JPS61222021A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61222021A JPS61222021A JP6194285A JP6194285A JPS61222021A JP S61222021 A JPS61222021 A JP S61222021A JP 6194285 A JP6194285 A JP 6194285A JP 6194285 A JP6194285 A JP 6194285A JP S61222021 A JPS61222021 A JP S61222021A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic
- layer
- thin
- magnetic recording
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- Granted
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気的記憶装置に用いられる磁気記録媒体に
関する。
関する。
近年、磁気記録媒体の高記録密度化の要請によυ、金属
磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜形の磁気記録媒体が注
目を集めている。このような金属−・・パ−１４−醋−
１＋ｒｌ＋１− 町、Ｚ、・７ Ｊ １１ ・ノブ体温
により形成したＣｏまたはＣｏ−Ｎｉ 、Ｃｏ−Ｎ１−
Ｐ、Ｃｏ−Ｐなどの合金系の金属薄膜が知られているが
、その磁気特性を改善するために、非磁性支持体と上記
磁性層との間に下地層としてＣｒ膜を介在させることが
知られている（アイ・イー・イー・イー・トランザクシ
ョンズ・オン・マグネティックス、ＭＡＧ、 １５巻３
号１１３５頁（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏ
ｎ Ｍａｇｎｅｔｔｃｓ 、 Ｖ（）１９ＭＡＧ、 １
５．Ｎ１３ 、ｐ、 １１３５ 。
磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜形の磁気記録媒体が注
目を集めている。このような金属−・・パ−１４−醋−
１＋ｒｌ＋１− 町、Ｚ、・７ Ｊ １１ ・ノブ体温
により形成したＣｏまたはＣｏ−Ｎｉ 、Ｃｏ−Ｎ１−
Ｐ、Ｃｏ−Ｐなどの合金系の金属薄膜が知られているが
、その磁気特性を改善するために、非磁性支持体と上記
磁性層との間に下地層としてＣｒ膜を介在させることが
知られている（アイ・イー・イー・イー・トランザクシ
ョンズ・オン・マグネティックス、ＭＡＧ、 １５巻３
号１１３５頁（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏ
ｎ Ｍａｇｎｅｔｔｃｓ 、 Ｖ（）１９ＭＡＧ、 １
５．Ｎ１３ 、ｐ、 １１３５ 。
１９７９ ） ）。
しかし、このようなＣｒ膜を用いて高密度磁気配置に適
した十分に高い保磁力を得ようとすると、下地層として
のＣｒ膜を厚くしなければならない。
した十分に高い保磁力を得ようとすると、下地層として
のＣｒ膜を厚くしなければならない。
ところが、支持体表面が十分に平滑に研摩されているこ
ともあって、Ｃｒ膜の膜厚が例えば５０００λ以上と大
きくなると、膜応力の増大に付着力が抗し切れず、微小
な膜割れを生ずる場合がおる。特に、安価なガラス基板
を支持体とし、表面を研摩して用いた場合には、このよ
うな膜割れが発生しやすいが、このような下地層の膜割
れは、例えば磁気ヘッドとの間隔が２００〜３００ｎｍ
という小さな値を保ちながら回転する磁気ディスクにと
って致命的な欠陥となる。
ともあって、Ｃｒ膜の膜厚が例えば５０００λ以上と大
きくなると、膜応力の増大に付着力が抗し切れず、微小
な膜割れを生ずる場合がおる。特に、安価なガラス基板
を支持体とし、表面を研摩して用いた場合には、このよ
うな膜割れが発生しやすいが、このような下地層の膜割
れは、例えば磁気ヘッドとの間隔が２００〜３００ｎｍ
という小さな値を保ちながら回転する磁気ディスクにと
って致命的な欠陥となる。
このような問題点を解決するために、本発明は、非磁性
下地層としてＣｒ膜の他に、当該Ｃｒ膜と非磁性支持体
との間に、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｌ）、フッ化マグ
ネシウム（ＭｇＦ＊）、酸化インジウム（ＩｎｌＯ，）
、酸化スズ（ＳｎＯｌ）の少なくとも１ｓ類を主成分と
する膜を介在させたものである。
下地層としてＣｒ膜の他に、当該Ｃｒ膜と非磁性支持体
との間に、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｌ）、フッ化マグ
ネシウム（ＭｇＦ＊）、酸化インジウム（ＩｎｌＯ，）
、酸化スズ（ＳｎＯｌ）の少なくとも１ｓ類を主成分と
する膜を介在させたものである。
このような膜を介在させることにより、比較的薄いＣｒ
膜で、しかも従来Ｃｒ膜単独の下地層を用いた場合には
得られなかったよう表すぐれた磁気特性を示す理由は必
ずしも明らかではないが、上述した膜はいずれも結晶性
の膜でアシ、この存在によってその上に形成されるＣｒ
膜や磁性膜の結晶性が改善されることによると考えられ
る。
膜で、しかも従来Ｃｒ膜単独の下地層を用いた場合には
得られなかったよう表すぐれた磁気特性を示す理由は必
ずしも明らかではないが、上述した膜はいずれも結晶性
の膜でアシ、この存在によってその上に形成されるＣｒ
膜や磁性膜の結晶性が改善されることによると考えられ
る。
（その１）
図示のように、非磁性支持体としてのソーダライムガラ
ス基板１の上に、第１の非磁性下地層として１０００
ＸのＺ ｒ Ｑ、層２を、電子ビームを用い九真空蒸着
法によって形成し、さらに第２の下地層としてマグネト
ロンスパッタリング法によって１５００ＸのＣｒ膜３を
形成した。次に、このＣｒ膜３の上に、金属薄膜磁性層
として、同じスパッタリング装置を用いて１５ｗＬ％の
Ｎｌを含むＣ。
ス基板１の上に、第１の非磁性下地層として１０００
ＸのＺ ｒ Ｑ、層２を、電子ビームを用い九真空蒸着
法によって形成し、さらに第２の下地層としてマグネト
ロンスパッタリング法によって１５００ＸのＣｒ膜３を
形成した。次に、このＣｒ膜３の上に、金属薄膜磁性層
として、同じスパッタリング装置を用いて１５ｗＬ％の
Ｎｌを含むＣ。
−Ｎｉ膜４を４０ＯＡの厚さに成膜した。さらにその上
に、保護膜としてスパッタリング法により５００Ｘの炭
素薄膜５を形成した。
に、保護膜としてスパッタリング法により５００Ｘの炭
素薄膜５を形成した。
（その２）
第１の実施例において、ＺｒＯ，膜の代υに１００１０
００ｊｌ）、膜を同様の方法によって形成した。
００ｊｌ）、膜を同様の方法によって形成した。
（その３）
第１の実施例において、Ｚｒ０１膜の代りに１１０ＯＡ
のＩ ｎ＊ ＯＢ膜を同様に形成した。
のＩ ｎ＊ ＯＢ膜を同様に形成した。
（その４）
第１の実施例において、ｚｒＯ□膜の代りに１５００＾
のＳｎＯ，膜を同様に形成した。
のＳｎＯ，膜を同様に形成した。
（その５）
第１の実施例におい電、ＺｒＯ，膜の代りに１６００＾
のＩＴＯ膜、ＳｎＯ，を含むＩ ｌ’ｌ！Ｏ，膜をスパ
ッタリング法により形成した。
のＩＴＯ膜、ＳｎＯ，を含むＩ ｌ’ｌ！Ｏ，膜をスパ
ッタリング法により形成した。
以上の各実施例の磁気記録媒体について、保磁力Ｈｅ、
残留磁束密度Ｂｒおよび角形比（残留磁束密度Ｂｒ／飽
和磁束密度Ｂ畠）を測定した結果を下の表に示す。
残留磁束密度Ｂｒおよび角形比（残留磁束密度Ｂｒ／飽
和磁束密度Ｂ畠）を測定した結果を下の表に示す。
ここで、従来例とは第１の下地層のみを省略し、他は各
実施例と全く同様に形成したものであるが、この表から
明らかなように、各実施例はいずれも従来ｆ１１に圧絞
して磁’ｉｌ己！露体、Ｌｌ−て缶りめてすぐれた特性
を示している。すなわち、角形比Ｂｒ／ｉ１ｓ ｒｉ大
きいほど出力電圧が高くまた記録や消去も容易になる。
実施例と全く同様に形成したものであるが、この表から
明らかなように、各実施例はいずれも従来ｆ１１に圧絞
して磁’ｉｌ己！露体、Ｌｌ−て缶りめてすぐれた特性
を示している。すなわち、角形比Ｂｒ／ｉ１ｓ ｒｉ大
きいほど出力電圧が高くまた記録や消去も容易になる。
さらに保磁力Ｈｅは、過大であると記録や消去が困難と
なるため大きければ大きいほど良いというもＯではない
が、小さいと自己減磁が大きく、また外部磁界によって
記録が消滅する傾向にあシ、従来は上述したように過小
であった。
なるため大きければ大きいほど良いというもＯではない
が、小さいと自己減磁が大きく、また外部磁界によって
記録が消滅する傾向にあシ、従来は上述したように過小
であった。
上述した各実施例において、ガラス基板１は、周知のガ
ラス研摩法によって平均表面粗さが３０〜２００大とな
るように仕上げたソーダライムガラス基板を用いた。こ
れは、従来一般に用いられている機械加工仕上げのＡｔ
”ｆｉたはＡｔ合金基板に比較して素材そのものが安価
であるとともに、磁性層の腐食を防止するためにＮ１−
Ｐメッキ層や陽極酸化Ａ’！Ｏ８層を形成するという工
程（その後で研摩法によシ平均表面粗さ２００ Ｘ程度
に鏡面仕上げされる）を除くことができ、コスト低減に
大きく寄与する利点を有するが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、ソーダライムガラスの他、アルミノ
シリケートガラスなど各種の多成分系ガラスあるいは石
英ガラス等を用いてもよい。もちろん、従来より使用さ
れている上記Ａｌｔ７’（はｋＡ合金基板、あるいはポ
リエチレンテレフ・タレート基板、シリコン基板等の各
種非磁性支持体を用いることもできる。
ラス研摩法によって平均表面粗さが３０〜２００大とな
るように仕上げたソーダライムガラス基板を用いた。こ
れは、従来一般に用いられている機械加工仕上げのＡｔ
”ｆｉたはＡｔ合金基板に比較して素材そのものが安価
であるとともに、磁性層の腐食を防止するためにＮ１−
Ｐメッキ層や陽極酸化Ａ’！Ｏ８層を形成するという工
程（その後で研摩法によシ平均表面粗さ２００ Ｘ程度
に鏡面仕上げされる）を除くことができ、コスト低減に
大きく寄与する利点を有するが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、ソーダライムガラスの他、アルミノ
シリケートガラスなど各種の多成分系ガラスあるいは石
英ガラス等を用いてもよい。もちろん、従来より使用さ
れている上記Ａｌｔ７’（はｋＡ合金基板、あるいはポ
リエチレンテレフ・タレート基板、シリコン基板等の各
種非磁性支持体を用いることもできる。
また、第１の非磁性下地層としてのＺｒ０ｙ等の膜厚は
、高保磁力を得るためには３００に以上であることが望
ましい。上限は特に限定されないが、５０００Ａ以上で
は保磁力の増加が飽和するため、実用上は５０００Ｘ以
下とすることが望ましい。また成膜法は蒸着法に限定さ
れるものではなく、例えばイオンブレーティング法やス
パッタリング法等を利用してもよい。同様にＣｒ膜の形
成方法もスパッタリング法に限定されるものではない。
、高保磁力を得るためには３００に以上であることが望
ましい。上限は特に限定されないが、５０００Ａ以上で
は保磁力の増加が飽和するため、実用上は５０００Ｘ以
下とすることが望ましい。また成膜法は蒸着法に限定さ
れるものではなく、例えばイオンブレーティング法やス
パッタリング法等を利用してもよい。同様にＣｒ膜の形
成方法もスパッタリング法に限定されるものではない。
また、磁性層も上述した実施例に限定されるものではな
く、特にＣｏ−Ｎｉ合金の成分比を変えたものやｃｏ単
体、Ｃｏ−Ｎ１Ｋ Ｆ＊（”Ｐｔなどを混合した合金、
Ｃｏ −Ｐ ｔなど他のＣｏ系合金についても同様に良
好な結果が得られる。
く、特にＣｏ−Ｎｉ合金の成分比を変えたものやｃｏ単
体、Ｃｏ−Ｎ１Ｋ Ｆ＊（”Ｐｔなどを混合した合金、
Ｃｏ −Ｐ ｔなど他のＣｏ系合金についても同様に良
好な結果が得られる。
さらに保護層としては、炭素薄膜の他にもＣｒ／Ｃ複合
層、Ｓｉｎ、層、Ｃｒ ／ Ｓ ｉ Ｏ＠複合層、Ｃ〆
Ｃ／ｓ ｔ ｏ、複合層、Ｃｒ ／Ｓ ＞ ０！／ Ｃ
複合層、５ｔＯ１／Ｃ複合層等も有効であった。
層、Ｓｉｎ、層、Ｃｒ ／ Ｓ ｉ Ｏ＠複合層、Ｃ〆
Ｃ／ｓ ｔ ｏ、複合層、Ｃｒ ／Ｓ ＞ ０！／ Ｃ
複合層、５ｔＯ１／Ｃ複合層等も有効であった。
以上説明したように、本発明によれば、非磁性支持体と
、この支持体と磁性層との間に下地層として形成するク
ロム膜との間に、酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウ
ム、酸化インジウムおよび酸化スズの少なくとも１種類
を主成分とする膜を介在させたことにより、Ｃｒ膜を膜
割れ等の生じない薄さに抑え、なおかつ従来Ｃｒ膜のみ
を用いた場合には得られなかったすぐれた磁気特性を得
ることができる。
、この支持体と磁性層との間に下地層として形成するク
ロム膜との間に、酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウ
ム、酸化インジウムおよび酸化スズの少なくとも１種類
を主成分とする膜を介在させたことにより、Ｃｒ膜を膜
割れ等の生じない薄さに抑え、なおかつ従来Ｃｒ膜のみ
を用いた場合には得られなかったすぐれた磁気特性を得
ることができる。
図は本発明の一実施例を示す断面図である。
１・・・優ソーダライムガラス基板（非磁性支持体）、
２・拳・・Ｚ ｒ Ｏ＠膜、３・・・・Ｃｒ膜、４・・
・・Ｃｏ−Ｎ１膜（磁性層）、５・拳拳−炭素薄膜（保
護膜）。
２・拳・・Ｚ ｒ Ｏ＠膜、３・・・・Ｃｒ膜、４・・
・・Ｃｏ−Ｎ１膜（磁性層）、５・拳拳−炭素薄膜（保
護膜）。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に、下地層、磁性層、保護層を順次積層
してなる磁気記録媒体において、下地層は、支持体と接
する側が酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウム、酸化
インジウムおよび酸化スズの少なくとも１種類を主成分
とする膜からなりかつ磁性層と接する側がクロム膜から
なることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6194285A JPS61222021A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6194285A JPS61222021A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61222021A true JPS61222021A (ja) | 1986-10-02 |
| JPH0323967B2 JPH0323967B2 (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=13185744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6194285A Granted JPS61222021A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61222021A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62293511A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-21 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63112819A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63175220A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-19 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH03189922A (ja) * | 1989-10-05 | 1991-08-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US5413873A (en) * | 1991-04-26 | 1995-05-09 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Magnetic recording medium having a glass or amorphous carbon substrate, vanadium or molybdenum precoat layer, chromium primer layer and cobalt magnetic layer |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5634141A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-06 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6194285A patent/JPS61222021A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5634141A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-06 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62293511A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-21 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63112819A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63175220A (ja) * | 1987-01-16 | 1988-07-19 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH03189922A (ja) * | 1989-10-05 | 1991-08-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US5413873A (en) * | 1991-04-26 | 1995-05-09 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Magnetic recording medium having a glass or amorphous carbon substrate, vanadium or molybdenum precoat layer, chromium primer layer and cobalt magnetic layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0323967B2 (ja) | 1991-04-02 |
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