JPS61220018A - 位置検出装置 - Google Patents
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- JPS61220018A JPS61220018A JP60061450A JP6145085A JPS61220018A JP S61220018 A JPS61220018 A JP S61220018A JP 60061450 A JP60061450 A JP 60061450A JP 6145085 A JP6145085 A JP 6145085A JP S61220018 A JPS61220018 A JP S61220018A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、位置指定用磁気発生器により磁界を加えられ
た磁性体の透磁率の変化に基づいて、位置指定用磁気発
生器で指定された位置を検出する位置検出装置に関する
ものである。
た磁性体の透磁率の変化に基づいて、位置指定用磁気発
生器で指定された位置を検出する位置検出装置に関する
ものである。
(従来の技術)
従来の位置検出装置としては、磁歪伝達媒体の一端また
は位置指示ペンの先端に設けた駆動コイルにパルス電流
を印加して前記磁歪伝達媒体に磁歪振動波を生起させた
時点より、位置指示ペンの先端または磁歪伝達媒体の一
端に設けた検出コイルに前記磁歪振動波に基づく誘導電
圧を検出するまでの時間を処理器等で測定し、これより
位置指示ペンの指示位置を算出する如くなしたものがあ
った。また、従来の他の位置検出装置としては、複数の
駆動線と検出線とを互いに直交して配置し、駆動線に順
次、電流を流すとともに検出線を順次選択して誘導電圧
を検出し、フェライトのような磁性体を有する位置指示
ペンで指定した位置を大きな誘導電圧が誘起された検出
線の位置より検出するようになしたものがあった。
は位置指示ペンの先端に設けた駆動コイルにパルス電流
を印加して前記磁歪伝達媒体に磁歪振動波を生起させた
時点より、位置指示ペンの先端または磁歪伝達媒体の一
端に設けた検出コイルに前記磁歪振動波に基づく誘導電
圧を検出するまでの時間を処理器等で測定し、これより
位置指示ペンの指示位置を算出する如くなしたものがあ
った。また、従来の他の位置検出装置としては、複数の
駆動線と検出線とを互いに直交して配置し、駆動線に順
次、電流を流すとともに検出線を順次選択して誘導電圧
を検出し、フェライトのような磁性体を有する位置指示
ペンで指定した位置を大きな誘導電圧が誘起された検出
線の位置より検出するようになしたものがあった。
(発明が解決しようとする問題点)
前者の装置では位置検出精度は比較的良好であるが、ペ
ンと処理器等との間でタイミング信号等を授受するため
、ペンと装置との間にコードを必要としその取扱いが著
しく制限されると共に、他の機器からの誘導を受けやす
く誤動作したり、また逆にノイズの発生源となる可能性
もあり、更にペンを磁歪伝達媒体に対して垂直に保持し
、かつかなり近接させて指示しなければならなかった。
ンと処理器等との間でタイミング信号等を授受するため
、ペンと装置との間にコードを必要としその取扱いが著
しく制限されると共に、他の機器からの誘導を受けやす
く誤動作したり、また逆にノイズの発生源となる可能性
もあり、更にペンを磁歪伝達媒体に対して垂直に保持し
、かつかなり近接させて指示しなければならなかった。
また、後者の装置では位置指示ペンをコードレスとする
ことができるが、座標位置の分解能が線の間隔で決まり
、分解能を上げるために線の間隔を小さくするとSN比
及び安定度が悪くなり、従って分解能を上げることが困
難であり、また駆動線と検出線の交点の真上の位置検出
が困難であり、更に位置指示ペンを線に極く接近させな
ければならず入力面上に厚みのある物を置いて使用でき
なかった。さらに従来、位置入力のタイミングをペンの
操作に関連付けようとする場合は、ペン自体にスイッチ
、あるいはなんらかの信号の発生回路を取付ける必要が
あり、構成が複雑となり、また故障し易い等の問題点が
あった。
ことができるが、座標位置の分解能が線の間隔で決まり
、分解能を上げるために線の間隔を小さくするとSN比
及び安定度が悪くなり、従って分解能を上げることが困
難であり、また駆動線と検出線の交点の真上の位置検出
が困難であり、更に位置指示ペンを線に極く接近させな
ければならず入力面上に厚みのある物を置いて使用でき
なかった。さらに従来、位置入力のタイミングをペンの
操作に関連付けようとする場合は、ペン自体にスイッチ
、あるいはなんらかの信号の発生回路を取付ける必要が
あり、構成が複雑となり、また故障し易い等の問題点が
あった。
本発明はこのような従来の欠点を改善したものであり、
位置指定用磁気発生器がどこにも接続されず操作性が良
く、また外部からの誘導に強く且つノイズを放出するこ
とのない高精度な位置検出装置を提供することを目的と
する。
位置指定用磁気発生器がどこにも接続されず操作性が良
く、また外部からの誘導に強く且つノイズを放出するこ
とのない高精度な位置検出装置を提供することを目的と
する。
(問題点を解決するための手段)
本発明の位置検出装置は、第1図に示すように互いにほ
ぼ平行に配列された複数の長尺の磁性体11と、該複数
の磁性体11の周囲にその長手方向と直交する方向に所
定間隔隔てて配設された複数の励磁線12a〜12hと
、前記複数の磁性体11及び該複数の励磁線12a〜1
2hの周囲のほぼ全域に亘って複数回巻回された検出線
13とを備えた位置検出部10と、定常的な磁界を発生
する位置指定用磁気発生器、例えば入力ペン20と、所
定周期の交番電流を発生する駆動電流源3oと、前記励
磁線12a〜12hのそれぞれに前記所定周期の交番電
流を次々に切替えて加える信号選択回路40と、前記検
出線13に誘起する誘導電圧を次々に取出し、これらの
差分を取り、該差分電圧が所定の基準電圧と等しくなる
位置を算出し、これより前記入力ベン20による位置検
出部10上の指定位置を求めるとともに、前記差分電圧
の傾きを算出し、これより前記入力ベン20の前記位置
検出部10に対する高さを求める位置検出回路50とか
らなっている。
ぼ平行に配列された複数の長尺の磁性体11と、該複数
の磁性体11の周囲にその長手方向と直交する方向に所
定間隔隔てて配設された複数の励磁線12a〜12hと
、前記複数の磁性体11及び該複数の励磁線12a〜1
2hの周囲のほぼ全域に亘って複数回巻回された検出線
13とを備えた位置検出部10と、定常的な磁界を発生
する位置指定用磁気発生器、例えば入力ペン20と、所
定周期の交番電流を発生する駆動電流源3oと、前記励
磁線12a〜12hのそれぞれに前記所定周期の交番電
流を次々に切替えて加える信号選択回路40と、前記検
出線13に誘起する誘導電圧を次々に取出し、これらの
差分を取り、該差分電圧が所定の基準電圧と等しくなる
位置を算出し、これより前記入力ベン20による位置検
出部10上の指定位置を求めるとともに、前記差分電圧
の傾きを算出し、これより前記入力ベン20の前記位置
検出部10に対する高さを求める位置検出回路50とか
らなっている。
(作用)
前記励磁線12a〜12hのいずれか一つに駆動電流源
30及び信号選択回路40より交番電流(例えば正弦波
等)を流すと、その周囲に磁束(磁界)が発生し、この
磁束による電磁誘導によって検出線13に誘導電圧が発
生する。この電磁誘導は磁性体11を介して行なわれる
ため、該磁性体11の透磁率μが大きい程、前記誘導電
圧の電圧値は大きくなる。これを式で表わすと、誘導電
圧Vは、 V=L (d i/dt)−μ・SN2/J(di/d
t) となる(但し、ここで、Sは磁性体11の断面積、Nは
検出線13の巻回数、)は磁性体11の長さである。)
。
30及び信号選択回路40より交番電流(例えば正弦波
等)を流すと、その周囲に磁束(磁界)が発生し、この
磁束による電磁誘導によって検出線13に誘導電圧が発
生する。この電磁誘導は磁性体11を介して行なわれる
ため、該磁性体11の透磁率μが大きい程、前記誘導電
圧の電圧値は大きくなる。これを式で表わすと、誘導電
圧Vは、 V=L (d i/dt)−μ・SN2/J(di/d
t) となる(但し、ここで、Sは磁性体11の断面積、Nは
検出線13の巻回数、)は磁性体11の長さである。)
。
ところで、磁性体11の透磁率μは、外部から加わる定
常的な磁界(以下、磁気バイアスと称す。)によって大
きく変化する。その変化のようすは磁性体の組成、前記
交流′R流の周波数、あるいは磁性体に熱処理、又は磁
場処理を加えること等によって異なるが、ここでは第2
図に示すように僅かな磁気バイアスを加えた時に最大と
なり、それ以上の磁気バイアスを加えれば加える程減少
するものとする。
常的な磁界(以下、磁気バイアスと称す。)によって大
きく変化する。その変化のようすは磁性体の組成、前記
交流′R流の周波数、あるいは磁性体に熱処理、又は磁
場処理を加えること等によって異なるが、ここでは第2
図に示すように僅かな磁気バイアスを加えた時に最大と
なり、それ以上の磁気バイアスを加えれば加える程減少
するものとする。
而して、棒磁石を内蔵する入力ペン20の一端20aを
磁性体11の上部に位置させると、第3図に示すように
磁性体11に該一端20aより出た磁束が交差する。こ
の時、磁束は該一端2゜a直下では磁性体11にほぼ直
交し、また、その両側では徐々に磁性体11に沿う如く
なる。磁性体11に加えられる磁気バイアス&は磁束と
磁性体11との交差する角度が小さい程大きくなるため
、前記入力ペン20の一端20a直下で一番小さく、こ
こから離れるに従って徐々に大きくなる。
磁性体11の上部に位置させると、第3図に示すように
磁性体11に該一端20aより出た磁束が交差する。こ
の時、磁束は該一端2゜a直下では磁性体11にほぼ直
交し、また、その両側では徐々に磁性体11に沿う如く
なる。磁性体11に加えられる磁気バイアス&は磁束と
磁性体11との交差する角度が小さい程大きくなるため
、前記入力ペン20の一端20a直下で一番小さく、こ
こから離れるに従って徐々に大きくなる。
従って、第3図に示すように、通常、位置検出5S10
の上部に形成される入力面1ooに前記入力ペン20の
一端20aが当てられた時、その一端20a直下の磁性
体11に加えられる磁気バイアス量を、前記透磁率が最
大になる僅かな磁気バイアス量に設定すると、第4図に
示すように該入力ペン20を置いた位II(指定位置)
に最も近い励磁線に交番電流を加えた際に検出線13に
発生する電圧を極大値として、交番電流を加えた励磁線
の位置が該指定位置から離れるに従って徐々に小さくな
る電圧V。−vlが発生する。第4図において、横軸は
磁性体11に沿う方向、(以下、これをX方向とする。
の上部に形成される入力面1ooに前記入力ペン20の
一端20aが当てられた時、その一端20a直下の磁性
体11に加えられる磁気バイアス量を、前記透磁率が最
大になる僅かな磁気バイアス量に設定すると、第4図に
示すように該入力ペン20を置いた位II(指定位置)
に最も近い励磁線に交番電流を加えた際に検出線13に
発生する電圧を極大値として、交番電流を加えた励磁線
の位置が該指定位置から離れるに従って徐々に小さくな
る電圧V。−vlが発生する。第4図において、横軸は
磁性体11に沿う方向、(以下、これをX方向とする。
)の座標位置を示し、縦軸は電圧値を示している。ここ
で、座標値Xo〜X は各電圧V −V7が発生した
時に交番電流G を加えた励磁線12a〜12hの位置を示す。位置検出
回路50で各電圧V −V7を取出し、これより誘起
電圧が極大値となるX座標値を演算処理して求めれば、
入力ペン20の指定位置の座標値X を求めることがで
きる。
で、座標値Xo〜X は各電圧V −V7が発生した
時に交番電流G を加えた励磁線12a〜12hの位置を示す。位置検出
回路50で各電圧V −V7を取出し、これより誘起
電圧が極大値となるX座標値を演算処理して求めれば、
入力ペン20の指定位置の座標値X を求めることがで
きる。
座標値X、を求める方法として、第4図における極大値
付近の波形を適当な二次函数で近似し、その函数の極大
値のX座標値として求める方法がある。また、函数の極
大値のX座標を求める方法は種々あるが、極大値(極小
値でも同様)においてはその差分が「0」である点に着
目して、前記函数に対する差分方程式をたて、その差分
が「0」となる座標位置を算出し、これより前記極大値
の座標値X、を求めることができる。
付近の波形を適当な二次函数で近似し、その函数の極大
値のX座標値として求める方法がある。また、函数の極
大値のX座標を求める方法は種々あるが、極大値(極小
値でも同様)においてはその差分が「0」である点に着
目して、前記函数に対する差分方程式をたて、その差分
が「0」となる座標位置を算出し、これより前記極大値
の座標値X、を求めることができる。
各検出電圧Vo−V7について、それぞれ差分(電圧値
の差)、即ち(Vl−Vo)、(v2−vl)、(v3
−v2)、・・・・・・(V7−V6)を算出すると、
第5図に示すような差分電圧値v 、 v 、 v
、−−−−−−vlが得られる。第5図においで、
横軸はX方向の座標位置を示し、縦軸は電圧値を示す。
の差)、即ち(Vl−Vo)、(v2−vl)、(v3
−v2)、・・・・・・(V7−V6)を算出すると、
第5図に示すような差分電圧値v 、 v 、 v
、−−−−−−vlが得られる。第5図においで、
横軸はX方向の座標位置を示し、縦軸は電圧値を示す。
但し、ここでは差分「0」を正の値の所定の基準レベル
V、に設定している。図中、■ と■4との間で電圧値
が前記基準V しt ベルを交差しており、この間で差分が「0」となってい
ることがわかる。
V、に設定している。図中、■ と■4との間で電圧値
が前記基準V しt ベルを交差しており、この間で差分が「0」となってい
ることがわかる。
また、入力ペン20を磁性体11に直交する方向に沿っ
て動かしても、各磁性体に与える磁気バイアス量のX方
向における比率は変わらないので、同一の座標値X、が
得られる。
て動かしても、各磁性体に与える磁気バイアス量のX方
向における比率は変わらないので、同一の座標値X、が
得られる。
また、2つの位置検出部10を互いに直交させて組合せ
れば、X及びY方向のいわゆる2次元座標値を求めるこ
ともできる。
れば、X及びY方向のいわゆる2次元座標値を求めるこ
ともできる。
一方、位置指定するためには磁性体11に局部的に数O
e程度の磁気バイアスを与えるのみで良いから、入力ペ
ン20を磁性体11より高さくZ)方向に多少離隔させ
て用いることもできる。
e程度の磁気バイアスを与えるのみで良いから、入力ペ
ン20を磁性体11より高さくZ)方向に多少離隔させ
て用いることもできる。
第3図において破線により示すように、入力ペン20の
一端20aを入力面100より高さhだけ離すと、その
一端20a直下における磁束と磁性体11との交差する
角度は変化せず、磁性体11に与える磁気バイアス量も
変化しないが、その両側においては磁束と磁性体11と
の交差する角度が大きくなるため、磁気バイアス量も小
さくなり、透磁率、即ち誘導電圧は大きくなる。
一端20aを入力面100より高さhだけ離すと、その
一端20a直下における磁束と磁性体11との交差する
角度は変化せず、磁性体11に与える磁気バイアス量も
変化しないが、その両側においては磁束と磁性体11と
の交差する角度が大きくなるため、磁気バイアス量も小
さくなり、透磁率、即ち誘導電圧は大きくなる。
第4図において、電圧V ′〜v7−は、入カペン20
の一端20aを前記位置上で2方向にわずかの距離(例
えば51111I程度)をおいて保持した場合の誘導(
検出)電圧を示す。前記検出電圧v −■ と検出電圧
V ′〜v7′とを比較す07
G ると、電圧の増加の度合は指定位置付近ではほぼ変わら
ず、X方向の距離が指定位置から離れれば離れる程大き
くなり、その曲線の曲りは緩か、即ちその差分が減少し
ているのがわかる。
の一端20aを前記位置上で2方向にわずかの距離(例
えば51111I程度)をおいて保持した場合の誘導(
検出)電圧を示す。前記検出電圧v −■ と検出電圧
V ′〜v7′とを比較す07
G ると、電圧の増加の度合は指定位置付近ではほぼ変わら
ず、X方向の距離が指定位置から離れれば離れる程大き
くなり、その曲線の曲りは緩か、即ちその差分が減少し
ているのがわかる。
検出電圧V。′〜v7−について、前記同様それぞれ差
分を算出すると、第6図に示すような差分電圧値v1′
、v ′、v −1・・・・”V7′が得られる。第5
図及び第6図かられかるように、差分の減少は基準レベ
ル■1 を横切る線の傾きの減少として現れ、両者は
ほぼ比例関係にある。即ち、高さhはこの各検出電圧の
差分の傾きに比例することになる。従って、予め高さh
と該差分の傾きとの関係を求めておき、前記各電圧v0
〜v7より差分を求め、さらにその傾きを求めれば、入
力ペン20の高さhを算出することができる。
分を算出すると、第6図に示すような差分電圧値v1′
、v ′、v −1・・・・”V7′が得られる。第5
図及び第6図かられかるように、差分の減少は基準レベ
ル■1 を横切る線の傾きの減少として現れ、両者は
ほぼ比例関係にある。即ち、高さhはこの各検出電圧の
差分の傾きに比例することになる。従って、予め高さh
と該差分の傾きとの関係を求めておき、前記各電圧v0
〜v7より差分を求め、さらにその傾きを求めれば、入
力ペン20の高さhを算出することができる。
また、入力する位置を指定する場合、所定のタイミング
信号を位置検出回路50に入力する必要があるが、前記
入力ペン20の高さをパラメータとして、例えば入力ペ
ン20の一端20aの高さが、入力面100に対して0
.5am+以下となった時、前記タイミング信号を発生
させるようにすることができ、この場合は入力ペン20
には棒磁石のみ設ければ良い。
信号を位置検出回路50に入力する必要があるが、前記
入力ペン20の高さをパラメータとして、例えば入力ペ
ン20の一端20aの高さが、入力面100に対して0
.5am+以下となった時、前記タイミング信号を発生
させるようにすることができ、この場合は入力ペン20
には棒磁石のみ設ければ良い。
次に、実際に差分が「0」となるX座標値、例えば×
1前記座標値x8、及び2方向の高さhを求める式につ
いて述べる。まず、各検出電圧、例えばV(x)を二次
函数の一般式で表わすと、次式のようになる。
1前記座標値x8、及び2方向の高さhを求める式につ
いて述べる。まず、各検出電圧、例えばV(x)を二次
函数の一般式で表わすと、次式のようになる。
V (x)−ax2+bx+c −−−−−−(
1)各励磁線12a〜12iの間隔をdとすると、差分
方程式ΔdV (x)は、 AdV (x)−(V (x+d)−V (x))/d
・・・・・・(2)となる。従って
、 AdV (x−d)−(V (x) −V (x−d)
)/d ・・・・・・(3)になる。(
3)式に前記(1)式を代入し整理すると、AdV (
x−d)−a ((2x+b/a)−d)・・・・・・
(4) となる。ところで、AdV(x−d)−0を満足するX
座標値Xqは、前記(4)式よりx =−b/2a+
d/2 ・・・・・・(5)となる。函数の
頂点の座標値はX、であるから、θV(x )/θx
−2axs+b−O、°、 x −−b/2a
・・・・・・(6)となる。(6)
式に前記(5)式に代入し整理すると、x −x
−d/2 ・・・・・・(7)q となる。即ち、AdV(x−d)が0となる点のX座標
値Xqを求め、それよりd/2を引けば、゛函数の頂点
の座標x3が求められることになる。
1)各励磁線12a〜12iの間隔をdとすると、差分
方程式ΔdV (x)は、 AdV (x)−(V (x+d)−V (x))/d
・・・・・・(2)となる。従って
、 AdV (x−d)−(V (x) −V (x−d)
)/d ・・・・・・(3)になる。(
3)式に前記(1)式を代入し整理すると、AdV (
x−d)−a ((2x+b/a)−d)・・・・・・
(4) となる。ところで、AdV(x−d)−0を満足するX
座標値Xqは、前記(4)式よりx =−b/2a+
d/2 ・・・・・・(5)となる。函数の
頂点の座標値はX、であるから、θV(x )/θx
−2axs+b−O、°、 x −−b/2a
・・・・・・(6)となる。(6)
式に前記(5)式に代入し整理すると、x −x
−d/2 ・・・・・・(7)q となる。即ち、AdV(x−d)が0となる点のX座標
値Xqを求め、それよりd/2を引けば、゛函数の頂点
の座標x3が求められることになる。
次に座標値X、について考える。AdV(x−d)が0
となる座標値X、は、第4図において基準レベル■ の
前後の差分電圧値■3と■4とのIn(座標値×3と×
4とのII)であるから、前記(4)式より、 v −a((2x3+b/a)−d)・・・・・・(
8)v4−a ((2x4+b/a)−d)−−−−−
・(9)となり、これを整理して、 v −v −2a (x3−x4)、’、 2a
−(v −v )/(X3−X4−)X3 X4
− dであるから、 2a−−(v3−v4)/d −・・・・・(
1G)となる。ここで、2aは差分曲線における傾きを
示すものであるから、Z方向の高さhは、h−A l
2 a l ・・・・・・(11
)なる式より求められる。なお、Aは比例定数であり、
実験的に求められる。第7図はaと入力ペン20の2方
向の高さhとの関係の一例を示すもので、h−0(11
11)の時のaを1とした場合のhに対するaの変化を
示す。
となる座標値X、は、第4図において基準レベル■ の
前後の差分電圧値■3と■4とのIn(座標値×3と×
4とのII)であるから、前記(4)式より、 v −a((2x3+b/a)−d)・・・・・・(
8)v4−a ((2x4+b/a)−d)−−−−−
・(9)となり、これを整理して、 v −v −2a (x3−x4)、’、 2a
−(v −v )/(X3−X4−)X3 X4
− dであるから、 2a−−(v3−v4)/d −・・・・・(
1G)となる。ここで、2aは差分曲線における傾きを
示すものであるから、Z方向の高さhは、h−A l
2 a l ・・・・・・(11
)なる式より求められる。なお、Aは比例定数であり、
実験的に求められる。第7図はaと入力ペン20の2方
向の高さhとの関係の一例を示すもので、h−0(11
11)の時のaを1とした場合のhに対するaの変化を
示す。
また、検出電圧の前記(6)式より
b/a−ci=−2x、 −−−−−−
(12)であるから、これを前記(8)、(9)式に代
入すると、V3−2a (x3−x、) ・・
・・・・(13)v −2a (x4−xq)
−・・−(14)となる。さらに該(13)、 (
14)式の両辺をそれぞれ削ると、 v / V −(X X ) / (X 4
−X q )3 4 3 q となる。V 3/ V 4−8と置き、整理すると、x
= (x −Bxa )/ (I B)・・・
・−(15) となる。座標X3.X4は既知であるから、X。
(12)であるから、これを前記(8)、(9)式に代
入すると、V3−2a (x3−x、) ・・
・・・・(13)v −2a (x4−xq)
−・・−(14)となる。さらに該(13)、 (
14)式の両辺をそれぞれ削ると、 v / V −(X X ) / (X 4
−X q )3 4 3 q となる。V 3/ V 4−8と置き、整理すると、x
= (x −Bxa )/ (I B)・・・
・−(15) となる。座標X3.X4は既知であるから、X。
は■3とv4との比より求めることができ、ざらに前記
(7)式より頂点の座標X、を求めることができる。
(7)式より頂点の座標X、を求めることができる。
(実施例)
第8図は位置検出部10の具体的な構成を示す分解斜視
図である。同図において、110a。
図である。同図において、110a。
110bはシールド板、120a 〜120cは磁性体
板、130a 、 130bは導体板であり、シール
ド板110a、磁性体板120a、導体板130a、磁
性体板120b、導体板130a、磁性体板120C,
シールド板110bの順に重ね合わされている。
板、130a 、 130bは導体板であり、シール
ド板110a、磁性体板120a、導体板130a、磁
性体板120b、導体板130a、磁性体板120C,
シールド板110bの順に重ね合わされている。
シールド板110a 、 110bは、ガラスエポキ
シ等の絶縁性基板111の片面に非磁性金属板、例えば
銅板112を貼着したプリント基板を用いている。
シ等の絶縁性基板111の片面に非磁性金属板、例えば
銅板112を貼着したプリント基板を用いている。
磁性体板120a〜120cは、第9図に示すように複
数(図示例では8本)の長尺の磁性体11をほぼ平行に
配列し、これを2枚のガラスエポキシ等の絶縁性基板1
21,122の間に挟持し、加熱圧着等により一体化し
てなるものである。ここで、磁性体11としては磁石を
接近させても磁化され難く、即ち保持力が小さく、且つ
透磁率の高い材料、例えば直径が約0.1麿の断面円形
状のアモルファスワイヤが用いられる。アモルファスワ
イヤとしては、例えば(F e 1−X COx )
yss i 1゜8.5(原子%)(XはFeとCOと
の割合を示すもので、0〜1の値をとる。)等が適して
いる。
数(図示例では8本)の長尺の磁性体11をほぼ平行に
配列し、これを2枚のガラスエポキシ等の絶縁性基板1
21,122の間に挟持し、加熱圧着等により一体化し
てなるものである。ここで、磁性体11としては磁石を
接近させても磁化され難く、即ち保持力が小さく、且つ
透磁率の高い材料、例えば直径が約0.1麿の断面円形
状のアモルファスワイヤが用いられる。アモルファスワ
イヤとしては、例えば(F e 1−X COx )
yss i 1゜8.5(原子%)(XはFeとCOと
の割合を示すもので、0〜1の値をとる。)等が適して
いる。
導体板130a、 130bは、第10図に示すよう
にガラスエポキシ等の絶縁性基板の片面に銅板を貼着し
たプリント基板131にエツチング加工を施し、複数(
図示例では17本)の両端にランド孔を有する線状の導
体132を形成してなるものである。
にガラスエポキシ等の絶縁性基板の片面に銅板を貼着し
たプリント基板131にエツチング加工を施し、複数(
図示例では17本)の両端にランド孔を有する線状の導
体132を形成してなるものである。
前記各基板間は接着シートにより接着・固定される。こ
の時、磁性体板120a〜120Gの磁性体11はX方
向に沿って配置され、導体板130a。
の時、磁性体板120a〜120Gの磁性体11はX方
向に沿って配置され、導体板130a。
130bの導体はX方向に直交する方向に配置される。
なお、他の製造方法として、磁性体板の両外側にプリン
ト基板を接着・固定し、その後、エツチング処理により
導体を形成し、もしくは形成せず、前記シールド板11
0a、li性体板120a、導体板130aの組、導体
板130b、磁性体板120C。
ト基板を接着・固定し、その後、エツチング処理により
導体を形成し、もしくは形成せず、前記シールド板11
0a、li性体板120a、導体板130aの組、導体
板130b、磁性体板120C。
シールド板110bの組を作成し、これらの間に磁性体
板120bを挟み、さらに接着・固定するようになして
も良い。位置検出部10全体の厚さは、実際は2〜3履
程度であるが、第8図乃至第10図では厚さ方向のみを
拡大して表わしている。
板120bを挟み、さらに接着・固定するようになして
も良い。位置検出部10全体の厚さは、実際は2〜3履
程度であるが、第8図乃至第10図では厚さ方向のみを
拡大して表わしている。
導体板130aと130bの各導体は、上下に重なり合
う導体同士が一端のランド孔にてスルーホール処理によ
り接続され、磁性体板120b中の磁性体11の周囲を
巻回する励磁線12a〜12h及び検出線13を交互に
形成する。各励磁線12a〜12hの導体板13Oa側
の他端は、それぞれ信号選択回路40に接続され、励磁
線12a〜12hの導体板130b側の他端は共通に接
地される。また、検出線13の導体板130a側の他端
は、隣接する検出線13の導体板130b側の他端に接
続され、即ち直列に接続され、検出線13の両端は位置
検出回路50に接続される。
う導体同士が一端のランド孔にてスルーホール処理によ
り接続され、磁性体板120b中の磁性体11の周囲を
巻回する励磁線12a〜12h及び検出線13を交互に
形成する。各励磁線12a〜12hの導体板13Oa側
の他端は、それぞれ信号選択回路40に接続され、励磁
線12a〜12hの導体板130b側の他端は共通に接
地される。また、検出線13の導体板130a側の他端
は、隣接する検出線13の導体板130b側の他端に接
続され、即ち直列に接続され、検出線13の両端は位置
検出回路50に接続される。
なお、前記位置検出部10において、磁性体板120a
、 120Cは、第11図に示すようにその中の磁
性体11により励磁線の周囲に発生する磁束の通り道を
構成し、より大きな電磁誘導を得るためのものであり、
特に設けなくても良い。また、シールド板110a 、
110bは外部からのノイズの混入、及び外部への
誘導雑音の放出を防止するためのものであり、特に設け
なくても良い。
、 120Cは、第11図に示すようにその中の磁
性体11により励磁線の周囲に発生する磁束の通り道を
構成し、より大きな電磁誘導を得るためのものであり、
特に設けなくても良い。また、シールド板110a 、
110bは外部からのノイズの混入、及び外部への
誘導雑音の放出を防止するためのものであり、特に設け
なくても良い。
第12図は磁性体板の他の例を示すもので、多数の絶縁
性11i123をほぼ平行に配列し、該絶縁性繊H12
3の間に複数の長尺の磁性体11を所定間隔隔てて配列
した縦糸群(または横糸群)124と、多数の絶縁性繊
維125からなる横糸群(または縦糸群)126とを平
織し□、織物状となし、これらをエポキシ樹脂等の絶縁
性樹脂で固めて板状となしたものである。この磁性体板
によれば、厚さをより小さくでき、更に薄い位置検出部
10を構成することができる。なお、絶縁性繊@ 12
3゜125としては例えば、ガラス繊維が用いられる。
性11i123をほぼ平行に配列し、該絶縁性繊H12
3の間に複数の長尺の磁性体11を所定間隔隔てて配列
した縦糸群(または横糸群)124と、多数の絶縁性繊
維125からなる横糸群(または縦糸群)126とを平
織し□、織物状となし、これらをエポキシ樹脂等の絶縁
性樹脂で固めて板状となしたものである。この磁性体板
によれば、厚さをより小さくでき、更に薄い位置検出部
10を構成することができる。なお、絶縁性繊@ 12
3゜125としては例えば、ガラス繊維が用いられる。
また、図面上では各mIi及び磁性体の間が離れて示さ
れているが、実際には隙間なく構成されるものであり、
また、磁性体間には2本の繊維が配列されているが、実
際には磁性体間の間隔を保持する為に必要な本数の繊維
が配列される。
れているが、実際には隙間なく構成されるものであり、
また、磁性体間には2本の繊維が配列されているが、実
際には磁性体間の間隔を保持する為に必要な本数の繊維
が配列される。
第13図は入力ベン20の具体例を示す断面図、第14
図はその電気口路図である。同図において、21は合成
樹脂等からなるペン状の容器であり、その一端には先端
先細状の棒磁石22が軸方向に摺動自在に収容されてい
る。また、容器21の他端側には周方向に亘って透明な
プラスチック等からなる赤外線透過窓23が設けられ、
その内側には円錐体の周面にクロムメッキ等を施した反
射体24と、赤外線発光ダイオード25とが収納されて
いる。26a、26bは操作スイッチで、操作スイッチ
26aは容器21の先端側の一側に取付けられ、操作ス
イッチ26bは棒磁石22の他端に対向して取付けられ
ている。また、27は信号発生回路、28は電池で、容
器21内の適所に収納されている。信号発生回路27は
、測定開始、位置入力等の位置検出回路50に対する複
数(ここでは3通り)の命令を幾つかのパルス信号の組
合せによる複数のコード信号にそれぞれ変換するもので
、デコーダ27aとコード信号発生!!27bとダイオ
ード駆動用トランジスタ27cとを備え、操作スイッチ
26a、26bのオン・オフの組合せに従って、コード
信号を発生し、発光ダイオード25を駆動する。而して
、操作スイッチ26aをオンすると、測定開始のコード
を示す赤外線信号がダイオード25より反射体24、透
過窓23を介して発信され、そのままカバー29を取り
付けた棒磁石22の先端を入力面に押し当てると、該棒
磁石22がスライドしてスイッチ26bがオンし、位置
入力のコード信号を示す赤外線信号が発信される如くな
っている。
図はその電気口路図である。同図において、21は合成
樹脂等からなるペン状の容器であり、その一端には先端
先細状の棒磁石22が軸方向に摺動自在に収容されてい
る。また、容器21の他端側には周方向に亘って透明な
プラスチック等からなる赤外線透過窓23が設けられ、
その内側には円錐体の周面にクロムメッキ等を施した反
射体24と、赤外線発光ダイオード25とが収納されて
いる。26a、26bは操作スイッチで、操作スイッチ
26aは容器21の先端側の一側に取付けられ、操作ス
イッチ26bは棒磁石22の他端に対向して取付けられ
ている。また、27は信号発生回路、28は電池で、容
器21内の適所に収納されている。信号発生回路27は
、測定開始、位置入力等の位置検出回路50に対する複
数(ここでは3通り)の命令を幾つかのパルス信号の組
合せによる複数のコード信号にそれぞれ変換するもので
、デコーダ27aとコード信号発生!!27bとダイオ
ード駆動用トランジスタ27cとを備え、操作スイッチ
26a、26bのオン・オフの組合せに従って、コード
信号を発生し、発光ダイオード25を駆動する。而して
、操作スイッチ26aをオンすると、測定開始のコード
を示す赤外線信号がダイオード25より反射体24、透
過窓23を介して発信され、そのままカバー29を取り
付けた棒磁石22の先端を入力面に押し当てると、該棒
磁石22がスライドしてスイッチ26bがオンし、位置
入力のコード信号を示す赤外線信号が発信される如くな
っている。
第15図は駆動電流源30の具体例を示すもので、図中
、31は積分回路、32はバンドパス−フィルタである
。積分回路31はその入力端子33に後述する位置検出
回路50の演算処理回路からのクロックパルス(または
これを分周したパルス)を受け、これを積分し、三角波
信号に変換する。バンドパスフィルタ32では、前記三
角波信号を正弦波信号に変換し、その出力端子34より
信号選択回路40に送出する。なお、基準(入力)信号
にクロックパルスを用いたのは位置検出回路50と同期
をとるためである。
、31は積分回路、32はバンドパス−フィルタである
。積分回路31はその入力端子33に後述する位置検出
回路50の演算処理回路からのクロックパルス(または
これを分周したパルス)を受け、これを積分し、三角波
信号に変換する。バンドパスフィルタ32では、前記三
角波信号を正弦波信号に変換し、その出力端子34より
信号選択回路40に送出する。なお、基準(入力)信号
にクロックパルスを用いたのは位置検出回路50と同期
をとるためである。
第16図は信号選択回路40の具体例を示すもので、図
中、41はマルチプレクサ、42はドライバ回路である
。マルチプレクサ41は1つの入力端子と、複数(図示
例では8個)の出力端子を有する周知のもので、位置検
出回路50からの切換信号に従って、入力信号、即ち駆
動電流源30からの交番電流を各出力端子に切換えて送
出する。ドライバ回路42は複数のNPNトランジスタ
からなるもので、各トランジスタのコレクタは+(プラ
ス)の電源に接続され、またベースはマルチプレクサ4
1の出力端子に接続され、更にエミッタは位置検出部1
0の各励磁線12a〜12hに接続され、選択された励
磁線のみに増幅した交番電流を送出する如くなっている
。
中、41はマルチプレクサ、42はドライバ回路である
。マルチプレクサ41は1つの入力端子と、複数(図示
例では8個)の出力端子を有する周知のもので、位置検
出回路50からの切換信号に従って、入力信号、即ち駆
動電流源30からの交番電流を各出力端子に切換えて送
出する。ドライバ回路42は複数のNPNトランジスタ
からなるもので、各トランジスタのコレクタは+(プラ
ス)の電源に接続され、またベースはマルチプレクサ4
1の出力端子に接続され、更にエミッタは位置検出部1
0の各励磁線12a〜12hに接続され、選択された励
磁線のみに増幅した交番電流を送出する如くなっている
。
第17図は励磁線が多数(ここでは16本)の場合に有
効な信号選択回路40の他の構成例を示す。同図におい
て、43.44は出力端子が4個のマルチプレクサ、4
5.46は4個のトランジスタからなるドライバ回路で
あって、ドライバ回路45の各トランジスタは同数に群
分けされた励磁線12−の各群に共通に接続され、゛ま
た、ドライバ回路46の各トランジスタは各群の励磁線
のうちの1つにそれぞれ接続され、マルチプレクサ43
.44の両方に選択された励磁線のみに交番電流が加え
られる如くなっている。この構成によれば、多数の励磁
線を選択切換え可能な信号選択回路を少ない出力端子の
マルチプレクサにより構成することができ、各励磁線と
ドライバ回路との間の配線も少なくすることができる。
効な信号選択回路40の他の構成例を示す。同図におい
て、43.44は出力端子が4個のマルチプレクサ、4
5.46は4個のトランジスタからなるドライバ回路で
あって、ドライバ回路45の各トランジスタは同数に群
分けされた励磁線12−の各群に共通に接続され、゛ま
た、ドライバ回路46の各トランジスタは各群の励磁線
のうちの1つにそれぞれ接続され、マルチプレクサ43
.44の両方に選択された励磁線のみに交番電流が加え
られる如くなっている。この構成によれば、多数の励磁
線を選択切換え可能な信号選択回路を少ない出力端子の
マルチプレクサにより構成することができ、各励磁線と
ドライバ回路との間の配線も少なくすることができる。
第18図は位置検出回路50の具体的構成を示す回路ブ
ロック図、第19図は各部の信号を示す図である。前述
した入力ベン20の発光ダイオード25より、測定開始
のコードを示す赤外線信号が発信されると、該赤外線信
号は赤外線受光ダイオード51で受信され、更に受信1
152で増幅・波形整形され、元のコード信号に変換さ
れ、更に測定開始の命令信号に戻され、入力バッファ5
3に送出される。演算処理回路54は入力バッフ753
より前記命令信号を読み取り、測定開始を認識すると、
出力バッフ?55を介して信号選択回路40へ切換信号
S1を送り、駆動信号源30の駆動電流を励磁線12a
〜12hへ次々に切換えて入力する。
ロック図、第19図は各部の信号を示す図である。前述
した入力ベン20の発光ダイオード25より、測定開始
のコードを示す赤外線信号が発信されると、該赤外線信
号は赤外線受光ダイオード51で受信され、更に受信1
152で増幅・波形整形され、元のコード信号に変換さ
れ、更に測定開始の命令信号に戻され、入力バッファ5
3に送出される。演算処理回路54は入力バッフ753
より前記命令信号を読み取り、測定開始を認識すると、
出力バッフ?55を介して信号選択回路40へ切換信号
S1を送り、駆動信号源30の駆動電流を励磁線12a
〜12hへ次々に切換えて入力する。
この時、検出l1113に発生する誘導電圧は増幅器5
6へ入力され、増幅され、更に検波器57で整流されて
直流電圧の検波信号S2に変換され、さらに差分検出回
路58に送られ、差分検出信号S5に変換される(但し
、この差分検出信号S5はディジタル値に変換する必要
性から単極性、ここでは正の電圧信号となるようレベル
シフトされる。)。なお、差分検出回路58には演算制
御回路54より後述するように2つのサンプリングパル
ス83.84が出力バッファ55を介して入力されてい
る。差分検出信号S5はアナログ−ディジタル(A/D
)変換!159にてディジタル値に変換され入力バッフ
ァ53を介して演算処理回路54に送出されるが、演算
処理回路54では前記切換信号に同期して該ディジタル
値を読み取る。
6へ入力され、増幅され、更に検波器57で整流されて
直流電圧の検波信号S2に変換され、さらに差分検出回
路58に送られ、差分検出信号S5に変換される(但し
、この差分検出信号S5はディジタル値に変換する必要
性から単極性、ここでは正の電圧信号となるようレベル
シフトされる。)。なお、差分検出回路58には演算制
御回路54より後述するように2つのサンプリングパル
ス83.84が出力バッファ55を介して入力されてい
る。差分検出信号S5はアナログ−ディジタル(A/D
)変換!159にてディジタル値に変換され入力バッフ
ァ53を介して演算処理回路54に送出されるが、演算
処理回路54では前記切換信号に同期して該ディジタル
値を読み取る。
さらに演算処理回路54は前記各差分電圧値(ディジタ
ル値)をメモリ60に一詩記憶し、これらの中より前記
基準レベル■1より大きい電圧値のうちで一番小さいも
のと、■、より小さい電圧値のうちで一番大きいもの、
即ちその前後の電圧値Vl及びv、+1を検出する。次
に演算処理回路54は該電圧値■k −vk+1とその
X座標値×に、xk+1をメモリ60より取出し、これ
らをそれぞれ前記(15)式における電圧V、V4゜X
3.Xaとして、(15)式の演算処理を行ない、座標
値X、を求め、さらに(7)式の演算を行い、座標値X
、を求める。また、必要に応じて(11)式の演算を行
い、高さhを求める。
ル値)をメモリ60に一詩記憶し、これらの中より前記
基準レベル■1より大きい電圧値のうちで一番小さいも
のと、■、より小さい電圧値のうちで一番大きいもの、
即ちその前後の電圧値Vl及びv、+1を検出する。次
に演算処理回路54は該電圧値■k −vk+1とその
X座標値×に、xk+1をメモリ60より取出し、これ
らをそれぞれ前記(15)式における電圧V、V4゜X
3.Xaとして、(15)式の演算処理を行ない、座標
値X、を求め、さらに(7)式の演算を行い、座標値X
、を求める。また、必要に応じて(11)式の演算を行
い、高さhを求める。
このようにして求められたディジタル値のX座標値X、
(又は座標値×8と高さh)は、一旦、メモリ60に記
憶されるが、前記測定開始を示す信号が出されている間
、上述したような測定及び演算が所定時間毎に繰返され
、その値は更新される。次に、入力ペン20より位置入
力のコードを示す赤外線信号が発信され、受光ダイオー
ド51、受信機52、入力バッファ53を介して演算処
理回路54に認識されると、その時点における前記ディ
ジタル値のX座標値が入力値として、出力バッフ?61
を介してディジタル表示器(図示せず)に送出され表示
され、またはコンピュータ(図示せず)に送出され処理
されたり、あるいはディジタル−アナログ(D/A )
変換器62を介してアナログ信号に変換され処理される
。
(又は座標値×8と高さh)は、一旦、メモリ60に記
憶されるが、前記測定開始を示す信号が出されている間
、上述したような測定及び演算が所定時間毎に繰返され
、その値は更新される。次に、入力ペン20より位置入
力のコードを示す赤外線信号が発信され、受光ダイオー
ド51、受信機52、入力バッファ53を介して演算処
理回路54に認識されると、その時点における前記ディ
ジタル値のX座標値が入力値として、出力バッフ?61
を介してディジタル表示器(図示せず)に送出され表示
され、またはコンピュータ(図示せず)に送出され処理
されたり、あるいはディジタル−アナログ(D/A )
変換器62を介してアナログ信号に変換され処理される
。
第20図は差分検出回路58の具体的回路を示すもので
ある。前記検波信号S2は入力端子58aよりマルチプ
レクサ58b、58cに送出される。該マルチプレクサ
58bには基準レベルサンプリングパルスS3が演算処
理回路54より供給されており、該パルスのハイレベル
期間、検波信号S2の電圧がコンデンサC1及びオペア
ンプOP1からなるサンプルホールド回路58dに保持
される。また同様に、マルチプレクサ58cには差分レ
ベルサンプリングパルスS4が演算処理回路54より供
給されており、該パルスのハイレベル期間、検波信号S
2の電圧がコンデンサC2及びオペアンプOP2からな
るサンプルホールド回路58eに保持される。サンプル
ホールド回路58d、58eに保持された電圧は差動増
幅器58fに入力され、その差分に相当する差分検出信
号S5が出力端子58aより送出される。
ある。前記検波信号S2は入力端子58aよりマルチプ
レクサ58b、58cに送出される。該マルチプレクサ
58bには基準レベルサンプリングパルスS3が演算処
理回路54より供給されており、該パルスのハイレベル
期間、検波信号S2の電圧がコンデンサC1及びオペア
ンプOP1からなるサンプルホールド回路58dに保持
される。また同様に、マルチプレクサ58cには差分レ
ベルサンプリングパルスS4が演算処理回路54より供
給されており、該パルスのハイレベル期間、検波信号S
2の電圧がコンデンサC2及びオペアンプOP2からな
るサンプルホールド回路58eに保持される。サンプル
ホールド回路58d、58eに保持された電圧は差動増
幅器58fに入力され、その差分に相当する差分検出信
号S5が出力端子58aより送出される。
前述した実施例において、測定開始、位置入力等を示す
信号を入力ペン20から位置検出回路50まで赤外線信
号を用いて伝送したが、超音波信号を用いても良い。ま
た、これらの信号は単に位置検出回路50の動作開始や
座標値の入力のタイミングを演算処理回路54に認識さ
せるためのものであるから特に入力ペン20より送るこ
とを要するものではなく、位置検出回路50自体に設け
たキーボードその他のスイッチ回路より送る如くなして
も良い。
信号を入力ペン20から位置検出回路50まで赤外線信
号を用いて伝送したが、超音波信号を用いても良い。ま
た、これらの信号は単に位置検出回路50の動作開始や
座標値の入力のタイミングを演算処理回路54に認識さ
せるためのものであるから特に入力ペン20より送るこ
とを要するものではなく、位置検出回路50自体に設け
たキーボードその他のスイッチ回路より送る如くなして
も良い。
また、入力ペン20の高さを位置入力のパラメータとし
て使用することもできる。即ち、測定開始の信号はキー
ボードその他のスイッチ回路より送り、この状態で入力
ペン20の一端が位置検出部10の入力面100に押付
けられ、高さhが所定の値、例えば前述した0、5履以
下になった時、これを演算処理回路54で検出し、位置
入力の信号としてWlmlする。
て使用することもできる。即ち、測定開始の信号はキー
ボードその他のスイッチ回路より送り、この状態で入力
ペン20の一端が位置検出部10の入力面100に押付
けられ、高さhが所定の値、例えば前述した0、5履以
下になった時、これを演算処理回路54で検出し、位置
入力の信号としてWlmlする。
第21図はこの時使用する入力ベン70を示すもので、
合成樹脂からなるペン軸状の容器71の一端72に、先
端先細状の棒磁石73がN極を先端方向に向けて収容さ
れ、ざらに棒磁石73の先端にプラスチック等のカバー
74を取付けてなっている。従って、入力ベン70自体
に前述したような電気回路や電池を設ける必要がなく、
且つ該入力ペン70の操作に関連して位置入力すること
が可能となり、操作性の悪化をきたすことがない。
合成樹脂からなるペン軸状の容器71の一端72に、先
端先細状の棒磁石73がN極を先端方向に向けて収容さ
れ、ざらに棒磁石73の先端にプラスチック等のカバー
74を取付けてなっている。従って、入力ベン70自体
に前述したような電気回路や電池を設ける必要がなく、
且つ該入力ペン70の操作に関連して位置入力すること
が可能となり、操作性の悪化をきたすことがない。
なお、実施例中の磁性体、励磁線及び検出線の本数は一
例であり、これに限定されないことはいうまでもない。
例であり、これに限定されないことはいうまでもない。
また検出線の間隔は2〜6履程度であれば比較的精度良
く位置検出ができることが実験により確かめられている
。また、位置指定用磁気発生器も永久磁石に限定される
ことはなく電磁石でもよい。
く位置検出ができることが実験により確かめられている
。また、位置指定用磁気発生器も永久磁石に限定される
ことはなく電磁石でもよい。
第22図は本発明の他の実施例を示すものである。同図
において、81及び82はX方向及びY方向の位置検出
部、83及び84はX方向及びY方向用の信号選択回路
で、それぞれ前記位置検出部10、信号選択回路40と
同様な構成を有しており(但し、図面では簡略のためそ
の細部については省略する。)、該位置検出部81.8
2についてはその各磁性体がそれぞれX方向及びY方向
に直交する如く、互いに重ね合わされている。
において、81及び82はX方向及びY方向の位置検出
部、83及び84はX方向及びY方向用の信号選択回路
で、それぞれ前記位置検出部10、信号選択回路40と
同様な構成を有しており(但し、図面では簡略のためそ
の細部については省略する。)、該位置検出部81.8
2についてはその各磁性体がそれぞれX方向及びY方向
に直交する如く、互いに重ね合わされている。
また、85は位置検出回路で、X方向及びY方向の位置
検出を交互に行なわせるようにした点を除いて前記位置
検出回路50と同様である。従って、この実施例によれ
ば、X方向及びY方向の2方向、さらに必要であればZ
方向の位W!1(座標)検出が容易に出来る。この場合
、Z方向の位置検出はX方向の位置検出部81、又はY
方向の位置検出部82のいずれの信号から求めても良い
。なお、位置指定用磁気発生器、駆動電流源の構成は前
記実施例と同じで良い。
検出を交互に行なわせるようにした点を除いて前記位置
検出回路50と同様である。従って、この実施例によれ
ば、X方向及びY方向の2方向、さらに必要であればZ
方向の位W!1(座標)検出が容易に出来る。この場合
、Z方向の位置検出はX方向の位置検出部81、又はY
方向の位置検出部82のいずれの信号から求めても良い
。なお、位置指定用磁気発生器、駆動電流源の構成は前
記実施例と同じで良い。
(発明の効果)
以上説明したように本発明によれば、位置検出方法とし
て差分検出方式を採用したため、位置検出精度を上げる
ことができるとともに、高さ方向の位置検出が可能とな
り、位置指定用磁気発生器の位置検出部に対する高さを
位置指定時のタイミング検出のパラメータとすることが
でき、位置指定用磁気発生器自体に電気回路や電池を設
けることなく、且つ該位置指定用磁気発生器の操作に関
連して位置指定することが可能となる。また、検出線は
磁性体及び励磁線周囲の全域に亘って複数回巻回されて
いるので、該検出線に大きな誘導電圧が発生することに
なり、且つ誘導電圧の出力変化が大きくなり、従って、
位置検出範囲を大きくとることが可能となる。また、位
置検出の為に位置指定用磁気発生器と他の装置との間に
信号をやりとりする必要がないためコードレスとするこ
とができ、更にまた、位置指定の為に必要とする磁気バ
イアスのlは、数エルステッド(Oe)程度で良いので
、該位置指定用磁気発生器は位置検出部より多少離して
も位置指定が可能であり、位置検出部の裏面からの位置
指定も可能であり、強磁性体以外の金属を入力面上に載
置することもできる。また、励磁線と検出線との間の磁
束変化が磁性体内で行なわれ、その結合が密でSN比が
良くなり、また外部からの誘導を受けにくくかつ外部へ
の誘導ノイズの発生が少なくなる。また、位置検出部を
X方向及びY方向に設けたものによれば、X方向及びY
方向の2方向、又はこれに加えて高さく2)方向の3方
向の位置検出が可能となる等の利点がある。
て差分検出方式を採用したため、位置検出精度を上げる
ことができるとともに、高さ方向の位置検出が可能とな
り、位置指定用磁気発生器の位置検出部に対する高さを
位置指定時のタイミング検出のパラメータとすることが
でき、位置指定用磁気発生器自体に電気回路や電池を設
けることなく、且つ該位置指定用磁気発生器の操作に関
連して位置指定することが可能となる。また、検出線は
磁性体及び励磁線周囲の全域に亘って複数回巻回されて
いるので、該検出線に大きな誘導電圧が発生することに
なり、且つ誘導電圧の出力変化が大きくなり、従って、
位置検出範囲を大きくとることが可能となる。また、位
置検出の為に位置指定用磁気発生器と他の装置との間に
信号をやりとりする必要がないためコードレスとするこ
とができ、更にまた、位置指定の為に必要とする磁気バ
イアスのlは、数エルステッド(Oe)程度で良いので
、該位置指定用磁気発生器は位置検出部より多少離して
も位置指定が可能であり、位置検出部の裏面からの位置
指定も可能であり、強磁性体以外の金属を入力面上に載
置することもできる。また、励磁線と検出線との間の磁
束変化が磁性体内で行なわれ、その結合が密でSN比が
良くなり、また外部からの誘導を受けにくくかつ外部へ
の誘導ノイズの発生が少なくなる。また、位置検出部を
X方向及びY方向に設けたものによれば、X方向及びY
方向の2方向、又はこれに加えて高さく2)方向の3方
向の位置検出が可能となる等の利点がある。
図面は本発明の説明に供するもので、第1図は本発明の
主要な構成を示す説明図、第2図は磁気バイアス対透磁
率の特性図、第3図は位置指定用磁気発生器より磁性体
に印加される磁束のようすを示す図、第4図は検出線に
発生するX導電圧の一例を示すグラフ、第5図は差分電
圧値の一例を示すグラフ、第6図は差分電圧値の一例を
示すグラフ、第7図は差分電圧値と位置指定用磁気発生
器のZ方向の高さとの関係の一例を示すグラフ、第8図
は位置検出部10の具体的な構成を示す分解斜視図、第
9図は磁性体板の製造のようすを示す図、第10図は導
体板の斜視図、第11図は励磁線の周囲の磁束のようす
を示す図、第12図は磁性体板の他の例を示す要部斜視
図、第13図は入力ペンの具体的な構成を示す断面図、
第14図はその電気回路図、第15図は駆動電流源の具
体的な構成を示す回路図、第16図は信号選択回路の具
体的な回路図、第17図は信号選択回路の他の具体的な
回路図、第18図は位置検出回路の具体的な構成を示す
回路ブロック図、第19図は第18図の各部における信
号波形を示す図、第20図は差分検出回路の具体的な構
成を示す回路図、第21図は入力ペンの他の実施例を示
す断面図、第22図は本発明の他の実施例を示す説明図
である。 10・・・位置検出部、20・・・入力ペン、30・・
・駆動電流源、40・・・信号選択回路、50・・・位
置検出回路、11・・・磁性体、12a〜12h・・・
励磁線、13・・・検出線、81・・・X方向位置検出
部、82・・・Y方向位置検出部。 特許出願人 株式会社 ワコム 代理人弁理士 古 1)精 孝 第2図 第3図 2方向の高ざ h l!lIL!i 樅喝−日 第9図 第10図 第11図 第12図 第16図 第18図 第20図 第21図
主要な構成を示す説明図、第2図は磁気バイアス対透磁
率の特性図、第3図は位置指定用磁気発生器より磁性体
に印加される磁束のようすを示す図、第4図は検出線に
発生するX導電圧の一例を示すグラフ、第5図は差分電
圧値の一例を示すグラフ、第6図は差分電圧値の一例を
示すグラフ、第7図は差分電圧値と位置指定用磁気発生
器のZ方向の高さとの関係の一例を示すグラフ、第8図
は位置検出部10の具体的な構成を示す分解斜視図、第
9図は磁性体板の製造のようすを示す図、第10図は導
体板の斜視図、第11図は励磁線の周囲の磁束のようす
を示す図、第12図は磁性体板の他の例を示す要部斜視
図、第13図は入力ペンの具体的な構成を示す断面図、
第14図はその電気回路図、第15図は駆動電流源の具
体的な構成を示す回路図、第16図は信号選択回路の具
体的な回路図、第17図は信号選択回路の他の具体的な
回路図、第18図は位置検出回路の具体的な構成を示す
回路ブロック図、第19図は第18図の各部における信
号波形を示す図、第20図は差分検出回路の具体的な構
成を示す回路図、第21図は入力ペンの他の実施例を示
す断面図、第22図は本発明の他の実施例を示す説明図
である。 10・・・位置検出部、20・・・入力ペン、30・・
・駆動電流源、40・・・信号選択回路、50・・・位
置検出回路、11・・・磁性体、12a〜12h・・・
励磁線、13・・・検出線、81・・・X方向位置検出
部、82・・・Y方向位置検出部。 特許出願人 株式会社 ワコム 代理人弁理士 古 1)精 孝 第2図 第3図 2方向の高ざ h l!lIL!i 樅喝−日 第9図 第10図 第11図 第12図 第16図 第18図 第20図 第21図
Claims (2)
- (1)互いにほぼ平行に配列された複数の長尺の磁性体
と、該複数の磁性体の周囲にその長手方向と直交する方
向に所定間隔隔てて配設された複数の励磁線と、前記複
数の磁性体及び該複数の励磁線の周囲のほぼ全域に亘つ
て複数回巻回された検出線とを備えた位置検出部と、定
常的な磁界を発生する位置指定用磁気発生器と、所定周
期の交番電流を発生する駆動電流源と、前記励磁線のそ
れぞれに前記所定周期の交番電流を次々に切替えて加え
る信号選択回路と、前記検出線に誘起する誘導電圧を次
々に取出し、これらの差分を取り、該差分電圧が所定の
基準電圧と等しくなる位置を算出し、これより前記位置
指定用磁気発生器による位置検出部上の指定位置を求め
るとともに、前記差分電圧の傾きを算出し、これより前
記位置指定用磁気発生器の前記位置検出部に対する高さ
を求める位置検出回路とからなる位置検出装置。 - (2)互いにほぼ平行に配列された複数の長尺のX方向
の磁性体と、該複数のX方向の磁性体の周囲にその長手
方向と直交する方向に所定間隔隔てて配設された複数の
X方向の励磁線と、前記複数のX方向の磁性体及び該複
数のX方向の励磁線の周囲のほぼ全域に亘つて複数回巻
回されたX方向の検出線とを備えたX方向位置検出部と
、該X方向位置検出部と同様の構成を有し且つこれと重
ね合わされたY方向位置検出部と、定常的な磁界を発生
する位置指定用磁気発生器と、所定周期の交番電流を発
生する駆動電流源と、前記X方向及びY方向の励磁線の
それぞれに前記所定周期の交番電流を次々に切替えて加
えるX方向及びY方向の信号選択回路と、前記X方向及
びY方向の検出線に誘起する誘導電圧を次々に取出し、
これらの差分を取り、該差分電圧が所定の基準電圧と等
しくなる位置を算出し、これより前記位置指定用磁気発
生器によるX方向及びY方向の位置検出部上の指定位置
を求めるとともに、前記差分電圧の傾きを算出し、これ
より前記位置指定用磁気発生器の前記X方向又はY方向
の位置検出部に対する高さを求める位置検出回路とから
なる位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60061450A JPS61220018A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60061450A JPS61220018A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 位置検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61220018A true JPS61220018A (ja) | 1986-09-30 |
Family
ID=13171397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60061450A Pending JPS61220018A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61220018A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63139247A (ja) * | 1986-12-01 | 1988-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイオセンサ |
| JP2014232425A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 株式会社リコー | 入力装置及び電子情報ボードシステム |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP60061450A patent/JPS61220018A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63139247A (ja) * | 1986-12-01 | 1988-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイオセンサ |
| JP2014232425A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 株式会社リコー | 入力装置及び電子情報ボードシステム |
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