JPS61210633A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPS61210633A JPS61210633A JP60050406A JP5040685A JPS61210633A JP S61210633 A JPS61210633 A JP S61210633A JP 60050406 A JP60050406 A JP 60050406A JP 5040685 A JP5040685 A JP 5040685A JP S61210633 A JPS61210633 A JP S61210633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- film
- vacuum container
- wall
- adhesion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は真空容器内で薄膜の被着あるいはエツチング操
作を行なう真空装置に係り、特に真空容器の壁面より金
属被着膜などの異物の剥離を防止した真空装置に関する
。
作を行なう真空装置に係り、特に真空容器の壁面より金
属被着膜などの異物の剥離を防止した真空装置に関する
。
Ｘ空蒸着装置、スパッタ装置、イオンビームエツチング
装着などの真空装置では、蒸着物質あるいはエツチング
物質などが真空容器の内壁に被着し、長期間使用すると
前記被着物が剥離する。このため、半導体装置あるいは
磁気バブルメモリなどのように微細パターン形成を必要
とするものに利用する場合には、前記剥離した異物が半
導体装置などの欠陥の原因となり、極めて不都合である
。
装着などの真空装置では、蒸着物質あるいはエツチング
物質などが真空容器の内壁に被着し、長期間使用すると
前記被着物が剥離する。このため、半導体装置あるいは
磁気バブルメモリなどのように微細パターン形成を必要
とするものに利用する場合には、前記剥離した異物が半
導体装置などの欠陥の原因となり、極めて不都合である
。
そこで、従来、真空容器の内壁に防着板を配置し、ある
一定期間使用したとき、前記防着板を取外して新しい防
着板あるいは被着した異物を除去した防着板を取付ける
ことが行なわれている。
一定期間使用したとき、前記防着板を取外して新しい防
着板あるいは被着した異物を除去した防着板を取付ける
ことが行なわれている。
しかしこの方法は、防着板の取付け、取外しが長期間大
気中で行なわれるので、真空容器の内壁に０□、Ｈ２Ｏ
などが吸着し、その後の真空に悪影響を及ぼす。また防
着板は機械的固定のため、作業中に異物が落ち易いとい
う問題点があった。
気中で行なわれるので、真空容器の内壁に０□、Ｈ２Ｏ
などが吸着し、その後の真空に悪影響を及ぼす。また防
着板は機械的固定のため、作業中に異物が落ち易いとい
う問題点があった。
本発明の一つの目的は、新しい防着板との交換を真空中
で行なうことができる真空装置を提供することにある。
で行なうことができる真空装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記した真空中での防着板の交換
を極めて短時間に容易に行なうことができる真空装置を
提供することにある。
を極めて短時間に容易に行なうことができる真空装置を
提供することにある。
本発明の一実施例？こよれば、コイル状に巻回された防
着板を真空容器内壁に沿って配設し、この防着板の一端
を巻き取り手段で巻き取ることができる真空装置が提供
される。これにより、真空中で使用済の防着板部分が回
収され、真空容器の内壁には新しい防着板部分が配設さ
れる。
着板を真空容器内壁に沿って配設し、この防着板の一端
を巻き取り手段で巻き取ることができる真空装置が提供
される。これにより、真空中で使用済の防着板部分が回
収され、真空容器の内壁には新しい防着板部分が配設さ
れる。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図により説明
する。本実施例はイオンビームエツチング装置に適用し
た例を示す。真空容器１内には、一方何にイオン源２及
びグリッド３が設けられ、他方側にウェハホルダ４が設
けられ、このウェハホルダ４上１こウェハ５が保持され
ている。
する。本実施例はイオンビームエツチング装置に適用し
た例を示す。真空容器１内には、一方何にイオン源２及
びグリッド３が設けられ、他方側にウェハホルダ４が設
けられ、このウェハホルダ４上１こウェハ５が保持され
ている。
また真空容器１内にはその内壁に近接して巻取り軸６及
び巻戻し軸７が配設されており、前記巻取り軸６は真空
容器ｌの外部で操作できるように、フィードスルーを通
して真空容器１外に連結されている。前記巻戻し軸７に
はコイル状に巻回された金属または樹脂などよりなる防
着膜８が装着されており、この防着膜８は真空容器１の
内壁に沿って配設された複数のがイドローラ９を介して
真空容器１の内壁を被覆し、一端は巻取り軸６に取付け
られている。
び巻戻し軸７が配設されており、前記巻取り軸６は真空
容器ｌの外部で操作できるように、フィードスルーを通
して真空容器１外に連結されている。前記巻戻し軸７に
はコイル状に巻回された金属または樹脂などよりなる防
着膜８が装着されており、この防着膜８は真空容器１の
内壁に沿って配設された複数のがイドローラ９を介して
真空容器１の内壁を被覆し、一端は巻取り軸６に取付け
られている。
次にかかる構成よりなる真空装置の作用について説明す
る。グリッド３よりイオン源２のイオンビームが引き出
され、ウェハ５に衝突してエラチンクラ行なう。このイ
オンビームエッチンクハ物理的エツチングで、被エツチ
ング物質は防着膜８に被着する。
る。グリッド３よりイオン源２のイオンビームが引き出
され、ウェハ５に衝突してエラチンクラ行なう。このイ
オンビームエッチンクハ物理的エツチングで、被エツチ
ング物質は防着膜８に被着する。
そこで、ある一定期間使用し、防着膜８に被着した異物
が剥離する現象が起る前に、巻取り軸６を真空容器１外
で操作して回し、異物が被着した防着膜８の部分を巻取
る。これにより、巻戻し軸７は巻き戻され、巻戻し軸７
に装着された新しい防着膜８の部分が真空容器１の壁面
に配設される。
が剥離する現象が起る前に、巻取り軸６を真空容器１外
で操作して回し、異物が被着した防着膜８の部分を巻取
る。これにより、巻戻し軸７は巻き戻され、巻戻し軸７
に装着された新しい防着膜８の部分が真空容器１の壁面
に配設される。
このように、真空中で新しい防着膜８の部分と交換でき
るので、真空に何ら悪影響を及ぼすことかない。また単
に巻取り軸６を回すのみで使用済の防着膜８の部分は巻
取られ、新しい防着膜８の部分が真空容器１の内壁に配
設されるので、迅速に、かつ極めて容易に作業が行なえ
る。
るので、真空に何ら悪影響を及ぼすことかない。また単
に巻取り軸６を回すのみで使用済の防着膜８の部分は巻
取られ、新しい防着膜８の部分が真空容器１の内壁に配
設されるので、迅速に、かつ極めて容易に作業が行なえ
る。
実際にＦ ｅ −Ｎ ｉ合金膜４０００Ａを被着（、り
８ｉウエハ５をエツチングしたところ、５バツチノエツ
チングでＡ７薄膜の防着膜８から被着膜の剥離が観察さ
れた。そこで、４バツチのエツチング毎に防着膜８を巻
取って新しい防着膜８を引き出したところ、全く被着さ
れた膜の剥離が観察されなかった。
８ｉウエハ５をエツチングしたところ、５バツチノエツ
チングでＡ７薄膜の防着膜８から被着膜の剥離が観察さ
れた。そこで、４バツチのエツチング毎に防着膜８を巻
取って新しい防着膜８を引き出したところ、全く被着さ
れた膜の剥離が観察されなかった。
なお、上記実施例においては、イオンビームエツチング
装着に適用した場合について説明したが、真空蒸着装置
、スパッタ装置などの真空装置にも同様に適用できるこ
とは勿論である。またバッチ型のイオンビームエツチン
グ装置に適用した場合について述べたが、例えば加工を
行う真空容器に隣接して基板取入れ室及び基板増出し室
が設けられ、基板取入れ室及び基板取出し室を大気また
は真空にし、真空容器は常に真空に保つ、いわゆるロー
ドロック型の真空装置に適用すれば更に有効であること
はいうまでもない。
装着に適用した場合について説明したが、真空蒸着装置
、スパッタ装置などの真空装置にも同様に適用できるこ
とは勿論である。またバッチ型のイオンビームエツチン
グ装置に適用した場合について述べたが、例えば加工を
行う真空容器に隣接して基板取入れ室及び基板増出し室
が設けられ、基板取入れ室及び基板取出し室を大気また
は真空にし、真空容器は常に真空に保つ、いわゆるロー
ドロック型の真空装置に適用すれば更に有効であること
はいうまでもない。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、真空
に伺ら悪影響を及ぼさなく、また使用済の防着膜の部分
を新しい防着膜の部分ｌこ迅速力）っ容易に取換えるこ
とができる。
に伺ら悪影響を及ぼさなく、また使用済の防着膜の部分
を新しい防着膜の部分ｌこ迅速力）っ容易に取換えるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明になる真空装置の一実施例を示す横断面
概略図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面概略図である。 １・・・真空容器、 ６・・・巻取り軸、７・
・・巻戻し軸、 ８・・・防着Ｍ。
概略図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面概略図である。 １・・・真空容器、 ６・・・巻取り軸、７・
・・巻戻し軸、 ８・・・防着Ｍ。
Claims (1)
- 真空容器内で薄膜の被着あるいはエッチング操作を行な
う真空装置において、前記真空容器の内壁に近接して巻
戻し軸及び前記真空容器外より操作可能な巻取り軸を配
設し、前記巻戻し軸にコイル状に巻回された防着膜を装
着し、この防着膜を前記真空容器の内壁に沿つて配設し
、かつ一端を前記巻取り軸に取付けたことを特徴とする
真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60050406A JPS61210633A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60050406A JPS61210633A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210633A true JPS61210633A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12857981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60050406A Pending JPS61210633A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61210633A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169919A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5635425A (en) * | 1979-08-02 | 1981-04-08 | Hughes Aircraft Co | Apparatus and method for optochemically coating in vapor phase |
| JPS59144132A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-18 | Hitachi Ltd | 反応装置 |
-
1985
- 1985-03-15 JP JP60050406A patent/JPS61210633A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5635425A (en) * | 1979-08-02 | 1981-04-08 | Hughes Aircraft Co | Apparatus and method for optochemically coating in vapor phase |
| JPS59144132A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-18 | Hitachi Ltd | 反応装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169919A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
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