JPS6120908A - 金属ハロゲン化合物混晶体光フアイバの製造方法 - Google Patents
金属ハロゲン化合物混晶体光フアイバの製造方法Info
- Publication number
- JPS6120908A JPS6120908A JP59142034A JP14203484A JPS6120908A JP S6120908 A JPS6120908 A JP S6120908A JP 59142034 A JP59142034 A JP 59142034A JP 14203484 A JP14203484 A JP 14203484A JP S6120908 A JPS6120908 A JP S6120908A
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- JP
- Japan
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- mixed crystal
- halide compound
- crystal material
- metallic halide
- fiber
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/80—Non-oxide glasses or glass-type compositions
- C03B2201/84—Halide glasses other than fluoride glasses, i.e. Cl, Br or I glasses, e.g. AgCl-AgBr "glass"
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、赤外線光ファイバとして使用される金属ハロ
ゲン化合物混晶体を素材とした光ファイバの製造方法に
関する。
ゲン化合物混晶体を素材とした光ファイバの製造方法に
関する。
光ファイバは、コアのみで構成すると、ファイバの側面
から光が発散して損失が大きくなるばかりでなく、ファ
イバ端面から出射された光の発散角度が大きく、集光が
困難である。また、ファイバは、ダイスを介して押出し
形成されるため、側面を完全に滑らかに良好な状態に仕
上げることが極めて難しい。このため、ファイバの側面
における光の散乱に基づく側面の損失を無視することが
できない。従って、光ファイバは、一般に中心部のコア
と、このコアの周囲にコアとは屈折率の異なるクラッド
層を設けている。そして、金属ハロゲン化合物混晶体に
よる赤外線光ファイバにおいても、コアとクラッドとか
ら構成することＫより、集光性を上げる方法が試みられ
ている。
から光が発散して損失が大きくなるばかりでなく、ファ
イバ端面から出射された光の発散角度が大きく、集光が
困難である。また、ファイバは、ダイスを介して押出し
形成されるため、側面を完全に滑らかに良好な状態に仕
上げることが極めて難しい。このため、ファイバの側面
における光の散乱に基づく側面の損失を無視することが
できない。従って、光ファイバは、一般に中心部のコア
と、このコアの周囲にコアとは屈折率の異なるクラッド
層を設けている。そして、金属ハロゲン化合物混晶体に
よる赤外線光ファイバにおいても、コアとクラッドとか
ら構成することＫより、集光性を上げる方法が試みられ
ている。
クラッド層の具体的な形成方法の一つとして、ＡｌＣｌ
−ＡｊＢｒからなるコア部の周囲Ｋ ＡｌｌＣｌ を
設けたファイバを押出し法によシ所定の寸法に形成する
ものがある。この方法によるときは、コア部とクラッド
部との屈折率が段階的に変化する、いわゆるステップイ
ンデックス型のファイバを得ることができるが、クラッ
ド層の屈折率が連続的に変化していくグレイテッドイン
デックス型のファイバを得ることができないという欠点
があった。
−ＡｊＢｒからなるコア部の周囲Ｋ ＡｌｌＣｌ を
設けたファイバを押出し法によシ所定の寸法に形成する
ものがある。この方法によるときは、コア部とクラッド
部との屈折率が段階的に変化する、いわゆるステップイ
ンデックス型のファイバを得ることができるが、クラッ
ド層の屈折率が連続的に変化していくグレイテッドイン
デックス型のファイバを得ることができないという欠点
があった。
本発明は、コアからクラッドへ漸次屈折率が変化するグ
レイテッドインデックス型光ファイバを一得ることがで
きる金属ノ・ロゲン化合物混晶体光ファイバの製造方法
を提供することを目的とする。
レイテッドインデックス型光ファイバを一得ることがで
きる金属ノ・ロゲン化合物混晶体光ファイバの製造方法
を提供することを目的とする。
本発明は、コアとなる金属ノ・ロゲン化合物混晶体の表
面に、との混晶体とは異々る金属ノ・ロゲン化合物混晶
体または金属・・ロゲン化合物を蒸着、拡散させること
により、表層一部の組成比率を変化させ、コアからクラ
ッド部への屈折率が漸次変化するように構成したもので
ある。
面に、との混晶体とは異々る金属ノ・ロゲン化合物混晶
体または金属・・ロゲン化合物を蒸着、拡散させること
により、表層一部の組成比率を変化させ、コアからクラ
ッド部への屈折率が漸次変化するように構成したもので
ある。
本発明に係る金属ハロゲン化合物混晶体光ファイバの製
造方法の好ましい実施例を、添付図面に従って詳説する
。
造方法の好ましい実施例を、添付図面に従って詳説する
。
図は、本発明に係る金属ノ・ロゲ／化合物混晶体光ファ
イバを製造する装置の一例を示したものである。図にお
いて、蒸着室１０は、Ｔ字状をなしている。即ち、蒸着
室１０は、肉厚の透明石英管からなる直管部１２のほぼ
中央部に、同様の材質からなシ金属ノ・ロゲン化合物１
６を収納する枝管部１４が形成しである。そして、直管
部１２と枝管部１４との周囲にはヒータ１ｉ、ｘ９が配
設しである。また、直管部】２内には、一対の支持具２
０．２２が配置してあり、この一対の支持具２０．２２
間にＴ７Ｂｒ −Ｔｌ工、ＡｇＣ１−ＡｊＢｒ 等の金
属ハロゲン化合物混晶体のファイバ２４を張ることがで
きるようになっている。なお、直管部１２の一端部（図
において左側端部）は封じられておシ、他端部が開口し
ていて、この開口部がパイレックスガラスによシ形成さ
れたクランク状をなすパイプ２６の一端に接続しである
。パイプ２６の８字部２８は、水槽３０内の冷却水中に
浸漬してあシ、パイプ２６の他端が図示しない真空系に
接続しである。
イバを製造する装置の一例を示したものである。図にお
いて、蒸着室１０は、Ｔ字状をなしている。即ち、蒸着
室１０は、肉厚の透明石英管からなる直管部１２のほぼ
中央部に、同様の材質からなシ金属ノ・ロゲン化合物１
６を収納する枝管部１４が形成しである。そして、直管
部１２と枝管部１４との周囲にはヒータ１ｉ、ｘ９が配
設しである。また、直管部】２内には、一対の支持具２
０．２２が配置してあり、この一対の支持具２０．２２
間にＴ７Ｂｒ −Ｔｌ工、ＡｇＣ１−ＡｊＢｒ 等の金
属ハロゲン化合物混晶体のファイバ２４を張ることがで
きるようになっている。なお、直管部１２の一端部（図
において左側端部）は封じられておシ、他端部が開口し
ていて、この開口部がパイレックスガラスによシ形成さ
れたクランク状をなすパイプ２６の一端に接続しである
。パイプ２６の８字部２８は、水槽３０内の冷却水中に
浸漬してあシ、パイプ２６の他端が図示しない真空系に
接続しである。
な゛お、直管部１２は、パイプ２６に接続部材３１を介
して接続、取外しが自由となっており、まだ直管部１２
とパイプ２６との接続部３２の周囲は、シールが図られ
ている。そして、接続部３２と８字部２８との間には、
パイレックスガラスによシ構成されたコック３４が設け
てあり、蒸着室１０を真空源に連通できるようになって
いる。
して接続、取外しが自由となっており、まだ直管部１２
とパイプ２６との接続部３２の周囲は、シールが図られ
ている。そして、接続部３２と８字部２８との間には、
パイレックスガラスによシ構成されたコック３４が設け
てあり、蒸着室１０を真空源に連通できるようになって
いる。
上記の装置を用いたグレイテッドインデックス型光ファ
イバの製造方法は次のとおりである。
イバの製造方法は次のとおりである。
まず、蒸着室】０の直管部１２をパイプ２６に接続し、
コック３４を開いて矢印に示す如く蒸着室ｌＯ内を排気
し、高真空にする。そして、蒸着室ｌＯ内を高真空頃維
持した状態において、ヒータ１８．１９により蒸着室１
０を約７００℃に加ｈｔｉｃｔ 等の高純度金属ハロ
ゲン化合物１６を納置する。そして、再び蒸着室ｌＯを
パイプ２６１Ｃ接続し、蒸着室１０内を高真空に保持し
た状態において、枝管部１４をヒータ１９によシ金属ハ
ロゲ／化合物１６が昇華する温度（例えばＴｎＢｒを使
用する場合約４６０℃）に加熱し、金属ハロゲン化合物
１６を昇華させるとともに、直管部１２の内壁をヒータ
１８により加熱する。この際、昇華した金属ハロゲン化
合物１６が系外へ排出するのを防止するため、パイプ２
６の８字部２８を冷却水によシ冷却し、昇華した金属ハ
ロゲン化合物を捕獲する。
コック３４を開いて矢印に示す如く蒸着室ｌＯ内を排気
し、高真空にする。そして、蒸着室ｌＯ内を高真空頃維
持した状態において、ヒータ１８．１９により蒸着室１
０を約７００℃に加ｈｔｉｃｔ 等の高純度金属ハロ
ゲン化合物１６を納置する。そして、再び蒸着室ｌＯを
パイプ２６１Ｃ接続し、蒸着室１０内を高真空に保持し
た状態において、枝管部１４をヒータ１９によシ金属ハ
ロゲ／化合物１６が昇華する温度（例えばＴｎＢｒを使
用する場合約４６０℃）に加熱し、金属ハロゲン化合物
１６を昇華させるとともに、直管部１２の内壁をヒータ
１８により加熱する。この際、昇華した金属ハロゲン化
合物１６が系外へ排出するのを防止するため、パイプ２
６の８字部２８を冷却水によシ冷却し、昇華した金属ハ
ロゲン化合物を捕獲する。
次に、金属ハロゲン化合物１６がある程度昇華した時点
において、コック３４を閉じ、蒸着室１゜の内壁面に金
属ハロゲン化合物１６を蒸着させる。
において、コック３４を閉じ、蒸着室１゜の内壁面に金
属ハロゲン化合物１６を蒸着させる。
その後、蒸着室ｌＯ内を室温まで冷却し、蒸着室１０と
パイプ２６との接続を解除し、支持具２ｏ、２２間にフ
ァイバ２４を張設し、固定する。そして、再び蒸着室ｌ
Ｏをパイプ２６に接続し、蒸着室ｌＯ内を高真空にする
。蒸着室が高真空になった時点において、蒸着室１０内
にアルゴンガス等の不活性ガスを流入させ、コック３４
を閉じ、蒸着室ｌＯ内をヒータ１８．１９により蒸着に
適した温度に昇温し、ファイバ２４に金属ハロゲン化合
物１６を蒸着、拡散させる。なお、ファイバ２４がＴｊ
Ｂｒ −Ｔｊ工 であるときは、金属ハロゲン化合物
１６として、高純度のＴｊＢｒを用いることが望ましく
、ファイバ２４がＡｌｌＣｌ −ＡＪＢｌ−のときは、
金属ハロゲン化合物１６としてＡｌｌＣｌを用いること
が望ましい。
パイプ２６との接続を解除し、支持具２ｏ、２２間にフ
ァイバ２４を張設し、固定する。そして、再び蒸着室ｌ
Ｏをパイプ２６に接続し、蒸着室ｌＯ内を高真空にする
。蒸着室が高真空になった時点において、蒸着室１０内
にアルゴンガス等の不活性ガスを流入させ、コック３４
を閉じ、蒸着室ｌＯ内をヒータ１８．１９により蒸着に
適した温度に昇温し、ファイバ２４に金属ハロゲン化合
物１６を蒸着、拡散させる。なお、ファイバ２４がＴｊ
Ｂｒ −Ｔｊ工 であるときは、金属ハロゲン化合物
１６として、高純度のＴｊＢｒを用いることが望ましく
、ファイバ２４がＡｌｌＣｌ −ＡＪＢｌ−のときは、
金属ハロゲン化合物１６としてＡｌｌＣｌを用いること
が望ましい。
上記のファイバ２４への金属ハロゲン化合物１６の一様
な蒸着、拡散速度、拡散厚さ等は、蒸着室ｌＯ内の雰囲
気、温度勾配（蒸着室１０内の昇温速度）等の条件によ
り定まる。
な蒸着、拡散速度、拡散厚さ等は、蒸着室ｌＯ内の雰囲
気、温度勾配（蒸着室１０内の昇温速度）等の条件によ
り定まる。
上記の如くファイバ２４に金属ハロゲン化合物１６を蒸
着、拡散させることにより、中心部のコアの周囲に組成
比が漸５次変化しているクラッド部を形成することがで
き、グレイテッドインデックス型の光ファイバを得るこ
とができる。そして、コアの周囲にクラッド層を形成す
ることにより、ファイバの側面における損失を低減させ
、端面における光の発散を小さくでき、集光性が向上す
る。
着、拡散させることにより、中心部のコアの周囲に組成
比が漸５次変化しているクラッド部を形成することがで
き、グレイテッドインデックス型の光ファイバを得るこ
とができる。そして、コアの周囲にクラッド層を形成す
ることにより、ファイバの側面における損失を低減させ
、端面における光の発散を小さくでき、集光性が向上す
る。
なお、前記実施例においては、ファイバ２４に金属ハロ
ゲン化合物を蒸着、拡散させる場合について説明したが
、金属ハロゲン化合物１６に代えてファイバ２４とは異
なる組成を有する金属ハ胃ゲン化合物混晶体を用いても
よい。
ゲン化合物を蒸着、拡散させる場合について説明したが
、金属ハロゲン化合物１６に代えてファイバ２４とは異
なる組成を有する金属ハ胃ゲン化合物混晶体を用いても
よい。
以上説明したように、本発明によれば、グレイテッドイ
ンデックス型の金属ハロゲン化合物混晶体光ファイバを
得ることができる。
ンデックス型の金属ハロゲン化合物混晶体光ファイバを
得ることができる。
図は本発明に係る金属ハロゲン化合物混晶体光ファイバ
の製造に用いる装置の一例を示す模式図である。 １０・・・蒸着室、
の製造に用いる装置の一例を示す模式図である。 １０・・・蒸着室、
Claims (1)
- 繊維状の金属ハロゲン化合物混晶体の表面に、金属ハロ
ゲン化合物または前記混晶体とは異なる組成比を有する
金属ハロゲン化合物混晶体を蒸着、拡散し、前記繊維状
の金属ハロゲン化合物混晶体の表層部に中心部とは屈折
率の異なるクラッド層を形成することを特徴とする金属
ハロゲン化合物混晶体光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59142034A JPS6120908A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 金属ハロゲン化合物混晶体光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59142034A JPS6120908A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 金属ハロゲン化合物混晶体光フアイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6120908A true JPS6120908A (ja) | 1986-01-29 |
Family
ID=15305824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59142034A Pending JPS6120908A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 金属ハロゲン化合物混晶体光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6120908A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01281407A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 単結晶ファィバの製造方法及び製造装置 |
| AU603459B2 (en) * | 1987-06-25 | 1990-11-15 | International Metals Reclamation Company, Inc., The | Process for the detoxification of steel plant wastes |
| US5560759A (en) * | 1994-11-14 | 1996-10-01 | Lucent Technologies Inc. | Core insertion method for making optical fiber preforms and optical fibers fabricated therefrom |
| CN103983435A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-08-13 | 香港理工大学深圳研究院 | 微纳光纤微型实验结构及其制作方法和测量仪 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57116304A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Optical fiber for infrared and its production |
| JPS57151902A (en) * | 1981-02-11 | 1982-09-20 | Int Standard Electric Corp | Optical fiber |
-
1984
- 1984-07-09 JP JP59142034A patent/JPS6120908A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57116304A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Optical fiber for infrared and its production |
| JPS57151902A (en) * | 1981-02-11 | 1982-09-20 | Int Standard Electric Corp | Optical fiber |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU603459B2 (en) * | 1987-06-25 | 1990-11-15 | International Metals Reclamation Company, Inc., The | Process for the detoxification of steel plant wastes |
| JPH01281407A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 単結晶ファィバの製造方法及び製造装置 |
| US5560759A (en) * | 1994-11-14 | 1996-10-01 | Lucent Technologies Inc. | Core insertion method for making optical fiber preforms and optical fibers fabricated therefrom |
| CN103983435A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-08-13 | 香港理工大学深圳研究院 | 微纳光纤微型实验结构及其制作方法和测量仪 |
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