JPS61222045A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61222045A JPS61222045A JP6180185A JP6180185A JPS61222045A JP S61222045 A JPS61222045 A JP S61222045A JP 6180185 A JP6180185 A JP 6180185A JP 6180185 A JP6180185 A JP 6180185A JP S61222045 A JPS61222045 A JP S61222045A
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- Japan
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- film
- magneto
- recording medium
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
艮亙分立
本発明は、記録層として垂直磁化膜を有する光磁気記録
媒体に関する。
媒体に関する。
丈米ム流嵐
近年、光の熱効果を利用して磁性薄膜に磁区を書込んで
情報を記録し、磁気光学効果を利用して情報を読み出す
ようにした光磁気記録媒体が注目されている。
情報を記録し、磁気光学効果を利用して情報を読み出す
ようにした光磁気記録媒体が注目されている。
従来、光磁気記録媒体に用いられる磁性体としては希土
類金属と遷移金属との非晶質合金からなるものが知られ
ている。このような非晶質合金磁性体を用いた光磁気記
録媒体は、一般にガラス板のような基板上に磁性体、例
えばTb−Fe合金を真空蒸着、スパッタリング等の方
法で厚さ0.1〜1μm程度に付着させて磁性体を形成
することにより作製されている。しかしながら、非晶質
合金磁性体、特に希土類金属成分は酸化腐食を受は易い
ので、経時と共に磁性膜の磁気光学特性が劣化するとい
う大きな欠点があり、記録時の光および熱によりさらに
この酸化腐食が促進されてしまう。また、非結晶質磁性
体は熱によって結晶化され易く、そのために磁気特性の
劣化を来たし易いという欠点も有する。 さらに、非晶
質金貨磁性体からなる磁性膜はレーザーの発信波長領域
での透過率が低いため、磁性膜表面での反射による磁気
光学効果、即ちカー効果により記録情報を読み出してい
るが、カー回転角は一般に小さいため再生感度が低いと
いう問題もあった。
類金属と遷移金属との非晶質合金からなるものが知られ
ている。このような非晶質合金磁性体を用いた光磁気記
録媒体は、一般にガラス板のような基板上に磁性体、例
えばTb−Fe合金を真空蒸着、スパッタリング等の方
法で厚さ0.1〜1μm程度に付着させて磁性体を形成
することにより作製されている。しかしながら、非晶質
合金磁性体、特に希土類金属成分は酸化腐食を受は易い
ので、経時と共に磁性膜の磁気光学特性が劣化するとい
う大きな欠点があり、記録時の光および熱によりさらに
この酸化腐食が促進されてしまう。また、非結晶質磁性
体は熱によって結晶化され易く、そのために磁気特性の
劣化を来たし易いという欠点も有する。 さらに、非晶
質金貨磁性体からなる磁性膜はレーザーの発信波長領域
での透過率が低いため、磁性膜表面での反射による磁気
光学効果、即ちカー効果により記録情報を読み出してい
るが、カー回転角は一般に小さいため再生感度が低いと
いう問題もあった。
本発明者は、先にヘキサゴナルマグネトプラムバイト磁
性体が金属酸化物で経時安定性に優れ、レーザー光波長
領域で透光性を有することからファラデー効果を利用し
うろことに着目し、以下の一般式(A)または(B)で
示される磁性体からなる磁性層を設け、さらにその上に
透明誘電体層および反射層を順次設けたものを提案した
(特開昭59−45644号公報)。
性体が金属酸化物で経時安定性に優れ、レーザー光波長
領域で透光性を有することからファラデー効果を利用し
うろことに着目し、以下の一般式(A)または(B)で
示される磁性体からなる磁性層を設け、さらにその上に
透明誘電体層および反射層を順次設けたものを提案した
(特開昭59−45644号公報)。
M e MxMy F e 1*−p○、、
(A)(式中、MeはBa、Pb、SrおよびSc
からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素であり、
そしてMはCo、Mn、Ti、Zn*All、Sn、C
u、CrおよびMgからなる群から選ばれた少なくとも
1種の元素であり、但し、p=x+y (y=oであっ
てもよい)、1.2≦p≦2) 00M2Fe2−204 (B)(
式中、Mは上述したとおりであり、但し0.75≦2≦
1.3) この公報には、バリウムフェライトのF e3 +原子
の一部をCOおよびTiで置換したB a COXT
I X F e iz−*xOts磁性体が示されてお
り、Coで置換することによりファラデー回転角(θF
)が増大し、Tiで置換することによりキューリ一温度
(Tc)を低下させうろことが示されている。しかしな
がら、この磁性体は、光磁気記録媒体用の磁性体として
、必ずしも満足のいくものでなかった。
(A)(式中、MeはBa、Pb、SrおよびSc
からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素であり、
そしてMはCo、Mn、Ti、Zn*All、Sn、C
u、CrおよびMgからなる群から選ばれた少なくとも
1種の元素であり、但し、p=x+y (y=oであっ
てもよい)、1.2≦p≦2) 00M2Fe2−204 (B)(
式中、Mは上述したとおりであり、但し0.75≦2≦
1.3) この公報には、バリウムフェライトのF e3 +原子
の一部をCOおよびTiで置換したB a COXT
I X F e iz−*xOts磁性体が示されてお
り、Coで置換することによりファラデー回転角(θF
)が増大し、Tiで置換することによりキューリ一温度
(Tc)を低下させうろことが示されている。しかしな
がら、この磁性体は、光磁気記録媒体用の磁性体として
、必ずしも満足のいくものでなかった。
光磁気記録媒体の磁性膜としては、■再生出力を大きく
するためにθ、を大きくすること、■記録感度を高める
ためにTcを下げること。
するためにθ、を大きくすること、■記録感度を高める
ためにTcを下げること。
■高密度記録するために垂直磁気異方性(Ku)が大き
いこと、■記録された磁化が安定であるために保磁力(
He)が大きいこと、などが要求される。上記の特開昭
59−45644号公報に示された磁性体は、保磁力が
小さく、光磁気記録媒体が必要な基本特性であるメモリ
ー安定性の点で不充分であった。
いこと、■記録された磁化が安定であるために保磁力(
He)が大きいこと、などが要求される。上記の特開昭
59−45644号公報に示された磁性体は、保磁力が
小さく、光磁気記録媒体が必要な基本特性であるメモリ
ー安定性の点で不充分であった。
見尻夏且孜
本発明は、記録感度および再生感度が大きく、しかもメ
モリー安定性に優れた光磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
モリー安定性に優れた光磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
見匪至盪處
本発明の光磁気記録媒体は、以下の一般式(I)または
(II)で表わされるヘキサゴナルマグネトプラムバイ
トからなる垂直磁化膜を有することを特徴とする。
(II)で表わされるヘキサゴナルマグネトプラムバイ
トからなる垂直磁化膜を有することを特徴とする。
M 80 ’ n [CoxMayFet (”−x
+ !y) OJ (I )(式中、MeHMa
+ Xm ’/l m+ nはそれぞれ以下の通りであ
る。
+ !y) OJ (I )(式中、MeHMa
+ Xm ’/l m+ nはそれぞれ以下の通りであ
る。
Me:Ba+ Sr、Pbから選ばれる1種または2種
以上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のM。
以上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のM。
から選ばれる1種または2種以上の金属X:O<X≦0
.5 y:O<y≦0.5 但し、O<x+y≦1.0 m:Maが4価のRh、W、Ceのときは4、Maが6
価のMoのときは6 n:5≦n≦6) M e O” n (COxMayMbzFea−(
迅 + ”!y +z)Oa) (、II)(
式中、Ma、Ma、Mb、x、y、z、m、nはそれぞ
れ以下の通りである。
.5 y:O<y≦0.5 但し、O<x+y≦1.0 m:Maが4価のRh、W、Ceのときは4、Maが6
価のMoのときは6 n:5≦n≦6) M e O” n (COxMayMbzFea−(
迅 + ”!y +z)Oa) (、II)(
式中、Ma、Ma、Mb、x、y、z、m、nはそれぞ
れ以下の通りである。
Me:Ba、Sr、Pbから選ばれる1種または2種以
上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のM。
上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のM。
から選ばれる1種または2種以上の金属Mb :Ga、
An、Cr、Rhから選ばれる1種または2種以上の3
価の金属 X:O<X≦0.5 y:o<y≦0.5 2:0<2≦0.5 但し、0<x+y+z≦1.0 m:Maが4価のRh 、 W、 Ceのときは4゜M
aが6価のMoのときは6 n:5≦n≦6) 以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
An、Cr、Rhから選ばれる1種または2種以上の3
価の金属 X:O<X≦0.5 y:o<y≦0.5 2:0<2≦0.5 但し、0<x+y+z≦1.0 m:Maが4価のRh 、 W、 Ceのときは4゜M
aが6価のMoのときは6 n:5≦n≦6) 以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
一般式(C)
M e O−n (F e、o、)
(C)(式中、Meおよびnは前記の通り) で表わされるヘキサゴナルマグネットプランバイトのF
e3+金属原子の1部をGo”+金属原子で置換すると
θFが増大する。3価の原子を2価の原子で置換したの
でイオン価数が不足するので等価とするために4価以上
の一部を置換する必要がある。しかしながら、Ti4+
金属原子で置換すると、Tcは下がるものの、Hcおよ
びKuが著しく低下してしまう。このことはSn”、G
e’+等についても言える。
(C)(式中、Meおよびnは前記の通り) で表わされるヘキサゴナルマグネットプランバイトのF
e3+金属原子の1部をGo”+金属原子で置換すると
θFが増大する。3価の原子を2価の原子で置換したの
でイオン価数が不足するので等価とするために4価以上
の一部を置換する必要がある。しかしながら、Ti4+
金属原子で置換すると、Tcは下がるものの、Hcおよ
びKuが著しく低下してしまう。このことはSn”、G
e’+等についても言える。
第1図は、バリウムフェライトのF O3+原子の一部
をそれぞれの金属原子で置換し、磁性体B a MxF
ec1* −!”x)Otsについての、置換数又と
保磁力Haとの関係を示すグラフである。ここで1Mは
グラフ中に示したRh’+等の金属であり、mはその価
数である。
をそれぞれの金属原子で置換し、磁性体B a MxF
ec1* −!”x)Otsについての、置換数又と
保磁力Haとの関係を示すグラフである。ここで1Mは
グラフ中に示したRh’+等の金属であり、mはその価
数である。
また、第2図は、置換数Xとキューリ一温度Tcとの同
様の関係を示す同様のグラフである。
様の関係を示す同様のグラフである。
これらは、後記の実施例と同様にして各組成の磁性体の
ターゲットを作成し、スパッタリングにより基板上に3
000人の磁性体層を形成して測定したものである。
ターゲットを作成し、スパッタリングにより基板上に3
000人の磁性体層を形成して測定したものである。
第1図および第2図から判るように、T i”。
S n”、 I n”、 S c3+はキュリ一温度を
低げるものの、著しく保磁力を低下させてしまう。
低げるものの、著しく保磁力を低下させてしまう。
これに対し、Rh”y Ce”I W”g M o@+
でFe’+を置換した磁性体は、キュリ一温度を低下さ
せるばかりか保磁力を高くすることもできる。本発明の
磁性体では、Me○・(F e O3)のFe’+金属
原子の一部が、Co”(2価のコバルト)と、Rh”(
4価のロジウム)、Ce”(4価のセシウム)、W4+
(4価のタングステン) 、Mo” (6価のモリブデ
ン)の少なくとも1種とを組合せて置き換えられている
ので、キューリ一温度の低下と大きな保磁力の双方が実
現できる。また、Cr”、 A I ”。
でFe’+を置換した磁性体は、キュリ一温度を低下さ
せるばかりか保磁力を高くすることもできる。本発明の
磁性体では、Me○・(F e O3)のFe’+金属
原子の一部が、Co”(2価のコバルト)と、Rh”(
4価のロジウム)、Ce”(4価のセシウム)、W4+
(4価のタングステン) 、Mo” (6価のモリブデ
ン)の少なくとも1種とを組合せて置き換えられている
ので、キューリ一温度の低下と大きな保磁力の双方が実
現できる。また、Cr”、 A I ”。
G a”、 Rh”″はキュリ一温度の低下と保磁力の
向上の双方の効果、とりわけ保磁力を大きくすることが
できるので、Fe’+の一部をCr”(3価のクロム)
、Al” (3価のアルミニウム)、Ga” (3価
のガリウム)、Rh” (3価のロジウム)の少なくと
も1種で置換することにより、いっそう大きなメモリー
安定性が得られる。
向上の双方の効果、とりわけ保磁力を大きくすることが
できるので、Fe’+の一部をCr”(3価のクロム)
、Al” (3価のアルミニウム)、Ga” (3価
のガリウム)、Rh” (3価のロジウム)の少なくと
も1種で置換することにより、いっそう大きなメモリー
安定性が得られる。
前記一般式(I)および(II)でXおよびyの値が0
.5を越えると保磁力および飽和磁化(Ms)が減少し
、メモリ安定性および男性特性が低下する。Xおよびy
のより好ましい範囲はO< x≦0.3. O<y≦0
.3である。また、一般式(II)で2の値が0.5を
越えると飽和磁化が減少し、再生性能が低下する。2の
より好ましい範囲はO< zs0.3である。また、一
般式(I)でx+yの値が、あるいは一般式(n)でx
+y+2の値が1.0を越えるとMsが減少し再生性能
が低下する。これらのより好ましい範囲は。
.5を越えると保磁力および飽和磁化(Ms)が減少し
、メモリ安定性および男性特性が低下する。Xおよびy
のより好ましい範囲はO< x≦0.3. O<y≦0
.3である。また、一般式(II)で2の値が0.5を
越えると飽和磁化が減少し、再生性能が低下する。2の
より好ましい範囲はO< zs0.3である。また、一
般式(I)でx+yの値が、あるいは一般式(n)でx
+y+2の値が1.0を越えるとMsが減少し再生性能
が低下する。これらのより好ましい範囲は。
0 < x + y≦0.7.O<x+y+z≦0.7
である。
である。
本発明の一般式(I)または(If)で表わされるヘキ
サゴナルマグネトプラムバイトは、磁気光学性能θ1が
大きく、キューリ一温度が低く。
サゴナルマグネトプラムバイトは、磁気光学性能θ1が
大きく、キューリ一温度が低く。
かつ、保磁力Haが大きいという特性を有し、この結果
、この磁性体からなる垂直磁化膜を用いた光磁気記録媒
体は、大きな再生出力、高い記録感度、優れたメモリー
安定性を有する。
、この磁性体からなる垂直磁化膜を用いた光磁気記録媒
体は、大きな再生出力、高い記録感度、優れたメモリー
安定性を有する。
本発明の磁性体の具体例を挙げれば次の第1表通りであ
る。
る。
(以下余白)
匿−よ−表
I Ba0・6.0(Go、、、Rh”。2F
e 1..03〕2 Sro ・6.0 [Go
。、4Rh”、4Fe□、、03)3 Pb0・
5.5[Go、、2Ce、、2Fe、、、03)4
B a o ・s、o (COll、24WOj4
Fe Lszoa)5 BaO”6.0(Co
o、、Rh”o、1AIIL、FeL、03)6
Ba0・6.0(Go、、、Rh 、9.” G
a、0.Fe、、、O,)7 Ba0・6.0[
GoolRh”、、Cr、、、FeL70.〕8
B a 0 ・6.0 (Coo、s4Mo”o、z
s F eLzsoa)9 Ba0・6.0(C
o、、、Mo0.、Rh”Il、1FeL、0a)10
’Ba0・6.0(CorLlCeIL、Gac
、、、Fe1.、O,)11 Ba0・6.0(
Go、、、W、、1Cr、、FeL、O,)12
SrO”6.0[CoazWo、1Rh”a、zFe
t、603]13 PbO・6.0[Go、、a
Moo、1GalL1Fe1..03)14 S
r0・6.0(Co、、、Rh 4+。、2Cr、、F
el、、03)本発明の金属酸化物磁性体を作るには、
たとえば、それぞれ所定量のBaC0,,5rCO,。
e 1..03〕2 Sro ・6.0 [Go
。、4Rh”、4Fe□、、03)3 Pb0・
5.5[Go、、2Ce、、2Fe、、、03)4
B a o ・s、o (COll、24WOj4
Fe Lszoa)5 BaO”6.0(Co
o、、Rh”o、1AIIL、FeL、03)6
Ba0・6.0(Go、、、Rh 、9.” G
a、0.Fe、、、O,)7 Ba0・6.0[
GoolRh”、、Cr、、、FeL70.〕8
B a 0 ・6.0 (Coo、s4Mo”o、z
s F eLzsoa)9 Ba0・6.0(C
o、、、Mo0.、Rh”Il、1FeL、0a)10
’Ba0・6.0(CorLlCeIL、Gac
、、、Fe1.、O,)11 Ba0・6.0(
Go、、、W、、1Cr、、FeL、O,)12
SrO”6.0[CoazWo、1Rh”a、zFe
t、603]13 PbO・6.0[Go、、a
Moo、1GalL1Fe1..03)14 S
r0・6.0(Co、、、Rh 4+。、2Cr、、F
el、、03)本発明の金属酸化物磁性体を作るには、
たとえば、それぞれ所定量のBaC0,,5rCO,。
CaC0,、PbC0,またはpboとF e 20a
tCooおよび前記MaあるいはさらにMbの酸化物
とを混合粉砕し、これを適当な形状の金型に入れて成形
後、 1200〜1400℃の温度で焼結すればよい。
tCooおよび前記MaあるいはさらにMbの酸化物
とを混合粉砕し、これを適当な形状の金型に入れて成形
後、 1200〜1400℃の温度で焼結すればよい。
この磁性体を用いて垂直磁化膜を作るには、基板の種類
にもよるが、一般に基板上にこの磁性体を、基板温度4
00〜700℃で真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング等の方法で膜厚0.1〜10μm程度に付
着させればよい。こうして得られた磁性膜は垂直配向さ
れている。また、500℃未満の基板温度で磁性膜を形
成することもできるが、この場合に垂直配向させるため
には磁性膜形成後、500〜800℃の熱処理を、必要
により磁界を印加しながら行う。このように、本発明の
垂直磁化膜は、樹脂バインダを含む磁性層とは異なり、
磁性体のみが連続して薄層を形成するものである。この
垂直磁化膜は、ディスク面と垂直方向に強い結晶磁気異
方性を有した0、1μ■以下程度の微小多結晶から形成
されており、レーザー光に対する透光性が大きい。
にもよるが、一般に基板上にこの磁性体を、基板温度4
00〜700℃で真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング等の方法で膜厚0.1〜10μm程度に付
着させればよい。こうして得られた磁性膜は垂直配向さ
れている。また、500℃未満の基板温度で磁性膜を形
成することもできるが、この場合に垂直配向させるため
には磁性膜形成後、500〜800℃の熱処理を、必要
により磁界を印加しながら行う。このように、本発明の
垂直磁化膜は、樹脂バインダを含む磁性層とは異なり、
磁性体のみが連続して薄層を形成するものである。この
垂直磁化膜は、ディスク面と垂直方向に強い結晶磁気異
方性を有した0、1μ■以下程度の微小多結晶から形成
されており、レーザー光に対する透光性が大きい。
次に本発明の光磁気記録媒体の構成例について説明する
。光磁気記録媒体は、最も単純には適当な基板と、この
上に設けられた垂直磁化膜が形成されるが、反射光゛を
利用するための反射膜、レーザー光の案内のためのガイ
ドトラック、垂直磁化膜の配向性を改善するための下地
膜等を適宜設けることが好ましい。好ましい光磁気記録
媒体としては、垂直磁化膜、反射膜、ガイドトラックお
よび下地膜を有するものが挙げられる。
。光磁気記録媒体は、最も単純には適当な基板と、この
上に設けられた垂直磁化膜が形成されるが、反射光゛を
利用するための反射膜、レーザー光の案内のためのガイ
ドトラック、垂直磁化膜の配向性を改善するための下地
膜等を適宜設けることが好ましい。好ましい光磁気記録
媒体としては、垂直磁化膜、反射膜、ガイドトラックお
よび下地膜を有するものが挙げられる。
第3図は、このような光磁気記録媒体の構成例を示す実
施例であり、ガイドトラックが形成された基板11上に
、下地膜13、垂直磁化膜15、反射膜17および保護
膜19が順次積層されている。
施例であり、ガイドトラックが形成された基板11上に
、下地膜13、垂直磁化膜15、反射膜17および保護
膜19が順次積層されている。
情報の書込み、再生は図中に矢印で示したように基板1
1側からレーザービームを照射して行い、反射光を利用
して再生することができる。
1側からレーザービームを照射して行い、反射光を利用
して再生することができる。
支持体11としては、結晶化ガラス、ソーダガラス、バ
イコールガラス、パイレックスガラス、アルミノケイ酸
ガラス、石英ガラス、ガラス材でグレーズしたアルミナ
、酸化ジルコン、サフアイア、ガドリウム、ガリウム、
ガーネット、リチウムタンタレート、酸化マグネシウム
などの単結晶材、などの透明な耐熱性基板が用いられる
。
イコールガラス、パイレックスガラス、アルミノケイ酸
ガラス、石英ガラス、ガラス材でグレーズしたアルミナ
、酸化ジルコン、サフアイア、ガドリウム、ガリウム、
ガーネット、リチウムタンタレート、酸化マグネシウム
などの単結晶材、などの透明な耐熱性基板が用いられる
。
下地膜13は、ヘキサゴナルマグネトプラムバイトから
なる垂直磁化膜を形成する際に、エピタキシャル効果に
より磁性体のC軸が基板面に対して垂直に配向されるよ
うに働くものであり。
なる垂直磁化膜を形成する際に、エピタキシャル効果に
より磁性体のC軸が基板面に対して垂直に配向されるよ
うに働くものであり。
ZnO,Mn−Znフェライト、AIN。
A1201. F e、04. B a F e、04
. MgOなどの結晶膜から形成される。下地膜の膜厚
は500〜5ooo人程度が適当であり、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法、蒸着法、CVD法、光
CVD法などにより形成される。
. MgOなどの結晶膜から形成される。下地膜の膜厚
は500〜5ooo人程度が適当であり、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法、蒸着法、CVD法、光
CVD法などにより形成される。
反射膜17は、Ag、Al、Cn、Au、PtyCr、
Rh、Niなどを真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどにより膜厚200〜3000人程度の
薄膜を形成することにより得られる。
Rh、Niなどを真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどにより膜厚200〜3000人程度の
薄膜を形成することにより得られる。
保護膜19は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などのプラ
スチック、シリコンアルキレート、S i O,などの
無機材料により形成される。
スチック、シリコンアルキレート、S i O,などの
無機材料により形成される。
ガイドトラック付き基板は、たとえば、基板を選択的に
エツチングすることにより作成される。第7図(a)に
示されるように基板ll上にホトレジスト31をスピン
コードにより塗布する。
エツチングすることにより作成される。第7図(a)に
示されるように基板ll上にホトレジスト31をスピン
コードにより塗布する。
ついで、グループ状パターンを有するマスクを33を密
着して、紫外光による全面密着露光を施した(同(b)
)のち、エツチングしてホトレジストパターンを作成す
る(同(C))。ついで、基板をエツチングしてグルー
プ状ガイド溝35を形成しく同(d))、最後にホトレ
ジスト31を除去して、ガイドトラック付き基板11を
得る(同(6))。
着して、紫外光による全面密着露光を施した(同(b)
)のち、エツチングしてホトレジストパターンを作成す
る(同(C))。ついで、基板をエツチングしてグルー
プ状ガイド溝35を形成しく同(d))、最後にホトレ
ジスト31を除去して、ガイドトラック付き基板11を
得る(同(6))。
また、基板上にガイドトラックを形成するためのガイド
トラック形成層を形成し、これを利用して作成してもよ
い。第8図は、予め膜厚一様なガイドトラック形成層を
作成したのち、これを選択的にエツチングする方法を示
している。
トラック形成層を形成し、これを利用して作成してもよ
い。第8図は、予め膜厚一様なガイドトラック形成層を
作成したのち、これを選択的にエツチングする方法を示
している。
まず、ガイドトラック形成層37を設けた基板11上に
、ホトレジスト31を塗布しく第8図(a))、第7図
の(b)、(Q)と同様にしてホトレジストパターンを
作成する(第8図(b)、(Q))、ついで、ガイドト
ラック形成層37を選択的にエツチングしてグループ状
がガイド溝35を形成しく同(d))、最後にホトレジ
スト31を除去してガイドトラック付き基板を得る(同
(e))。ガイドトラック形成層は、Cr 、 N i
、 Cuなどの金属、5IOXI S x Nxg
A I Nt A 12021 T x OygTaN
、TiN、CrNなどの無機物などが用いられる。
、ホトレジスト31を塗布しく第8図(a))、第7図
の(b)、(Q)と同様にしてホトレジストパターンを
作成する(第8図(b)、(Q))、ついで、ガイドト
ラック形成層37を選択的にエツチングしてグループ状
がガイド溝35を形成しく同(d))、最後にホトレジ
スト31を除去してガイドトラック付き基板を得る(同
(e))。ガイドトラック形成層は、Cr 、 N i
、 Cuなどの金属、5IOXI S x Nxg
A I Nt A 12021 T x OygTaN
、TiN、CrNなどの無機物などが用いられる。
第4図は光磁気記録媒体の他の構成例を示し、ガイドト
ラックを有する基板ll上に1反射膜17、下地膜13
、垂直磁化膜15が順次形成されており、さらにその上
に透明保護板21が設けられている。
ラックを有する基板ll上に1反射膜17、下地膜13
、垂直磁化膜15が順次形成されており、さらにその上
に透明保護板21が設けられている。
この構成例ではレーザー光が透明保護板21側から照射
されるので、基板11としては不透明なものも使用可能
であり、既に説明した透明基板に加えて、シリコンなど
の単結晶材、ステンレス、アルミニウム、銅、ニッケル
、Ni−Cr。
されるので、基板11としては不透明なものも使用可能
であり、既に説明した透明基板に加えて、シリコンなど
の単結晶材、ステンレス、アルミニウム、銅、ニッケル
、Ni−Cr。
N1−Pなどの金属、多結晶シリコンなどが用いられる
。なお1本発明において透明、不透明とは、記録の書込
みや読出しに使用される光ビームの透光性を基準とする
ものである。透明保護板21としてはアクリル樹脂のよ
うな透明プラスチックから形成することができ、この構
成例では圧着溶融などの方法により直接に接合されてい
る。
。なお1本発明において透明、不透明とは、記録の書込
みや読出しに使用される光ビームの透光性を基準とする
ものである。透明保護板21としてはアクリル樹脂のよ
うな透明プラスチックから形成することができ、この構
成例では圧着溶融などの方法により直接に接合されてい
る。
第5図に示された光磁気記録媒体は、透明保護板21′
がスペーサ23を介して接合されている以外は第4図
に示したものと同様である。
がスペーサ23を介して接合されている以外は第4図
に示したものと同様である。
第6図に示された光磁気記録媒体は、透明な基板11上
に、下地膜13、垂直磁化膜15が順次設けられており
、さらにその上にガイドトラック溝35を介して反射膜
17および保護層25が設けられている。この光記録媒
体は、たとえば、支持体ll上に下地膜13および垂直
磁化膜15を順次形成したのち、垂直磁化膜15上に2
P法にてガイドトラック溝35を作成し、さらに反射膜
17および保護層25を形成することにより作成するこ
とができる。透明保護層25はエポキシ樹脂などのプラ
スチックなどから形成することができる。
に、下地膜13、垂直磁化膜15が順次設けられており
、さらにその上にガイドトラック溝35を介して反射膜
17および保護層25が設けられている。この光記録媒
体は、たとえば、支持体ll上に下地膜13および垂直
磁化膜15を順次形成したのち、垂直磁化膜15上に2
P法にてガイドトラック溝35を作成し、さらに反射膜
17および保護層25を形成することにより作成するこ
とができる。透明保護層25はエポキシ樹脂などのプラ
スチックなどから形成することができる。
また、2P法などによりガイドトラック溝を形成した保
護層(プラスチック板等)上に反射膜を形成し、これと
垂直磁化膜を形成した基板とを接合することによっても
作成することができる。
護層(プラスチック板等)上に反射膜を形成し、これと
垂直磁化膜を形成した基板とを接合することによっても
作成することができる。
本発明の光磁気記録媒体への記録、再生は従来と同じく
垂直磁化膜に変調または偏向されたレーザー光を照射し
て行うことができる。たとえば、垂直磁化膜に磁界の印
加下に選択的にレーザービームを照射し、照射部をキュ
ーリ一温度以上に加熱し保磁力を減少させて磁気反転さ
せ、記録ビットを形成して情報を記録する。この情報の
読み出しはレーザーの偏光を磁性膜に照射し、ファラデ
ー回転角の差を検出することにより行われる。
垂直磁化膜に変調または偏向されたレーザー光を照射し
て行うことができる。たとえば、垂直磁化膜に磁界の印
加下に選択的にレーザービームを照射し、照射部をキュ
ーリ一温度以上に加熱し保磁力を減少させて磁気反転さ
せ、記録ビットを形成して情報を記録する。この情報の
読み出しはレーザーの偏光を磁性膜に照射し、ファラデ
ー回転角の差を検出することにより行われる。
見匪夏涜困
本発明によれば、Fe原子の一部を2価のコバルトおよ
び4価のロジウム、セシウム、タングステンまたは6価
のモリブデンで置換したベキサゴナルマグネトプラムバ
イトからなる垂直磁化膜を用いることにより、高い保磁
力を維持して、光学磁気効果が大きく、キューリ一温度
を低下させることができ、記録、再生感度が向上すると
ともに、大きなメモリー安定性が得られる。さらに、F
eJJi子の一部を3価のGa。
び4価のロジウム、セシウム、タングステンまたは6価
のモリブデンで置換したベキサゴナルマグネトプラムバ
イトからなる垂直磁化膜を用いることにより、高い保磁
力を維持して、光学磁気効果が大きく、キューリ一温度
を低下させることができ、記録、再生感度が向上すると
ともに、大きなメモリー安定性が得られる。さらに、F
eJJi子の一部を3価のGa。
AQ、CrまたはRhで置換することにより。
保磁力を適度に大きくし、メモリー安定性をいっそう向
上することができる。
上することができる。
実施例1
前記第1表に示した組成となるように、MeCO,(M
e=Ba、Pb、Sr)とF e、co3. Co O
およびMa、Mbの酸化物をボールミルで4時間混合し
、1000℃で3時間1次仮焼した。得られた仮焼物を
再び粉砕して混合し1100℃で3時間2次仮焼した。
e=Ba、Pb、Sr)とF e、co3. Co O
およびMa、Mbの酸化物をボールミルで4時間混合し
、1000℃で3時間1次仮焼した。得られた仮焼物を
再び粉砕して混合し1100℃で3時間2次仮焼した。
さらに、この仮焼物を再度粉砕して1350℃で5時間
本仮焼して、本発明のへキサゴナルマグネトプラムバイ
ト(第1表の磁性体&1〜16)を得た。なお、この本
仮焼に際しては、スパッタリングに供するために、金型
を用い円板状ターゲットとした。
本仮焼して、本発明のへキサゴナルマグネトプラムバイ
ト(第1表の磁性体&1〜16)を得た。なお、この本
仮焼に際しては、スパッタリングに供するために、金型
を用い円板状ターゲットとした。
これらののターゲットを各々用いて、予め反射層として
Auを1000人形成し、この上に2000人のZnO
下地膜を形成したアルミノケイ酸ガラス基板上に、Ar
分圧2 Xl0−”T o r r、o2分圧3 Xl
0−’T o r r、基板温度500〜750℃の条
件でスパッタリングして膜厚200o〜soo。
Auを1000人形成し、この上に2000人のZnO
下地膜を形成したアルミノケイ酸ガラス基板上に、Ar
分圧2 Xl0−”T o r r、o2分圧3 Xl
0−’T o r r、基板温度500〜750℃の条
件でスパッタリングして膜厚200o〜soo。
人の垂直磁化膜を形成しし、780nmのレーザー光を
用いて磁気光学性能θF (deg/μl1l)、キュ
ーリ一温度Tc(’C)およびVSMにて保磁力Ha(
KOe)を測定した。これらの結果を第2表に示す。
用いて磁気光学性能θF (deg/μl1l)、キュ
ーリ一温度Tc(’C)およびVSMにて保磁力Ha(
KOe)を測定した。これらの結果を第2表に示す。
(以下余白)
第2表
×1)比較例である
:1K2) B a 0 ・6 [:c o、、2T
1l12F e、、、O,]
1l12F e、、、O,]
第1図は各置換金属についての、置換数Xと保磁力Hc
との関係を示すグラフである。 第2図は各置換金属についての、置換数Xとキューリ一
温度Tcとの関係を示すグラフである。 第3図、第4図、第5図および第6図は本発明の光磁気
記録媒体の構成例を示すグラフである。 第7図および第8図は、ガイドトラックの形成方法につ
いて説明する図である。 11・・・基板 13・・・下地膜工5・・・
垂直磁化膜 17・・・反射膜19・・・保護膜
21・・・透明保護板25・・・保護層 35・・・ガイドトラック溝 消3図 第5図
との関係を示すグラフである。 第2図は各置換金属についての、置換数Xとキューリ一
温度Tcとの関係を示すグラフである。 第3図、第4図、第5図および第6図は本発明の光磁気
記録媒体の構成例を示すグラフである。 第7図および第8図は、ガイドトラックの形成方法につ
いて説明する図である。 11・・・基板 13・・・下地膜工5・・・
垂直磁化膜 17・・・反射膜19・・・保護膜
21・・・透明保護板25・・・保護層 35・・・ガイドトラック溝 消3図 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(I) MeO・n〔Co_xMa_yFe_2−(2/3x+
m/3y)O_3〕(I)(式中、Me、Ma、x、y
、m、nはそれぞれ以下の通りである。 Me:Ba、Sr、Pbから選ばれる1種または2種以
上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のMoから選
ばれる1種または2種以上の金属 x:0<x≦0.5 y:0<y≦0.5 但し、0<x+y≦1.0 m:Maが4価のRh、W、Ceのときは4、Maが6
価のMoのときは6 n:5≦n≦6) で表わされるヘキサゴナルマグネトプラムバイト垂直磁
化膜を有することを特徴とする光磁気記録媒体。 2、一般式(II) MeO・n〔Co_xMa_yMb_zFe_z_−(
2/3x+m/3y+z)O_3〕(II)(式中、Me
、Ma、Mb、x、y、z、m、nはそれぞれ以下の通
りである。 Me:Ba、Sr、Pbから選ばれる1種または2種以
上の金属 Ma:4価のRh、Ce、W、および6価のMoから選
ばれる1種または2種以上の金属 Mb:Ga、Al、Cr、Rhから選ばれる1種または
2種以上の3価の金属 x:0<x≦0.5 y:0<y≦0.5 z:0<z≦0.5 但し、0<x+y+z≦1.0 m:Maが4価のRh、W、Ceのときは4、Maが6
価のMoのときは6 n:5≦n≦6) で表わされるヘキサゴナルマグネトプラムバイト垂直磁
化膜を有することを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180185A JPS61222045A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6180185A JPS61222045A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61222045A true JPS61222045A (ja) | 1986-10-02 |
Family
ID=13181559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6180185A Pending JPS61222045A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61222045A (ja) |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6180185A patent/JPS61222045A/ja active Pending
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