JPS61204384A - 磁気ヘツドおよび加工方法 - Google Patents
磁気ヘツドおよび加工方法Info
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- JPS61204384A JPS61204384A JP4434785A JP4434785A JPS61204384A JP S61204384 A JPS61204384 A JP S61204384A JP 4434785 A JP4434785 A JP 4434785A JP 4434785 A JP4434785 A JP 4434785A JP S61204384 A JPS61204384 A JP S61204384A
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- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドおよ
び加工方法に関する。
び加工方法に関する。
（従来技術とその問題点）
磁気ディスク装置の高密度記鎌化に伴ない、磁気ヘッド
の浮揚量の微小化が要求される一方、磁気ヘッドのコン
タクト・ストップ時に磁気ヘッドスライダの浮揚面と磁
気ディスク面との微小隙間の潤滑剤、あるいは吸着水分
の表面張力によシ磁気ヘッドが磁気ディスク面に吸着し
く日本応用磁気学会第７回学術講演概要集３ａＡ−５）
、ディスク起動時に磁気ディスク面に損傷を引き起す問
題点かありな。
の浮揚量の微小化が要求される一方、磁気ヘッドのコン
タクト・ストップ時に磁気ヘッドスライダの浮揚面と磁
気ディスク面との微小隙間の潤滑剤、あるいは吸着水分
の表面張力によシ磁気ヘッドが磁気ディスク面に吸着し
く日本応用磁気学会第７回学術講演概要集３ａＡ−５）
、ディスク起動時に磁気ディスク面に損傷を引き起す問
題点かありな。
（本発明の目的）
本発明の目的は、このような従来の問題点にかんがみ、
磁気ヘッドの磁気ディスク面への吸着をなくすことがで
きる磁気ヘッドおよびその実現方法を提供することにあ
る。
磁気ヘッドの磁気ディスク面への吸着をなくすことがで
きる磁気ヘッドおよびその実現方法を提供することにあ
る。
の端部め表面粗さよシ大きくしたことを特徴とする磁気
ヘッドが得られる。その実現方法として磁気ヘッドスラ
イダ材にアルミナ／チタンカーバイドセラミックを用い
、浮揚面を研磨仕上した磁気ヘッドスライダをチタンカ
ーバイドのエツチング液中に浸し、該磁気ヘッドスライ
ダ浮揚面の端部を除いた部分に集光したレーザビームを
照射して、選択的にスライダ浮揚面の端部を除いた部分
をエツチングすることを特徴とする磁気ヘッドの加工方
法が得られる。
ヘッドが得られる。その実現方法として磁気ヘッドスラ
イダ材にアルミナ／チタンカーバイドセラミックを用い
、浮揚面を研磨仕上した磁気ヘッドスライダをチタンカ
ーバイドのエツチング液中に浸し、該磁気ヘッドスライ
ダ浮揚面の端部を除いた部分に集光したレーザビームを
照射して、選択的にスライダ浮揚面の端部を除いた部分
をエツチングすることを特徴とする磁気ヘッドの加工方
法が得られる。
（発明の概ｇ：）
本発明は上述の磁気ヘッドおよび加工方法により、従来
の問題点を解決した。すなわち、磁気ヘッドスライダの
浮揚面の端部を除いた部分の表面粗さをスライダ浮揚面
の端部の表面粗さよシ大きくすることによシ、磁気ヘッ
ドの磁気ディスク面への吸着をなくすとともに、耐クラ
７エ性の良い磁気ヘッドが達成される。磁気ヘッドの磁
気ディスク面への吸着を防止するためには、磁気ヘッド
または磁気ディスク面の表面粗さを大きくすれば良い。
の問題点を解決した。すなわち、磁気ヘッドスライダの
浮揚面の端部を除いた部分の表面粗さをスライダ浮揚面
の端部の表面粗さよシ大きくすることによシ、磁気ヘッ
ドの磁気ディスク面への吸着をなくすとともに、耐クラ
７エ性の良い磁気ヘッドが達成される。磁気ヘッドの磁
気ディスク面への吸着を防止するためには、磁気ヘッド
または磁気ディスク面の表面粗さを大きくすれば良い。
しかしながら、例えば磁気ヘッドスライダの浮揚面全体
の表面粗さを大きくした場合、浮揚中の磁気ヘッドスラ
イダが磁気ディスク面に対して傾いてスライダ浮揚面の
端部が磁気ディスク面に接触した時、スライダ浮揚面の
端部の大きい表面粗さの凸部に接触荷重が集中して磁気
ディスク面を損傷し、クラシュ事故を誘発しやすいとい
う耐クラシュ性上の問題点がある。この問題点を解決し
たのが本発明の磁気ヘッドであり、磁気ヘッドスライダ
の浮揚面の端部の表面粗さは小さいまま、前記スライダ
の端部を除い友浮揚面部分の表面粗さを大きくして磁気
ディスク面との実効接触面積を小でくシ、吸着をなくす
とともに、耐クラシュ性の良い磁気ヘッドを獲得できる
。
の表面粗さを大きくした場合、浮揚中の磁気ヘッドスラ
イダが磁気ディスク面に対して傾いてスライダ浮揚面の
端部が磁気ディスク面に接触した時、スライダ浮揚面の
端部の大きい表面粗さの凸部に接触荷重が集中して磁気
ディスク面を損傷し、クラシュ事故を誘発しやすいとい
う耐クラシュ性上の問題点がある。この問題点を解決し
たのが本発明の磁気ヘッドであり、磁気ヘッドスライダ
の浮揚面の端部の表面粗さは小さいまま、前記スライダ
の端部を除い友浮揚面部分の表面粗さを大きくして磁気
ディスク面との実効接触面積を小でくシ、吸着をなくす
とともに、耐クラシュ性の良い磁気ヘッドを獲得できる
。
次に本発明の磁気ヘッドの加工方法について述べる。す
なわち、磁気ヘッドスライダ材としてアルミナ／チタン
カーバイドセラミックを用い、浮揚面を研磨仕上した磁
気ヘッドスライダをチタンカーバイドのエツチング液中
和浸し、該磁気ヘッドスライダ浮揚面の端部を除いた部
分に集光したレーザビームを照射して、選択的にスライ
ダ浮揚面の端部を除いた部分をエツチングすることを特
徴とする磁気ヘッドの〃ロエ方法である。アルミナ／チ
タンカーバイドセラミック中のチタンカーバイドはエツ
チング液である硝酸溶液にに対して微量なエツチング性
を有する。浮揚面を研磨仕上した磁気ヘッドスライダ（
アルミナ／チタンカーバイドセラミック）を硝酸溶液中
に浸し、該磁気ヘッドスライダの浮揚面に集光したレー
ザビームを照射スると、レーザビーム照射による加熱効
果に・よりレーザビーム照射部および照射部近傍の硝酸
溶液の温度が上昇してエツチングが促進され、レーザビ
ーム照射部のアルミナ／チタンカーバイドセラミック表
面のチタンカーバイド成分のみが選択的にエツチング除
去され、セラミック表面はアルミナ粒子の結合体となる
。これによりチタンカーバイド粒子が除去された部分が
表面粗さの凹凸として残る。よって、硝酸溶液中に浸し
た磁気ヘッドスライダの浮揚面の端部を除いた部分に集
光したレーザビームを照射することにより、選択的に該
スライダ浮揚面の端部を除いた部分の表面粗さを大きく
加工でき、この方法によシ本発明の磁気ヘッドが達成で
きる。
なわち、磁気ヘッドスライダ材としてアルミナ／チタン
カーバイドセラミックを用い、浮揚面を研磨仕上した磁
気ヘッドスライダをチタンカーバイドのエツチング液中
和浸し、該磁気ヘッドスライダ浮揚面の端部を除いた部
分に集光したレーザビームを照射して、選択的にスライ
ダ浮揚面の端部を除いた部分をエツチングすることを特
徴とする磁気ヘッドの〃ロエ方法である。アルミナ／チ
タンカーバイドセラミック中のチタンカーバイドはエツ
チング液である硝酸溶液にに対して微量なエツチング性
を有する。浮揚面を研磨仕上した磁気ヘッドスライダ（
アルミナ／チタンカーバイドセラミック）を硝酸溶液中
に浸し、該磁気ヘッドスライダの浮揚面に集光したレー
ザビームを照射スると、レーザビーム照射による加熱効
果に・よりレーザビーム照射部および照射部近傍の硝酸
溶液の温度が上昇してエツチングが促進され、レーザビ
ーム照射部のアルミナ／チタンカーバイドセラミック表
面のチタンカーバイド成分のみが選択的にエツチング除
去され、セラミック表面はアルミナ粒子の結合体となる
。これによりチタンカーバイド粒子が除去された部分が
表面粗さの凹凸として残る。よって、硝酸溶液中に浸し
た磁気ヘッドスライダの浮揚面の端部を除いた部分に集
光したレーザビームを照射することにより、選択的に該
スライダ浮揚面の端部を除いた部分の表面粗さを大きく
加工でき、この方法によシ本発明の磁気ヘッドが達成で
きる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第１図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す図で、（
イ）は平面図、（ロ）は側面図である。磁気ヘッドスラ
イダの浮揚面１０の端面（縁からの幅５０μｍ）１１の
表面粗さは研磨仕上げ後の値（ｓｏｌ）で小さく、浮揚
面の端面１１を除いた部分１２の表面粗さは太きく （
７５０Ｘ）加工した磁気ヘッドである。第２図は本発明
の磁気ヘッドの一実施例を示す断面図である。図１、図
２において１３は読み取９（又は書き込み）用のトラン
スジューサ端子である。
イ）は平面図、（ロ）は側面図である。磁気ヘッドスラ
イダの浮揚面１０の端面（縁からの幅５０μｍ）１１の
表面粗さは研磨仕上げ後の値（ｓｏｌ）で小さく、浮揚
面の端面１１を除いた部分１２の表面粗さは太きく （
７５０Ｘ）加工した磁気ヘッドである。第２図は本発明
の磁気ヘッドの一実施例を示す断面図である。図１、図
２において１３は読み取９（又は書き込み）用のトラン
スジューサ端子である。
第３図は本発明の磁気ヘッドのカロエ方法の適用例を示
す側面図である。磁気ヘッドスライダ材としてアルミナ
／チタンカーバイドセラミックを用い、浮揚面を研磨仕
上した磁気ヘッドスライダ２１を硝酸溶液（濃度１０％
）２２中に配置した。トランスジューサ端子を硝酸溶液
から保護するためにワックス２９で被覆した。アルゴン
レーザ発振器２３からレーザ（レーザパワーＩＷ）を発
損し、ミラー２４で直角方向にレーザを反射し、集光レ
ンズ２５によりレーザを集光させた。集光したアルゴン
レーザ２６ｆｔ磁気ヘッドスライダ２１の浮揚面に照射
した。この場合、硝酸溶液２２を含有した容器２７を移
動台２８を用いて速度６０１８／ｓｉ＋で磁気ヘッドス
ライダ２１の長手方向に往復運動ヘッドスライダの浮揚
面の端面（縁からの幅５０μｍ）３１を除いた部分に集
光させたアルゴンレーザ２６を照射するように、移動台
２８を動作さぞ、レーザビームを走査軌跡３２のように
走査した。その結果、アルゴンレーザ２６が照射された
磁気ヘッドスライダ２１の浮揚面の端面（ｌ＆からの幅
５０μｍ）を除く部分のみの表面粗さを大きく（７５０
Ｘ）に加工することができた。この場合、アルゴンレー
ザ２６が照射されない磁気ヘッドスライダ２１の端面（
緑からの＠５０μｍ）部分の表面粗さは研磨仕上後の値
（６ｏｌ）と同じであった。
す側面図である。磁気ヘッドスライダ材としてアルミナ
／チタンカーバイドセラミックを用い、浮揚面を研磨仕
上した磁気ヘッドスライダ２１を硝酸溶液（濃度１０％
）２２中に配置した。トランスジューサ端子を硝酸溶液
から保護するためにワックス２９で被覆した。アルゴン
レーザ発振器２３からレーザ（レーザパワーＩＷ）を発
損し、ミラー２４で直角方向にレーザを反射し、集光レ
ンズ２５によりレーザを集光させた。集光したアルゴン
レーザ２６ｆｔ磁気ヘッドスライダ２１の浮揚面に照射
した。この場合、硝酸溶液２２を含有した容器２７を移
動台２８を用いて速度６０１８／ｓｉ＋で磁気ヘッドス
ライダ２１の長手方向に往復運動ヘッドスライダの浮揚
面の端面（縁からの幅５０μｍ）３１を除いた部分に集
光させたアルゴンレーザ２６を照射するように、移動台
２８を動作さぞ、レーザビームを走査軌跡３２のように
走査した。その結果、アルゴンレーザ２６が照射された
磁気ヘッドスライダ２１の浮揚面の端面（ｌ＆からの幅
５０μｍ）を除く部分のみの表面粗さを大きく（７５０
Ｘ）に加工することができた。この場合、アルゴンレー
ザ２６が照射されない磁気ヘッドスライダ２１の端面（
緑からの＠５０μｍ）部分の表面粗さは研磨仕上後の値
（６ｏｌ）と同じであった。
（発明の効果）
本発明の加工方法によって磁気ヘッドスライダの浮揚面
の端面を除いた部分のみの表面粗さを大きく加工した磁
気ヘッドを用いて、潤滑剤を塗布ドを用いた場合におい
ては、従来から問題とされていた磁気ヘッドの吸着は無
くなり、これによって磁気ヘッド吸着によるディスク起
動時に磁気ディスク面に損傷を引き起こす問題が解決さ
れた。
の端面を除いた部分のみの表面粗さを大きく加工した磁
気ヘッドを用いて、潤滑剤を塗布ドを用いた場合におい
ては、従来から問題とされていた磁気ヘッドの吸着は無
くなり、これによって磁気ヘッド吸着によるディスク起
動時に磁気ディスク面に損傷を引き起こす問題が解決さ
れた。
また、本発明の磁気ヘッドにおいては、磁気ヘッドスラ
イダの浮揚面の表面粗さの大きい部分（端面を除いた部
分）に潤滑剤を保持さ亡ることかでき、塗布した潤滑剤
が飛散して微小量になった磁気ディスク面に対しても耐
りランユ性が良く、この点からも望ましい磁気ヘッドと
言える。
イダの浮揚面の表面粗さの大きい部分（端面を除いた部
分）に潤滑剤を保持さ亡ることかでき、塗布した潤滑剤
が飛散して微小量になった磁気ディスク面に対しても耐
りランユ性が良く、この点からも望ましい磁気ヘッドと
言える。
なお、本発明の一実施例において、磁気ヘッドスライダ
材（アルミナ／チタンカーバイドセラミック）中のチタ
ンカーバイドのエツチング液として硝酸溶液を用いたが
、塩酸、硫酸、リン酸等の酸性溶液を用いても良い。ま
た、レーザとしてアルゴンレーザを用いたが、ＹＡＧレ
ーザを用いても良い。
材（アルミナ／チタンカーバイドセラミック）中のチタ
ンカーバイドのエツチング液として硝酸溶液を用いたが
、塩酸、硫酸、リン酸等の酸性溶液を用いても良い。ま
た、レーザとしてアルゴンレーザを用いたが、ＹＡＧレ
ーザを用いても良い。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す図で
あり、（イ）は平面図、（ロ）は側面図である。 第２図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す断面
図である。第３図は本発明の磁気ヘッドの加工方法の実
施例を示す側面図でメジ、第４図は実施例におけるレー
ザビーム走査軌跡を示す。第５図は本発明の実施結果を
示す図である。図面において、１０は磁気ヘッドスライ
ダの浮揚面、１１゜３１は磁気ヘッドスライダの浮揚面
の端面％ １２は磁気ヘッドスライダの浮揚面の端面を
除いた部分（表面粗さの大さい部分）、１３はトランス
ジーーサ端子、２１は磁気ヘッドスライダ、２２はエツ
チング液、２３はアルゴンレーザ発振器、２４はミラー
、２５は集光レンズ、２６は集光したアルゴンレーザ、
２７は容器、２８は移動台、２９はワックス、３２はレ
ーザビーム走査軌跡である。 第１ 図 ＋１ 第２図 １２：浮揚面端面以外（表面粗さ７５０人）第３図 ７４図 ７Ｉ−５図
あり、（イ）は平面図、（ロ）は側面図である。 第２図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す断面
図である。第３図は本発明の磁気ヘッドの加工方法の実
施例を示す側面図でメジ、第４図は実施例におけるレー
ザビーム走査軌跡を示す。第５図は本発明の実施結果を
示す図である。図面において、１０は磁気ヘッドスライ
ダの浮揚面、１１゜３１は磁気ヘッドスライダの浮揚面
の端面％ １２は磁気ヘッドスライダの浮揚面の端面を
除いた部分（表面粗さの大さい部分）、１３はトランス
ジーーサ端子、２１は磁気ヘッドスライダ、２２はエツ
チング液、２３はアルゴンレーザ発振器、２４はミラー
、２５は集光レンズ、２６は集光したアルゴンレーザ、
２７は容器、２８は移動台、２９はワックス、３２はレ
ーザビーム走査軌跡である。 第１ 図 ＋１ 第２図 １２：浮揚面端面以外（表面粗さ７５０人）第３図 ７４図 ７Ｉ−５図
Claims (2)
- （１）磁気ヘッドスライダの浮揚面の端部を除いた部分
の表面粗さを該スライダ浮揚面の端部の表面粗さより大
きくしたことを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）磁気ヘッドスライダ材にアルミナ／チタンカーバ
イドを用い、該磁気ヘッドスライダの浮揚面を研磨仕上
した後に、該磁気ヘッドスライダをチタンカーバイドの
エッチング液中に配置し、該磁気ヘッドスライダの浮揚
面の端部を除いた部分に集光したレーザを照射すること
を特徴とする磁気ヘッドの加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4434785A JPS61204384A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 磁気ヘツドおよび加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4434785A JPS61204384A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 磁気ヘツドおよび加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61204384A true JPS61204384A (ja) | 1986-09-10 |
Family
ID=12688973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4434785A Pending JPS61204384A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 磁気ヘツドおよび加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61204384A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01303601A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体および装置 |
| JPH01311484A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-15 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| JPH02276074A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-09 | Teac Corp | ヘッドスライダ |
| US6590745B1 (en) * | 1999-01-26 | 2003-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic head, method of manufacturing same, and magnetic disk apparatus |
| US20110059336A1 (en) * | 2009-09-08 | 2011-03-10 | International Business Machines Corporation | Magnetic head with textured surfaces |
| JP2012234590A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Toshiba Corp | ヘッド、これを備えたヘッドジンバルアッセンブリ、およびディスク装置 |
-
1985
- 1985-03-06 JP JP4434785A patent/JPS61204384A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01303601A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体および装置 |
| JPH01311484A (ja) * | 1988-06-09 | 1989-12-15 | Toshiba Corp | 磁気ディスク装置 |
| JPH02276074A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-09 | Teac Corp | ヘッドスライダ |
| US6590745B1 (en) * | 1999-01-26 | 2003-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic head, method of manufacturing same, and magnetic disk apparatus |
| US20110059336A1 (en) * | 2009-09-08 | 2011-03-10 | International Business Machines Corporation | Magnetic head with textured surfaces |
| US8416526B2 (en) * | 2009-09-08 | 2013-04-09 | International Business Machines Corporation | Magnetic head with textured surfaces |
| US9011704B2 (en) | 2009-09-08 | 2015-04-21 | International Business Machines Corporation | Methods for texturing magnetic head surface |
| JP2012234590A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Toshiba Corp | ヘッド、これを備えたヘッドジンバルアッセンブリ、およびディスク装置 |
| US8427784B2 (en) | 2011-04-28 | 2013-04-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Head slider having trailing end configuration of a groove formed at a boundary between a trailing step and a trailing pad for adaptation with a gimbal assembly and disk drive |
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