JPS61225637A - 高周波プラズマ発光分析装置 - Google Patents
高周波プラズマ発光分析装置Info
- Publication number
- JPS61225637A JPS61225637A JP6624285A JP6624285A JPS61225637A JP S61225637 A JPS61225637 A JP S61225637A JP 6624285 A JP6624285 A JP 6624285A JP 6624285 A JP6624285 A JP 6624285A JP S61225637 A JPS61225637 A JP S61225637A
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- Japan
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- chamber
- cleaning
- cleaning liquid
- liquid
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、チェンバの内壁の洗滌か十分に行なえる高周
波プラズマ発光分析装置に関する。
波プラズマ発光分析装置に関する。
従来の技術
本出願人が出願した実願昭５９−９８７５０号明細膏第
２図に示された高周波プラズマ発光分析装置等に用いら
れる試料霧化器においては、分析対象が変る毎に、球形
チェンバに設けられた洗滌注入ポートから洗滌液を注入
し、洗饋液注入ポートから噴出される洗滌液をチェンバ
の内壁面に沿って流下させ、これにより洗滌を行ない、
チェンバの底部に流下した洗滌液を吸出管により吸出し
、外部に排出している。
２図に示された高周波プラズマ発光分析装置等に用いら
れる試料霧化器においては、分析対象が変る毎に、球形
チェンバに設けられた洗滌注入ポートから洗滌液を注入
し、洗饋液注入ポートから噴出される洗滌液をチェンバ
の内壁面に沿って流下させ、これにより洗滌を行ない、
チェンバの底部に流下した洗滌液を吸出管により吸出し
、外部に排出している。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、前記装置のチェンバは球形状に形成され
ているため、その内壁面の傾斜面がゆるやかとなってお
シ、従って洗滌液注入ポートから注入された洗滌液がそ
の内置面に潜って流下する速度が遅く、洗滌効果が不十
分となる。このため、洗滌を十分に行なうためには多音
の洗滌液を流す必要があシ、洗滌液を吸出管により吸出
し、外部に排出する時間を含めて洗滌時間がかなシ長く
なる。
ているため、その内壁面の傾斜面がゆるやかとなってお
シ、従って洗滌液注入ポートから注入された洗滌液がそ
の内置面に潜って流下する速度が遅く、洗滌効果が不十
分となる。このため、洗滌を十分に行なうためには多音
の洗滌液を流す必要があシ、洗滌液を吸出管により吸出
し、外部に排出する時間を含めて洗滌時間がかなシ長く
なる。
そこで、本発明は、前記した従来技術の問題点にかんが
み、少量の洗滌液で、短かい洗滌時間にてチェンバの内
壁面の洗滌を十分に行なうことかできる高周波プラズマ
発光分析装置を提供することを目的とする。
み、少量の洗滌液で、短かい洗滌時間にてチェンバの内
壁面の洗滌を十分に行なうことかできる高周波プラズマ
発光分析装置を提供することを目的とする。
間珀点を解決するための手段
本発明は、前記目的を達成するため、なす形チェンバと
、前記チェンバの側面罠配設されたトーチポートと、前
記チェンバの側面であって、かつトーチポート配役位置
下方に設けられたネブライザと、前記チェンバの底部に
設けられた試料液体排出ポートと、前記チェンバの頭部
に装着されておシ、かつ試料液体導入管が固設されそし
て洗滌液液圧により押下される可動ポートと該可動ポー
トに洗滌液を供給するための洗滌液ポートとを有する試
料液体洗滌液導入部とを備える高周波プラズマ発光分析
装置にある。
、前記チェンバの側面罠配設されたトーチポートと、前
記チェンバの側面であって、かつトーチポート配役位置
下方に設けられたネブライザと、前記チェンバの底部に
設けられた試料液体排出ポートと、前記チェンバの頭部
に装着されておシ、かつ試料液体導入管が固設されそし
て洗滌液液圧により押下される可動ポートと該可動ポー
トに洗滌液を供給するための洗滌液ポートとを有する試
料液体洗滌液導入部とを備える高周波プラズマ発光分析
装置にある。
作用
洗滌液導入ポートよシ洗滌液を供給し、その液圧により
可動ポートを押下し、これから噴出される洗滌液をなす
形チェンバの内壁忙漬って流速を増しながら流下させて
洗滌を行なう。
可動ポートを押下し、これから噴出される洗滌液をなす
形チェンバの内壁忙漬って流速を増しながら流下させて
洗滌を行なう。
災施例
以下に、本発明の実施例を、その側断面を示す第１図に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
同図において、ｌはパイレックスガラス製のなす形チェ
ンバ、１αはその側面に設けられた係止片であり、２は
支持架台、２αはその側方に設けられた係止片であシ、
係止片１αと２αとにコイルばね３が装架され、なす形
チェンバ１を支持架台２に係止している。４はなす形チ
ェンバ１の側面上方に設けられたトーチポートであシ、
５は石英製のトーチで、冷却ガス導入管５αとプラズマ
ガス尋入管５ｂが設けられている。６はなす形チェンバ
１の底部に設けられた試料液体排出ポート、７は試料液
体である。８は試料液体導入孔８αとキャリアガス導入
孔８ｈとを有するパイレックスガラス製のネブライザで
、トーチポート４の配役位置の下方であって、なす形チ
ェンバ１の同一側面に設けられ、バッキング９を介して
装着されている。１０は三方弁で′ｊｂシ、これを介し
て可撓性の管状体１１がネブライザ８の試料液体導入孔
８αと試料液体排出ポート６との間に連接されている。
ンバ、１αはその側面に設けられた係止片であり、２は
支持架台、２αはその側方に設けられた係止片であシ、
係止片１αと２αとにコイルばね３が装架され、なす形
チェンバ１を支持架台２に係止している。４はなす形チ
ェンバ１の側面上方に設けられたトーチポートであシ、
５は石英製のトーチで、冷却ガス導入管５αとプラズマ
ガス尋入管５ｂが設けられている。６はなす形チェンバ
１の底部に設けられた試料液体排出ポート、７は試料液
体である。８は試料液体導入孔８αとキャリアガス導入
孔８ｈとを有するパイレックスガラス製のネブライザで
、トーチポート４の配役位置の下方であって、なす形チ
ェンバ１の同一側面に設けられ、バッキング９を介して
装着されている。１０は三方弁で′ｊｂシ、これを介し
て可撓性の管状体１１がネブライザ８の試料液体導入孔
８αと試料液体排出ポート６との間に連接されている。
１２はなす形チェンバ１の頭部に設けられた試料液体洗
滌液導入部で、試料液体導入管１３が固設されており、
かつ洗滌液の液圧により押下され、弁として機能するガ
ラス製の可動ポート１４と、この可動ポート１４を囲繞
するガラス製の洗滌液導入ポート１５との二重管構造に
より構成てれている。そして、可動ポート１４の側面上
部と洗滌液導入ポート１５の外周側面とにコイルはね１
６の両端が固設されてお夛、コイルばね１６の付勢力に
より可動ボー）１５を上方に押上げ、これを閉止してい
る。１７はクリップで、試料液体洗滌液導入部１２をな
す形チェンバ１に係止している。
滌液導入部で、試料液体導入管１３が固設されており、
かつ洗滌液の液圧により押下され、弁として機能するガ
ラス製の可動ポート１４と、この可動ポート１４を囲繞
するガラス製の洗滌液導入ポート１５との二重管構造に
より構成てれている。そして、可動ポート１４の側面上
部と洗滌液導入ポート１５の外周側面とにコイルはね１
６の両端が固設されてお夛、コイルばね１６の付勢力に
より可動ボー）１５を上方に押上げ、これを閉止してい
る。１７はクリップで、試料液体洗滌液導入部１２をな
す形チェンバ１に係止している。
次に本実施例装置の作用を説明する。まず、試料液体の
霧化について説明すると、試料液体導入管１３からなす
形チェンバ１に導入された試料液体７はその内壁に付着
することなく底部に落下する。キャリアガス導入孔８ｂ
からキャリアガスを導入すると、その負圧吸引作用によ
り試料液体７は試料液体排出ポート６から三方弁１０と
、管状体１１とを介し試料液体導入孔８ａに供給され、
ネブライザ８にｌｂｙ化され、なす形チェンバ１に導入
される。霧化された試料粒子のうち所定値以下の粒径を
持つものはトーチポート４を介してトーチ５に導入され
、トーチ５に発生されるプラズマ炎により加熱、励起さ
れ、その発光光を不図示の光度計によりスベクトル波長
とその強度を測定し、試料の定性、定量を行なう。所定
値以上の粒径を持ち、重い試料粒子は落下し、試料液体
排出ポート６を介してネブライザ８に送られ、ここで霧
化されてなす形チェンバ１に再び噴出される。
霧化について説明すると、試料液体導入管１３からなす
形チェンバ１に導入された試料液体７はその内壁に付着
することなく底部に落下する。キャリアガス導入孔８ｂ
からキャリアガスを導入すると、その負圧吸引作用によ
り試料液体７は試料液体排出ポート６から三方弁１０と
、管状体１１とを介し試料液体導入孔８ａに供給され、
ネブライザ８にｌｂｙ化され、なす形チェンバ１に導入
される。霧化された試料粒子のうち所定値以下の粒径を
持つものはトーチポート４を介してトーチ５に導入され
、トーチ５に発生されるプラズマ炎により加熱、励起さ
れ、その発光光を不図示の光度計によりスベクトル波長
とその強度を測定し、試料の定性、定量を行なう。所定
値以上の粒径を持ち、重い試料粒子は落下し、試料液体
排出ポート６を介してネブライザ８に送られ、ここで霧
化されてなす形チェンバ１に再び噴出される。
次に、なす形チェンバ１の内壁の洗滌作用について説明
すると、試料液体導入管１３からの試料液体の導入を停
止し、三方弁１０を切換え、ネブライザ８への流路を断
ち、点線で示す゛流路を形成させる。洗滌液導入ポート
１５から洗滌液を導入すると、その水圧により可動ポー
ト１４がコイルばね１６の付勢力に抗して点線で示すよ
うに試料液体導入ｖ１３と共に押下けられ、弁が開放さ
れる。これにより、洗滌液は可動ポート１４の周囲から
勢よく噴出され、実線で示すようになす形チェンバ１の
内壁に沿って流下して行く。なす形チェンバ１の内壁の
傾斜角は犬であるから、可動ポート１４から叩出される
洗滌液は流速を増しつつ流下して行き、これによりなす
形チェンバｌの内壁は十分に洗滌される。洗滌を終了し
た洗滌液は試料液体排出ポート６と、管状体１１と、三
方弁１０を介して外部に排出される。
すると、試料液体導入管１３からの試料液体の導入を停
止し、三方弁１０を切換え、ネブライザ８への流路を断
ち、点線で示す゛流路を形成させる。洗滌液導入ポート
１５から洗滌液を導入すると、その水圧により可動ポー
ト１４がコイルばね１６の付勢力に抗して点線で示すよ
うに試料液体導入ｖ１３と共に押下けられ、弁が開放さ
れる。これにより、洗滌液は可動ポート１４の周囲から
勢よく噴出され、実線で示すようになす形チェンバ１の
内壁に沿って流下して行く。なす形チェンバ１の内壁の
傾斜角は犬であるから、可動ポート１４から叩出される
洗滌液は流速を増しつつ流下して行き、これによりなす
形チェンバｌの内壁は十分に洗滌される。洗滌を終了し
た洗滌液は試料液体排出ポート６と、管状体１１と、三
方弁１０を介して外部に排出される。
なお、ネブライザ８と管状体１１も合わせて洗滌したい
場合には、三方弁１０の流路を実線で示すように切換え
、キャリアガス導入孔８αからキャリアガスを導入する
。キャリアガスの導入によるその負圧吸引作用により、
なす形チェンバ１の底部にある洗滌液は試料液体排出ポ
ート６から三方弁１０と、管状体１１とを介して試料液
体導入孔８αに導入され、霧状となってなす形チェンバ
１内に導入され、ネブライザ８と管状体１１が洗滌され
る。なお、この場合は、循環する洗滌液を外部に排出し
、新たな洗滌液を導入すると、一層洗滌効果が上がる。
場合には、三方弁１０の流路を実線で示すように切換え
、キャリアガス導入孔８αからキャリアガスを導入する
。キャリアガスの導入によるその負圧吸引作用により、
なす形チェンバ１の底部にある洗滌液は試料液体排出ポ
ート６から三方弁１０と、管状体１１とを介して試料液
体導入孔８αに導入され、霧状となってなす形チェンバ
１内に導入され、ネブライザ８と管状体１１が洗滌され
る。なお、この場合は、循環する洗滌液を外部に排出し
、新たな洗滌液を導入すると、一層洗滌効果が上がる。
発明の詳細
な説明したように本発明によると、なす形チェンバの頭
部に設けられた試料液体洗滌液導入部の洗滌液導入ポー
トを介して洗滌液を導入し、その液圧により可動ポート
を押下げ、可動ポートから噴出する洗滌液をなす形チェ
ンバの内壁に歯って流下させる構成となし、さらにチェ
ンバがなす形彫状をなしているためその内壁の傾斜角が
従来装置の球形チェンバのそれよシも大であるから、可
動ポートから噴出され、なす形チェンバの内壁に市って
流れる洗滌液の流速が従来装置による場合よりも一層大
となり、これにより洗滌効果を増大させることができる
。従って、従来装置のものに比し、少量の洗滌液で、か
つ短かい洗滌時間でなす形チェンバの内壁を十分に洗滌
することができる。また、なす形チェンバの頭部に設け
られた試料液体洗滌液導入部の試料液体導入管から流下
させる構成であるから、なす形チェンバの内壁忙試料液
体を付層させることなく、導入することができる。
部に設けられた試料液体洗滌液導入部の洗滌液導入ポー
トを介して洗滌液を導入し、その液圧により可動ポート
を押下げ、可動ポートから噴出する洗滌液をなす形チェ
ンバの内壁に歯って流下させる構成となし、さらにチェ
ンバがなす形彫状をなしているためその内壁の傾斜角が
従来装置の球形チェンバのそれよシも大であるから、可
動ポートから噴出され、なす形チェンバの内壁に市って
流れる洗滌液の流速が従来装置による場合よりも一層大
となり、これにより洗滌効果を増大させることができる
。従って、従来装置のものに比し、少量の洗滌液で、か
つ短かい洗滌時間でなす形チェンバの内壁を十分に洗滌
することができる。また、なす形チェンバの頭部に設け
られた試料液体洗滌液導入部の試料液体導入管から流下
させる構成であるから、なす形チェンバの内壁忙試料液
体を付層させることなく、導入することができる。
第１図は、本発明の実施例装置の側断面図である。
１はなす形チェンバ、４はトーチポート、６は試料液体
排出ポート、８はネブライザ、８αと８ｂはネブライザ
８の試料液体導入孔とキャリアガス導入孔、１１は管状
体、１２は試料液体洗滌液導入部、１４は可動ポート、
１５は洗滌液導入ポートを示す。
排出ポート、８はネブライザ、８αと８ｂはネブライザ
８の試料液体導入孔とキャリアガス導入孔、１１は管状
体、１２は試料液体洗滌液導入部、１４は可動ポート、
１５は洗滌液導入ポートを示す。
Claims (2)
- （１）、なす形チエンバと、 前記チエンバの側面に配設されたトーチポ ートと、 前記チエンバの側面であつて、かつトーチ ポート配設位置下方に設けられたネブライザと、 前記チエンバの底部に設けられた試料液体 排出ポートと、 前記チエンバの頭部に装着されており、か つ試料液体導入管が固設されそして洗滌液液圧により押
下される可動ポートと該可動ポートに洗滌液を供給する
ための洗滌液ポートとを有する試料液体洗滌液導入部と を備える高周波プラズマ発光分析装置。 - （２）、前記試料液体排出ポートとネブライザとを連接
する管状体を備える前記特許請求の範囲（１）記載の高
周波プラズマ発光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6624285A JPS61225637A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 高周波プラズマ発光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6624285A JPS61225637A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 高周波プラズマ発光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61225637A true JPS61225637A (ja) | 1986-10-07 |
| JPH0545140B2 JPH0545140B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=13310196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6624285A Granted JPS61225637A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 高周波プラズマ発光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61225637A (ja) |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP6624285A patent/JPS61225637A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0545140B2 (ja) | 1993-07-08 |
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