側が対向するように重ねて加圧ローツー
に通した。未露光部のカプセルは破壊され、その内容物
が転写された。
ついで全面露光を施して乾式オフセット印刷l[を得九
(4)  このようにして得らt′L次乾式オフセット
印刷版を用い、水なし平版用インキ(東洋インキ製)を
用いて印刷した結果、鮮明な画像を得几。また耐刷性も
s、ooo枚以上であつ几。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上に光重合性モノマーを含有するマイクロカプセ
    ルを塗布し、該塗層面に画像露光を施し、露光部のカプ
    セルを硬化後、表面にシリコーン樹脂層を有する基板と
    重ねて加圧し、未露光部のカプセルの内容物を該基板に
    転写し、転写された基板を全面露光することによりなる
    乾式オフセット印刷版の製造法。
JP60033963A 1985-02-19 1985-02-22 乾式オフセツト印刷版の製造法 Pending JPS61193155A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60033963A JPS61193155A (ja) 1985-02-22 1985-02-22 乾式オフセツト印刷版の製造法
DE19863605120 DE3605120A1 (de) 1985-02-19 1986-02-18 Verfahren zur herstellung von offset-druckplatten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60033963A JPS61193155A (ja) 1985-02-22 1985-02-22 乾式オフセツト印刷版の製造法

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JPS61193155A true JPS61193155A (ja) 1986-08-27

Family

ID=12401144

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JP60033963A Pending JPS61193155A (ja) 1985-02-19 1985-02-22 乾式オフセツト印刷版の製造法

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JP (1) JPS61193155A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02176663A (ja) * 1988-09-05 1990-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02176663A (ja) * 1988-09-05 1990-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法

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